ASML 2025年總凈銷售額為327億歐元，其中來自亞洲的營收占比過半。

今日，ASML發(fā)布2025年度業(yè)績報(bào)告。財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示，ASML 2025年總凈銷售額為327億歐元，其中來自亞洲的營收為281億歐元；來自美國的營收為41億歐元；來自歐洲、中東和非洲地區(qū)的營收為5億歐元。毛利率為52.8%，凈利潤為96億歐元；研究與開發(fā)費(fèi)用支出為47億歐元；系統(tǒng)銷量為535臺(tái)，包含48臺(tái)極紫外光刻系統(tǒng)、279臺(tái)深紫外光刻系統(tǒng)以及208臺(tái)計(jì)量和監(jiān)測系統(tǒng)。

ASML執(zhí)行副總裁兼首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森表示：對ASML而言，這又是碩果累累的一年。正如預(yù)期，在人工智能持續(xù)增長的推動(dòng)下，銷售額增長了15.6%。得益于 TWINSCAN NXE:3800E 的強(qiáng)勁銷售， EUV 業(yè)務(wù)表現(xiàn)良好。這款 NXE 系列的最新產(chǎn)品廣受客戶好評(píng)，因?yàn)樗茱@著提高生產(chǎn)效率，幫助客戶實(shí)現(xiàn)更高的晶圓產(chǎn)能。

ASML還進(jìn)行了大量的 TWINSCAN NXE:3800E 現(xiàn)場升級(jí)，導(dǎo)致 EUV 系統(tǒng)收入的很大一部分轉(zhuǎn)移到了已安裝基礎(chǔ)收入。在中國的DUV業(yè)務(wù)表現(xiàn)強(qiáng)于預(yù)期，抵消了中國以外地區(qū)DUV業(yè)務(wù)略低于預(yù)期的影響，因?yàn)橹袊酝獾闹髁鳂I(yè)務(wù)依然疲軟。

2025年的關(guān)鍵動(dòng)態(tài)

羅杰·達(dá)森表示，今年有三個(gè)重要因素。首先，部分客戶明顯感到不確定性加劇，他們擔(dān)心所需設(shè)備的成本可能會(huì)大幅上漲，因此對投資建設(shè)大型制造基地持謹(jǐn)慎態(tài)度，這是可以理解的。 其次，雖然人工智能相關(guān)需求持續(xù)激增，但2025年上半年其他領(lǐng)域的需求相對低迷。 最終，抓住人工智能帶來的機(jī)遇的客戶數(shù)量開始增加。

在研發(fā)方面，ASML正在利用人工智能來縮短新產(chǎn)品和服務(wù)的上市時(shí)間；人工智能也在多個(gè)運(yùn)營領(lǐng)域、客戶支持以及公司的各項(xiàng)職能（包括財(cái)務(wù)、IT、人力資源、法律和合規(guī)）方面為公司提供幫助。

展望2026年，ASML預(yù)計(jì)總凈銷售額將在340億歐元至390億歐元之間。預(yù)計(jì)毛利率在51%至53%之間，同時(shí)年化有效稅率約為17%（基于美國通用會(huì)計(jì)準(zhǔn)則）。

受先進(jìn)邏輯和DRAM市場發(fā)展趨勢的影響，EUV光刻業(yè)務(wù)的收入將在2026年顯著增長。對于非EUV光刻業(yè)務(wù)，預(yù)計(jì)2026年的收入將與2025年持平?？偠灾趶?qiáng)勁的市場動(dòng)態(tài)和產(chǎn)品與服務(wù)的穩(wěn)健戰(zhàn)略路線圖的支撐下，ASML的長期前景依然穩(wěn)健。

日前，在其圣地亞哥研發(fā)中心取得了一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)突破：他們已成功研發(fā)出能穩(wěn)定輸出 1,000 瓦（1kW）功率的極紫外（EUV）光源系統(tǒng)。據(jù)預(yù)測，到 2030 年，這項(xiàng)技術(shù)將使單臺(tái)光刻機(jī)的芯片產(chǎn)出量提升 50%。ASML 負(fù)責(zé) EUV 光源技術(shù)的首席專家邁克爾·珀維斯（Michael Purvis）明確表示，這并非實(shí)驗(yàn)室里的短暫演示，而是一套能在客戶量產(chǎn)環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行的成熟系統(tǒng)。

ASML通過強(qiáng)化其光刻機(jī)中最復(fù)雜的部件之一—— 錫滴發(fā)生器，實(shí)現(xiàn)了功率提升。為產(chǎn)生13.5納米波長的光線，ASML設(shè)備會(huì)向腔室內(nèi)噴射熔融錫滴流，再由大功率二氧化碳激光將其加熱成等離子體。在這種超高溫物質(zhì)狀態(tài)下，錫滴溫度超過太陽表面并激發(fā)出EUV光。這些光線由蔡司集團(tuán)提供的精密光學(xué)設(shè)備收集，導(dǎo)入光刻機(jī)用于芯片光刻。

本次公布的核心技術(shù)突破包括：將錫滴噴射速率提升一倍，達(dá)到每秒約10萬滴；并采用兩束短脈沖激光將其激發(fā)為等離子體，而現(xiàn)有設(shè)備僅使用單束塑形脈沖。

科羅拉多州立大學(xué)教授Jorge J. Rocca表示：“這極具挑戰(zhàn)性，因?yàn)樾枰莆斩囗?xiàng)技術(shù)與工藝。其實(shí)驗(yàn)室專注激光技術(shù)研究，并培養(yǎng)了多名ASML科學(xué)家。能實(shí)現(xiàn)1千瓦功率，這一成就相當(dāng)驚人。”

珀維斯補(bǔ)充道，ASML認(rèn)為實(shí)現(xiàn)1000瓦的技術(shù)方案將為未來持續(xù)升級(jí)打開空間：“我們已看到通往1500瓦的清晰路徑，從物理原理上看，達(dá)到2000瓦不存在根本性障礙?！盇SML 此時(shí)披露這一進(jìn)展，也與全球競爭環(huán)境有關(guān)。盡管 ASML 是目前市場上唯一的商業(yè)化 EUV 供應(yīng)商，但地緣政治和供應(yīng)鏈安全考量正在催生新的挑戰(zhàn)者。

在美國，Substrate 和 xLight 兩家初創(chuàng)公司已籌集數(shù)億美元，致力于開發(fā)本土替代方案。其中，xLight 更獲得了特朗普政府的資金支持，試圖利用粒子加速器產(chǎn)生更短波長的 X 射線進(jìn)行光刻。與此同時(shí)，中國在出口管制壓力下，也在加速推進(jìn)本土光刻機(jī)研發(fā)。

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