散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導(dǎo)讀

據(jù)《日經(jīng)亞洲》所發(fā)布的新聞報(bào)道稱，中國(guó)到底能否制造出屬于自己國(guó)家的ASML？

針對(duì)這個(gè)問題，引業(yè)內(nèi)人士的分析指出，美國(guó)官員對(duì)于中國(guó)芯片實(shí)力的認(rèn)知顯得過于天真，中國(guó)多年前就已經(jīng)囤積了許多來自于ASML的制造設(shè)備，因此不怕美國(guó)的制裁。這些設(shè)備給中國(guó)企業(yè)創(chuàng)造了機(jī)會(huì)，讓中國(guó)企業(yè)有足夠的時(shí)間去研發(fā)光刻機(jī)技術(shù)。

02

設(shè)備限制

對(duì)于除美國(guó)企業(yè)外的其他國(guó)際供應(yīng)商，美國(guó)設(shè)置了最低限度的設(shè)備出口條例。依靠該條例，美國(guó)可以對(duì)其他國(guó)家的芯片供應(yīng)商實(shí)施長(zhǎng)臂管轄，一旦這些供應(yīng)商的設(shè)備中使用了特定比例的美國(guó)技術(shù)，美國(guó)商務(wù)部就可以對(duì)整個(gè)設(shè)備的出口進(jìn)行封鎖。

這個(gè)最低限度通常設(shè)置為含有25%的美國(guó)技術(shù)，而ASML的EUV光刻機(jī)中所使用的技術(shù)大約90%都來源于歐洲，所以EUV光刻機(jī)在明面上并不符合美國(guó)最低限度的出口限制。

但是EUV光刻機(jī)的部分光源制造需要依靠美國(guó)圣迭戈的企業(yè)完成，這也給了美國(guó)收緊出口管制條例的理由。

中國(guó)企業(yè)在2018年向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，這臺(tái)設(shè)備在國(guó)際層面是合法合規(guī)的采購(gòu)訂單，但是美國(guó)以國(guó)家安全為由，禁止ASML向中國(guó)交付這臺(tái)具有美國(guó)企業(yè)參與的先進(jìn)設(shè)備。2020年，荷蘭政府迫于美國(guó)政府的壓力，撤銷了ASML向中國(guó)企業(yè)交付產(chǎn)品的許可。

從2020年開始，中國(guó)企業(yè)便不再被允許獲得ASML的EUV設(shè)備。哪怕是韓國(guó)SK海力士在中國(guó)無錫的合資工廠，依然不被允許獲得該設(shè)備。

雖然先進(jìn)光刻機(jī)被封鎖了，但是中國(guó)企業(yè)還可以訂購(gòu)到比EUV差一點(diǎn)的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)。

根據(jù)ASML首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森在2024年所發(fā)布的2023年財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示，2023年ASML的中國(guó)區(qū)銷售業(yè)務(wù)強(qiáng)勁，公司向中國(guó)企業(yè)交付了許多未被美國(guó)限制的DUV光刻機(jī)，這些光刻機(jī)大多數(shù)都是中國(guó)企業(yè)在2023之前大量采購(gòu)的產(chǎn)品。

這些來自于ASML的DUV光刻機(jī)被中國(guó)企業(yè)應(yīng)用到了成熟芯片的制造當(dāng)中，但是中國(guó)企業(yè)卻拿著這些設(shè)備造出來了先進(jìn)芯片。

于是美國(guó)再次收緊制裁條例，ASML在未來將不會(huì)被允許將先進(jìn)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，如NXT：2000i及以上的設(shè)備交付給中國(guó)大陸企業(yè)，甚至中國(guó)大陸的部分先進(jìn)工廠還無法獲得NXT：1970i和NXT：1980i這兩個(gè)水平更差一些的設(shè)備。

03

突破制裁

據(jù)ASML前CEO彼得·溫寧克在接受采訪時(shí)表示，美國(guó)對(duì)中國(guó)的制裁，讓ASML失去了一個(gè)潛在的增長(zhǎng)市場(chǎng)，這對(duì)ASML來說是一個(gè)較為嚴(yán)重的打擊。

美國(guó)不但切斷了荷蘭與中國(guó)的合作，而且美國(guó)政府還借此大力推動(dòng)本土技術(shù)的發(fā)展，利用貿(mào)易份額從中獲利，試圖將中美之間的芯片差距進(jìn)一步拉大。

雖然EUV設(shè)備已經(jīng)被完全封鎖，但是中國(guó)企業(yè)依然可以使用上一代的浸潤(rùn)式設(shè)備通過多重曝光的技術(shù)制造更加先進(jìn)的芯片。這就好比一臺(tái)印刷機(jī)，要在初版行間的空白處再次印刷額外的文字，使頁(yè)面上面的內(nèi)容翻倍。

這種技術(shù)需要更加先進(jìn)的沉積設(shè)備以及刻蝕設(shè)備進(jìn)行輔助，恰好中國(guó)企業(yè)在這些后端制造設(shè)備領(lǐng)域具有極強(qiáng)自主研發(fā)能力，北方華創(chuàng)、中微半導(dǎo)體、盛美半導(dǎo)體均開發(fā)出來了自主可控的后端制造設(shè)備。

甚至中微半導(dǎo)體制造的國(guó)產(chǎn)先進(jìn)刻蝕機(jī)，已經(jīng)被臺(tái)積電采購(gòu)過去投入到5nm及以下的芯片制造中。

至于技術(shù)難度更加困難的先進(jìn)光刻機(jī)設(shè)備，中國(guó)企業(yè)也已經(jīng)早就開始了技術(shù)攻堅(jiān)，目前還未正式公布國(guó)產(chǎn)浸潤(rùn)式光刻機(jī)的相關(guān)信息。

ASML首席技術(shù)官馬丁、首席戰(zhàn)略官范霍特曾經(jīng)在2018年與2019年訪華，對(duì)中國(guó)的上海微電子公司進(jìn)行技術(shù)訪問。兩人在訪問中發(fā)現(xiàn)，雖然中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)所能拿出來的產(chǎn)品有限，并且技術(shù)水平落后，但是中國(guó)團(tuán)隊(duì)正在想辦法攻克更加先進(jìn)的浸潤(rùn)式技術(shù)和極紫外光技術(shù)。

中國(guó)企業(yè)早已經(jīng)進(jìn)行了兩手準(zhǔn)備，一來是在有限的時(shí)間內(nèi)從ASML采購(gòu)大量的設(shè)備，以此來保證中國(guó)企業(yè)擁有足夠多的設(shè)備去制造芯片，不斷提升團(tuán)隊(duì)在制造設(shè)備上面的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。二來是聚集力量攻克先進(jìn)的設(shè)備技術(shù)，中國(guó)企業(yè)手上的ASML設(shè)備，成為了他們技術(shù)破局的關(guān)鍵。

ASML早已經(jīng)與中國(guó)企業(yè)簽訂合約，不會(huì)將先進(jìn)的技術(shù)方法告知中國(guó)企業(yè)，只授權(quán)給中國(guó)企業(yè)使用設(shè)備的權(quán)利。但是中國(guó)團(tuán)隊(duì)的實(shí)力到底有多強(qiáng)，沒有人知道，他們很可能在使用設(shè)備的過程中，將核心技術(shù)推導(dǎo)出來。

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