前段時間，有機構(gòu)發(fā)布了全球光刻機市場數(shù)據(jù)，整個全球市場規(guī)模約為350億美元左右。

而市場呈現(xiàn)高度寡頭壟斷格局，CR3高達(dá)99%以上的份額，其中ASML的份額高達(dá)85%，日本佳能份額高達(dá)10%，而日本尼康份額為5%左右。

至于其它廠商，合計可能還不到1%，比如上海微電子，其全球市場份額大約為0.2%。

很多人看到這個數(shù)據(jù)后，覺得有一點不可思議。

因為中國這些年以來，一直在大規(guī)模的建設(shè)芯片生產(chǎn)線，瘋狂造芯，而建設(shè)芯片生產(chǎn)線，就需要購買大量的光刻機，那這些光刻機，豈不是全部靠進口？

事實上還真是如此，過去10年以來，中國進口光刻機的金額不斷的增高，到2024年時，超過了100億美元。

而這些光刻機中，從ASML進口的金額占比為80%左右，至于另外的20%左右的占比，則是貢獻(xiàn)給了日本的佳能、尼康這兩家廠商。

同時，從光刻機的類型來看，從ASML購買的，更多的是相對高端一點的型號，從日本進口的，多是低端一點的型號。

因為從數(shù)量來看，日本進口占40%以上，但金額只占20%左右，從ASML進口了不到60%的數(shù)量，但金額占比高達(dá)80%，平均ASML的光刻機價格明顯更高，所以也就更為高端一些。

至于國產(chǎn)光刻機，主要還是用于后道工序，也就是封測這一塊，前道光刻機也就是用于芯片制造的光刻機，以進口為主，國產(chǎn)率低于1%。

可見，目前光刻機應(yīng)該是國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈中，最為薄弱的一環(huán)，也是最短的短板所在了。

在這樣的情況之下，如果我們自己的光刻機不能突破，一直要從ASML、日本購買光刻機，那么卡脖子是必然的，只有自己的光刻機突破了，不說全部替代掉ASML的光刻機，不要說EUV光刻機，只要技術(shù)上達(dá)到浸潤式DUV，那么一切問題就不是問題了。

因為一旦擁有了浸潤式DUV，那么用我們自己的光刻機，至少可以達(dá)到5nm芯片工藝了，那么就幾乎卡不住了。