說(shuō)句實(shí)話(huà)，2023年那會(huì)兒，美國(guó)把光刻機(jī)這張牌甩出來(lái)的時(shí)候，確實(shí)有不少人慌了。

ASML的EUV光刻機(jī)被徹底禁售中國(guó)，DUV高端型號(hào)也收緊審批，連零部件、軟件控制模塊全數(shù)列入管制清單。

2023年3月，美國(guó)率先升級(jí)對(duì)華芯片出口管制，將限制重點(diǎn)指向7納米及更先進(jìn)的制程工藝。

隨后荷蘭迅速跟進(jìn)，于同年6月正式發(fā)布規(guī)定，明確自9月1日起，部分深紫外光刻機(jī)對(duì)華出口需申請(qǐng)?zhí)貏e許可。

2024年1月，荷蘭突然撤銷(xiāo)部分機(jī)型的出口許可，導(dǎo)致相關(guān)設(shè)備的零部件供應(yīng)與維修服務(wù)直接中斷。

這一刀砍得夠狠——不光是＂買(mǎi)不到新的＂，連＂舊的壞了也沒(méi)人修＂。當(dāng)時(shí)外界一片＂唱衰＂，斷言中國(guó)芯片技術(shù)要就此止步。

可誰(shuí)能想到，短短兩年，風(fēng)向徹底變了。

2025年3月27日，清華大學(xué)中國(guó)經(jīng)濟(jì)思想與實(shí)踐研究院院長(zhǎng)李稻葵，在中國(guó)公共外交協(xié)會(huì)舉辦的＂臨甲7號(hào)沙龍＂上公開(kāi)發(fā)聲。

他的判斷很明確：這些限制不可能阻擋中國(guó)科技進(jìn)步，反而可能會(huì)促進(jìn)。他還拿華為與DeepSeek的突破舉了例子，用來(lái)佐證自己的觀點(diǎn)。

他還有一句更直白的話(huà)——等我們搞出來(lái)了，你想賣(mài)我也不要了。

我們從光源說(shuō)起，EUV光刻機(jī)最核心的部件是什么？是13.5納米波長(zhǎng)的極紫外光源。

過(guò)去這東西被美國(guó)Cymer公司壟斷，全球就它一家能供貨，價(jià)格貴、交付慢，還屬于＂不可出口＂類(lèi)別。很長(zhǎng)時(shí)間里，國(guó)內(nèi)幾乎看不到國(guó)產(chǎn)替代的可能。

但封鎖反而把人逼出來(lái)了。2025年4月29日，中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所傳出消息：由前ASML研發(fā)科學(xué)家林楠領(lǐng)銜的團(tuán)隊(duì)，成功搭建出以國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)參數(shù)運(yùn)行的EUV光源平臺(tái)。

他們沒(méi)有走Cymer的CO?激光路線(xiàn)，而是用1微米固體脈沖激光器做驅(qū)動(dòng)。轉(zhuǎn)化率最高達(dá)到3.42%，已經(jīng)超過(guò)了荷蘭與瑞士同行的水平。

換句話(huà)說(shuō)，曾經(jīng)被認(rèn)為＂中國(guó)連光都發(fā)不出來(lái)＂的領(lǐng)域，現(xiàn)在光發(fā)出來(lái)了，效率還在往上爬。

更關(guān)鍵的是，這條技術(shù)路線(xiàn)完全繞開(kāi)了Cymer的專(zhuān)利體系。

2025年8月14日，在杭州城西科創(chuàng)大走廊的浙江大學(xué)成果轉(zhuǎn)化基地測(cè)試現(xiàn)場(chǎng)，全國(guó)首臺(tái)國(guó)產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)＂羲之＂啟動(dòng)應(yīng)用測(cè)試。

精度達(dá)到0.6納米，不過(guò)效率確實(shí)不高——逐點(diǎn)掃描，每幾個(gè)小時(shí)才能＂雕刻＂一片晶圓，遠(yuǎn)低于EUV光刻機(jī)。這名字取自書(shū)法家王羲之，只不過(guò)它的＂毛筆＂換成了電子束，在芯片上刻寫(xiě)電路。

電子束光刻機(jī)適合小批量高精度需求，如高端芯片的小批量生產(chǎn)、改進(jìn)迭代，以及掩模版制作等。

可在芯片研發(fā)初期的反復(fù)調(diào)試階段，它有不可替代的價(jià)值。過(guò)去這類(lèi)先進(jìn)設(shè)備受出口管制影響，國(guó)內(nèi)頂尖科研機(jī)構(gòu)長(zhǎng)期買(mǎi)不到。＂羲之＂的出現(xiàn)，等于給量子芯片與新型半導(dǎo)體的研發(fā)打通了一條命脈。

還有第三條路——納米壓印。同樣是2025年8月，璞璘科技向客戶(hù)交付了中國(guó)首臺(tái)半導(dǎo)體級(jí)步進(jìn)式納米壓印光刻系統(tǒng)，線(xiàn)寬控制在10納米以下，核心指標(biāo)超越日本佳能同類(lèi)產(chǎn)品。

納米壓印跟EUV完全是兩個(gè)方向，它不靠光學(xué)曝光，像蓋章一樣把電路圖案壓到晶圓上，理論上可突破3納米甚至2納米的圖形尺寸限制，在存儲(chǔ)芯片與先進(jìn)封裝領(lǐng)域已經(jīng)展現(xiàn)出實(shí)際應(yīng)用潛力。

三條技術(shù)路線(xiàn)，兩年之內(nèi)輪番登場(chǎng)。

2025年9月，第二十五屆中國(guó)國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)上，上海微電子展臺(tái)首次公開(kāi)亮相了EUV光刻機(jī)參數(shù)圖。

國(guó)金證券評(píng)價(jià)稱(chēng)，國(guó)產(chǎn)EUV進(jìn)入原理機(jī)搭建階段，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)進(jìn)入爆發(fā)元年。

上海微電子還提交了多項(xiàng)EUV關(guān)鍵技術(shù)專(zhuān)利，明確規(guī)劃2026年實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)小批量交付。

這邊突破不斷，那邊＂封鎖者＂自己倒先感受到了壓力。

拿ASML來(lái)說(shuō)，2024年全年凈銷(xiāo)售額282.63億歐元，創(chuàng)下歷史新高。

其中中國(guó)市場(chǎng)貢獻(xiàn)了101.95億歐元，占比36.1%，是ASML全球最大的單一市場(chǎng)。

但這塊蛋糕正在縮水——2025年，ASML中國(guó)市場(chǎng)全年凈系統(tǒng)銷(xiāo)售額占比降至33%。ASML預(yù)計(jì)2026年來(lái)自中國(guó)市場(chǎng)的營(yíng)收占比將在20%左右。

再拿應(yīng)用材料來(lái)說(shuō)，2024年第四財(cái)季營(yíng)收創(chuàng)下70.5億美元的歷史新高，但中國(guó)大陸營(yíng)收占比已經(jīng)從巔峰時(shí)的40%以上降至30%。

原因很簡(jiǎn)單——不是中國(guó)不想買(mǎi)，是政策不讓賣(mài)。這中間損失的市場(chǎng)份額，以后恐怕很難再拿回來(lái)。

ASML首席執(zhí)行官傅恪禮2025年底接受采訪(fǎng)時(shí)，說(shuō)了一段頗有深意的話(huà)。他承認(rèn)目前對(duì)華出口的設(shè)備比最新技術(shù)落后了＂八代＂，差距超過(guò)十年。

但他緊接著發(fā)出警告：中國(guó)已經(jīng)在很多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)自主研發(fā)，假以時(shí)日，他們甚至可能反過(guò)來(lái)向我們出口這些產(chǎn)品。

這話(huà)從ASML掌門(mén)人嘴里說(shuō)出來(lái)，份量不言而喻。

據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)2026年1月數(shù)據(jù)，國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金三期首期930億元募資已全部到位，重點(diǎn)投向光刻機(jī)及核心零部件。

2026年3月底的SEMICON China 2026展會(huì)上，超過(guò)1500家展商參與，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈從＂單點(diǎn)突破＂走向＂網(wǎng)狀覆蓋＂的趨勢(shì)已經(jīng)非常明顯。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示，中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備整體國(guó)產(chǎn)使用率已從2025年的25%提升至35%，28納米及以上成熟制程國(guó)產(chǎn)設(shè)備覆蓋率突破了80%。

國(guó)產(chǎn)28納米浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)已完成百片晶圓流片驗(yàn)證，國(guó)產(chǎn)化率突破85%，年內(nèi)啟動(dòng)首批次商業(yè)化交付。

回頭再看李稻葵那句話(huà)，放在今天的語(yǔ)境下，它早已不是一時(shí)氣話(huà)。

封鎖鎖得住設(shè)備，鎖不住人的腦子。當(dāng)中國(guó)的光刻設(shè)備一臺(tái)臺(tái)走出實(shí)驗(yàn)室、走上產(chǎn)線(xiàn)，等ASML再想把設(shè)備賣(mài)回來(lái)的那天，買(mǎi)家恐怕已經(jīng)不在那兒了。

市場(chǎng)不等人。技術(shù)也不等人。