關于舉辦第二十期中國表面工程云論壇的通知

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組織機構(gòu)

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論壇時間

2025年12月5日19:30~21:10

03

參會方式

可通過以下方式線上參會

1、微信視頻號（可點擊下方小程序進行預約）

2、B站觀看鏈接：

3、九州云播鏈接：

04

相關費用

論壇免收注冊費

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特邀報告

報告專家

江亮 ， 西南交通大學研究員、博士生導師，入選國家級青年人才、中國科協(xié)青年托舉，主要從事原子級拋光研究。以第一/通訊作者發(fā)表SCI論文55篇；以第一發(fā)明人授權(quán)中國發(fā)明專利17項、美國發(fā)明專利1項。榮獲教育部自然科學一等獎（排名4/8）、浙江省科技進步一等獎（排名8/12）、上銀優(yōu)秀機械博士論文佳作獎。

報告時間

2025年12月5日 19：30-19：55

報告題目

銅化學機械拋光原子級材料去除機理研究

內(nèi)容摘要

銅化學機械拋光（CMP）對芯片互連制造至關重要。本研究通過液下原子力顯微鏡（AFM）模擬CMP，研究SiO2磨粒與銅表面的微觀相互作用。在弱氧化條件下，SiO2磨粒與Cu2O之間產(chǎn)生高摩擦，生成的局部摩擦熱可能會影響化學反應的均勻性，進而惡化表面質(zhì)量；同時，去除的Cu2O會吸附在SiO2磨粒上，進而造成微劃痕。因此，建議采用強氧化作用。在強氧化條件下，機械作用對化學反應的影響較小，材料去除可以分為兩個相對獨立的階段：首先，形成CuO鈍化膜作為去除前驅(qū)體，同時抑制過度腐蝕；隨后，絡合作用軟化鈍化膜，在弱機械作用下實現(xiàn)材料去除。在此基礎上，利用AFM實現(xiàn)了銅的原子級材料去除，統(tǒng)計結(jié)果顯示平均約六次往復滑動可去除一層銅原子。在機理指導下，采用CMP實現(xiàn)了超光滑、近無損傷的銅表面，其表面粗糙度Sa為0.1 nm（10 μm×10 μm）。

報告專家

高尚，大連理工大學教授、博士生導師。擔任中國機械工程學會半導體裝備分會委員、《J. Adv. Manuf. Sci. Technol.》青年編委、《金剛石與磨料磨具工程》編委、《機械工程學報》青年編委等。主持國家重點研發(fā)計劃課題、國家自然基金面上項目等20余項。一作/通訊作者發(fā)表SCI論文60余篇，ESI高被引論文4篇；出版英文專著章節(jié)2部；授權(quán)發(fā)明專利46項。獲教育部技術(shù)發(fā)明一等獎、中國機械工業(yè)科技獎一等獎與二等獎、河南省科技進步二等獎。

報告時間

2025年12月5日 19：55-20：20

報告題目

面向晶圓減薄的軟磨料彈性磨拋輪超低損傷加工技術(shù)

內(nèi)容摘要

針對傳統(tǒng)金剛石砂輪減薄磨削晶圓過程中，超硬磨粒以純機械作用方式去除材料產(chǎn)生嚴重損傷的難題，報告提出采用軟磨料彈性磨拋輪、利用機械化學復合作用實現(xiàn)晶圓超低損傷磨削加工的新工藝。介紹了機械化學復合作用條件下晶圓超低損傷磨削表面的形成機理，開發(fā)出軟磨料彈性磨拋輪及其加工工藝，實現(xiàn)晶圓表面粗糙度Ra＜0.5 nm、亞表面損傷深度＜15 nm的超低損傷磨削加工。

報告專家

程潔，中國礦業(yè)大學（北京）教授/博導，中國科協(xié)第 “青年人才托舉工程”入選者、“溫詩鑄楓葉獎-青年學者獎”獲得者。從事先進集成電路化學機械拋光技術(shù)、磨蝕技術(shù)、煤電子制造技術(shù)等。發(fā)表SCI論文60余篇，出版英文專著1部，摩擦學教材1部。主持國家自然科學基金面上/青年項目3項、北京市自然科學基金面上項目等課題。

報告時間

2025年12月5日 20：20-20：45

報告題目

磨蝕調(diào)控在高效率、原子級光滑的化學機械拋光中的應用

內(nèi)容摘要

當前亟需開展高端芯片復雜結(jié)構(gòu)異質(zhì)材料表/界面超高效、原子級光滑的化學機械拋光加工理論和方法前沿性研究。而拋光去除過程中，高效率和低缺陷的表面加工通常難以兼顧，從摩擦學角度，其核心科學問題在于對晶圓表/界面腐蝕、磨損及其交互作用進行精準調(diào)控，以達到兼顧高效率材料去除和低缺陷表/界面質(zhì)量的加工目標。

報告專家

肖峻峰，華中科技大學機械科學與工程學院副教授、博士生導師，研究方向為毛細流動、超精密加工，入選湖北省人才計劃，發(fā)表一作/通訊論文30余篇，授權(quán)發(fā)明專利10余項，獲省部級科技獎2項、國家級教學成果獎1項。

報告時間

2025年12月5日 20：45-21：10

報告題目

單晶硅激光拋光與修復

內(nèi)容摘要

面向單晶硅光學元件的超精密切削在表面殘余切削紋、在亞表面引入晶體損傷與缺陷，激光拋光利用毛細流動降低表面粗糙度、誘導硅單晶生長修復亞表層損傷，實現(xiàn)單晶硅的亞納米表面粗糙度、近零亞表層損傷超精密加工。

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聯(lián)系方式

官方郵箱：

cse1988@csejournal.com

官方微信公眾號：

中國表面工程

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關于中國表面工程云論壇的介紹

表面工程作為裝備制造業(yè)中四大重要基礎工藝之一，也是提升機械制造整體水平的核心技術(shù)之一，對實現(xiàn)制造強國戰(zhàn)略具有重要的支撐作用。為助力我國表面工程學術(shù)研究的發(fā)展，搭建表面工程領域高水平學術(shù)交流平臺，同時進一步加強編輯與科研人員的交流，增進科研人員對期刊的了解，推進期刊高質(zhì)量發(fā)展，中國機械工程學會、中國機械工程學會表面工程分會、中國機械工程學會再制造工程分會、中國機械工程學會摩擦學分會、中國電工技術(shù)學會電子束離子束專業(yè)委員會、中國腐蝕與防護學會磨蝕與防護技術(shù)專業(yè)委員會、中國機械工程學會機械科技信息分會共同主辦中國表面工程云論壇，云論壇每月舉辦一次。

《中國表面工程》編輯部

2025-12-03

責任編輯：李 娜

責任校對： 金 程

審 核： 張 強

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