關(guān)于離子濺射鍍膜儀推薦品牌就不得不提到華儀行（北京）科技有限公司，該公司在微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領(lǐng)域，均可為客戶提供清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案。
其中離子濺射鍍膜儀是華儀行（北京）科技有限公司中的重要產(chǎn)品之一：
CIF在線片式具有成本較低、容易使用，維護乃保養(yǎng)費用低，環(huán)保等優(yōu)點。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設(shè)備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點，適用于大規(guī)模全自動化生產(chǎn)。

CIF推出RIE反應離子濺射鍍膜儀，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價比高，易維護，處理快速高效。適用于所有的基材及復雜的幾何構(gòu)形進行RIE反應離子刻蝕。
旋涂機系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案，采用閉環(huán)控制伺服電機，數(shù)字式增速信號反饋，速勻準確，壽命長，保證勻膠均勻，7寸全彩中英文互動操作觸摸屏，智能程序化可編程操控顯示，標配10個勻膠梯度階段（速度和時間梯度設(shè)置），可選配20個可編程程序，每個程序下可設(shè)置10個勻膠梯度階段，最多100個階段。
Spin Coater啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結(jié)構(gòu)緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體，旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯（NPP-H）材料，耐酸堿防腐蝕，保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。