一、摘要（結(jié)論先行）

氧化釔（Y?O?）是當(dāng)前等離子刻蝕腔體最關(guān)鍵的防護(hù)材料之一。它在高能離子與鹵素等離子體環(huán)境中具有極高化學(xué)穩(wěn)定性與耐沖蝕性，能顯著延長(zhǎng)設(shè)備維護(hù)周期、降低粒子污染、提升產(chǎn)能稼動(dòng)率。在高端邏輯與存儲(chǔ)廠（7 nm 以下節(jié)點(diǎn)）中，Y?O? 涂層已逐步替代傳統(tǒng)鋁陽(yáng)極氧化件，成為設(shè)備性能和工藝良率的重要支撐材料。

二、適用場(chǎng)景 / 邊界

維度

工藝類型

高密度等離子刻蝕（ICP/CCP），CF?、SF?、O?、Cl?、HBr 等介質(zhì)

設(shè)備部位

腔體內(nèi)壁、liner、baffle、showerhead、ESC 外緣保護(hù)件

主要作用

抑制基體（鋁、石英等）被刻蝕濺射；降低金屬/鹵素污染

導(dǎo)入邊界

不涉及電氣功能部件，僅限暴露等離子體區(qū)域的防護(hù)件

三、技術(shù)判斷與機(jī)理說(shuō)明 1、為什么選 Y?O?

• 高化學(xué)穩(wěn)定性：Y–O 鍵能高，對(duì) F、Cl 等鹵素化學(xué)侵蝕極不敏感。

• 低粒子生成傾向：致密涂層不易剝落或生成氧化/氟化碎屑。

• 熱穩(wěn)定性強(qiáng)：在 1000 °C 以上仍保持結(jié)構(gòu)完整，不易熱裂。

項(xiàng)目

鋁陽(yáng)極氧化

氧化釔（Y?O?）

化學(xué)穩(wěn)定性

中等，易被鹵素腐蝕

極高，幾乎不反應(yīng)

粒子污染風(fēng)險(xiǎn)

易形成 AlF? 剝落物

極低

腔體壽命

數(shù)百小時(shí)級(jí)

千小時(shí)級(jí)

成本

較高，但生命周期成本更優(yōu)

四、價(jià)值邏輯（對(duì) PM 的關(guān)鍵）

維度

影響點(diǎn)

產(chǎn)品經(jīng)理關(guān)注點(diǎn)

良率

減少粒子缺陷（killer defects）

產(chǎn)品差異化賣點(diǎn)：粒子降低 × %

稼動(dòng)率

延長(zhǎng) PM 間隔

客戶 OEE 改善數(shù)據(jù)可量化

材料替代

與 YF?、YAlO?、Al?O? 形成性能梯度

建立產(chǎn)品組合結(jié)構(gòu)（基礎(chǔ) / 高端）

供應(yīng)鏈

原粉、造粒、噴涂一體化能力

評(píng)估供應(yīng)鏈成熟度與國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)度

法規(guī)與潔凈度

高純粉體制程需符合 SEMI C10 / C79

作為認(rèn)證壁壘與競(jìng)爭(zhēng)力維度

五、從產(chǎn)品視角的「選材三步法」

1、從純度走向結(jié)構(gòu)一致性
不僅看“5N”純度，更要驗(yàn)證雜質(zhì)譜（Na/K/Cl/F/C 等）與批間穩(wěn)定性。

2、從成分走向可噴性
粉體需噴霧造粒+燒結(jié)形成高球形度團(tuán)聚體；否則無(wú)法穩(wěn)定送粉或熔融。

3、從粉到涂層的系統(tǒng)驗(yàn)證
看最終涂層顯微結(jié)構(gòu)、孔隙率、硬度、結(jié)合強(qiáng)度及等離子耐蝕性數(shù)據(jù)。

六、PM 視角的關(guān)鍵指標(biāo)（用于產(chǎn)品定義或招標(biāo)）

類別

指標(biāo)

含義

粉體

粒度分布 D10/D50/D90、一致性 Cpk、球形度

決定可噴性與沉積效率

雜質(zhì)

Na/K/Fe/Cl/F/C/H?O 水平

決定腐蝕與污染風(fēng)險(xiǎn)

涂層

孔隙率、顯微硬度、結(jié)合強(qiáng)度

影響耐蝕性與壽命

可靠性

粒子生成率、PM 間隔提升比

反映客戶真實(shí)收益

七、風(fēng)險(xiǎn)與導(dǎo)入策略

風(fēng)險(xiǎn)

對(duì)策

空心顆粒 / 粉體裂解

造成噴涂孔隙高、易剝落

要求 SEM 驗(yàn)收 + TGA 確認(rèn)脫脂完全

批間差異

粒度/流動(dòng)性波動(dòng)

供應(yīng)商提供批次 Cpk 報(bào)告

腔體邊角磨損

局部濺蝕加劇

優(yōu)化厚度分布與過(guò)渡層設(shè)計(jì)

鹵素侵蝕溝槽

雜質(zhì)或晶界弱化

控制鹵素含量 ≤ 檢出限

成本壓力

原料昂貴

強(qiáng)調(diào) LCC 優(yōu)勢(shì)與 PM 間隔改善ROI

八、供應(yīng)鏈與市場(chǎng)趨勢(shì)（PM 重點(diǎn)）

• 國(guó)際格局：Tosoh、H.C. Starck、Showa Denko 為高端粉體主力；日系在制粉與涂層一致性上領(lǐng)先。

• 國(guó)產(chǎn)替代：國(guó)內(nèi)部分企業(yè)已掌握噴霧造粒與致密化工藝，但在雜質(zhì)控制與批間一致性上仍需爬坡。

• 應(yīng)用延伸：除刻蝕腔體外，Y?O? 還用于 MOCVD 腔體防護(hù)、PVD 靶材添加劑、CMP 拋光助劑等。

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