前沿導讀

中國通信行業(yè)觀察者項立剛在個人賬號發(fā)帖表示，根據(jù)荷蘭光刻機公司ASML近幾年的銷售數(shù)據(jù)來看，這個公司很快會走向衰落。并且中國企業(yè)的入局，也在對全球芯片產業(yè)造成質變影響。中國企業(yè)已經具備了研發(fā)先進光刻機的能力，未來要解決的問題就是生產制造的爬坡，一旦中國光刻機實現(xiàn)大規(guī)模的生產制造，那么ASML面臨的就是銷售崩潰。

參考資料：

• https://user.guancha.cn/main/content?id=1602064

市場銷售

根據(jù)《界面新聞》在2026年1月底發(fā)布的報道指出，中國大陸市場在2025年第四季度成為了ASML全球最大的單一市場，占其凈系統(tǒng)銷售額的36%。ASML首席財務官羅杰·達森在訪談中透露，預計2026年中國大陸市場的營收占比將會下滑至20%左右，這與當下未交付訂單當中的中國市場所占比重保持一致。

參考資料：
ASML新增訂單量創(chuàng)歷史新高|界面新聞 · 科技

觀察者項立剛在個人文章中指出，光刻機本身就屬于小眾市場產業(yè)，全球范圍內涉及光刻機銷售的企業(yè)一只手能數(shù)過來。小眾市場的總體情況一直平穩(wěn)，而且大規(guī)模增長的空間并不大。如果出現(xiàn)大規(guī)模的市場增長，那么就說明整個產業(yè)的平穩(wěn)狀態(tài)已經失衡了。

近幾年基于ai產業(yè)的技術爆發(fā)，先進邏輯芯片和先進存儲芯片的產能出現(xiàn)缺口，這是推高ASML光刻機銷售的核心原因。不管是汽車產業(yè)的自動駕駛技術，還是機器人產業(yè)的人形自動化技術，根本離不開先進算力芯片和高帶寬存儲芯片的加持。

一旦芯片產能回歸平穩(wěn)階段，或者是產能供大于求，那么ASML的光刻機市場就會回歸到正常水平，對比高峰期的銷售情況會出現(xiàn)一定程度的下滑。

而中國芯片技術在全球半導體產業(yè)中處于人人關注的階段，任何一個技術突破都會在全球范圍內掀起極高的熱度。中國芯片的自主技術發(fā)展就相當于“薛定諤的貓”，只要參與人員不透露出來，那么外來人員就不可能知道中國自主技術到底發(fā)展成什么樣子，這種狀態(tài)也是美國對華制裁持續(xù)加碼的原因之一。

從2018年美國啟動對中興和華為的制裁一直到現(xiàn)在，中國企業(yè)在芯片產業(yè)上出現(xiàn)了兩個大事件。一個是2023年華為5G麒麟芯片的回歸，一個是2024年中國干式DUV光刻機的公布。

這兩件事同屬于“薛定諤的貓”，在相關企業(yè)機構沒有公布信息之前，輿論層面幾乎就沒有任何消息來說明中國芯片產業(yè)有了顯著的技術突破。此前的國際輿論也都是中國無法制造先進芯片，中國的光刻機產業(yè)存在嚴重滯后。

哪怕是搭載新麒麟芯片的華為手機上市一段時間之后，時任美國商務部部長的雷蒙多也在訪談中表示美國沒有任何證據(jù)能夠證明中國企業(yè)擁有量產先進芯片的能力，她打心眼里就不相信中國企業(yè)可以在美國的制裁封鎖中實現(xiàn)技術突破。

一直到華為連續(xù)推出了多款搭載麒麟芯片的產品之后，雷蒙多才對外表示制裁中國并不能阻擋中國企業(yè)發(fā)展自主技術，美國政府應該將目光放在推動本國企業(yè)的技術創(chuàng)新上面。

產能擴張

當下ai產業(yè)的發(fā)展造成了消費級別的存儲芯片產能緊張，美韓兩國企業(yè)紛紛宣布旗下的存儲芯片因產能因素出現(xiàn)價格上浮。在這種條件下，擁有產能優(yōu)勢，或者是擁有產能擴充的能力，那么其在全球存儲器行業(yè)將會占據(jù)較高的話語權。

據(jù)中國臺灣青輝半導體創(chuàng)始人葉國光表示，近些年來中國企業(yè)建設的晶圓廠已經形成了較為不錯的產業(yè)集群。一個廠區(qū)內不只有一座晶圓廠，如果將8英寸和12英寸晶圓廠的數(shù)量加在一起，中國大陸地區(qū)的晶圓廠數(shù)量已經達到了100座以上。

目前還有一些工廠的產能沒有跑滿，一旦中國晶圓廠的產能拉滿，擁有了規(guī)?；圃斓哪芰?，那么全球范圍內的半導體企業(yè)，除臺積電等專注于先進制程的工廠之外，其他企業(yè)將會面臨著中國芯片形成的強大壓力。

據(jù)ASML近幾年的財報大會表示，ASML大規(guī)模給中國企業(yè)交付產品是在2023年和2024年，這兩年分別給中國企業(yè)交付了421臺和418臺設備，甚至中國大陸地區(qū)在部分季度的財報上面占據(jù)了ASML總銷售的40%以上。

這些設備里面有少部分是浸潤式光刻機，其他大部分都是負責制造成熟芯片的干式DUV光刻機。

在采購光刻機的同時，中國企業(yè)還從美國應用材料等企業(yè)手中采購了刻蝕機、沉積設備、離子注入設備等匹配浸潤式光刻機的配套產品。通過ASML浸潤式光刻機和自對準多重圖案化技術來制造7nm芯片，突破美國的技術封鎖。

除先進芯片之外，中國企業(yè)在其他制程的芯片領域具備產能和規(guī)?；瘍?yōu)勢，也具備去美化的供應鏈體系。未來要解決的問題，就是浸潤式光刻機和EUV光刻機的生產制造，從根源上解決制造先進芯片所面臨的不確定風險。