眾所周知，在光刻機(jī)上，我們的國產(chǎn)技術(shù)和國際頂尖水平，差距過于巨大，導(dǎo)致很多人都不太相信這個事實，說是假消息，主打一個“掩耳盜鈴”。

不過，雖然光刻機(jī)技術(shù)相差巨大，但在與光刻機(jī)對應(yīng)的另外一項核心技術(shù)上，我們卻達(dá)到了全球頂尖水平，那就是刻蝕機(jī)。

先說技術(shù)這一塊，國產(chǎn)刻蝕機(jī)的技術(shù)，早就達(dá)到了3nm，并且進(jìn)入了臺積電的供應(yīng)鏈，據(jù)稱臺積電即將量產(chǎn)的2nm芯片生產(chǎn)線，也有國產(chǎn)的刻蝕機(jī)。

而國內(nèi)刻蝕機(jī)最強(qiáng)的廠商，就是中微公司，一家由尹志堯博士于2004年回歸創(chuàng)辦的企業(yè)，短短20來看，就從0起步，做到全球頂尖。

不吹牛，從行業(yè)來看，中微的刻蝕機(jī)，是全球最頂尖的企業(yè)之一，不說比國外技術(shù)強(qiáng)多少，但至少是同一水平線的，并不落后，這也是為何美國不對中國禁售刻蝕機(jī)的原因，因為中國自己有，禁了毫無意義，反而影響到美國企業(yè)的銷量了。

這幾年，隨著國產(chǎn)替代加速，國產(chǎn)刻蝕機(jī)本來就技術(shù)強(qiáng)，自然是大爆發(fā)了。

近日，中微的業(yè)績數(shù)據(jù)顯示，2025年營收124億元左右，同比增長了36.62%，而凈利潤高達(dá)21.11億元，同比增長了30.69%。

為何增長這么猛，中微自己就說了，因為刻蝕機(jī)設(shè)備獲得了國內(nèi)，國際客戶的更多認(rèn)可，很明顯，不僅國內(nèi)廠商在使用，國際廠商也開始采用了嘛。

值得一提的，中微公司不僅有刻蝕機(jī)，還有薄膜沉積設(shè)備（LPCVD/ALD），還有EPI（外延）設(shè)備和用于化合物半導(dǎo)體的MOCVD設(shè)備。

2025年，刻蝕機(jī)收入約98.32億元，占比雖然高達(dá)80%左右，但像其它設(shè)備也有了約20%的收入，且增長非常快，像LPCVD/ALD增長了224.23%，接下來估計也會大爆發(fā)。

此外，中微表示，2025年的研發(fā)投入高達(dá)37.44億元，同比增長52.65%，占營收比例超過30%，是國內(nèi)所有芯片設(shè)備企業(yè)中，占比較高的，遠(yuǎn)超行業(yè)水平。

從中微的這些數(shù)據(jù)，可以看出來，并不是中國企業(yè)做不好芯片設(shè)備，只要肯努力，肯投入，敢于去拼，一樣不比國外的差。

而只要其它芯片設(shè)備企業(yè)，也都像中微一樣，達(dá)到了3nm，甚至2nm水平，那我們還怕什么卡脖子，那時候我們都有實力去卡美國的脖子了。