2026年4月，韓國媒體《韓國先驅(qū)報(bào)》刊發(fā)專題評論，斷言中國在本十年內(nèi)無法實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的自主化。

其理由在于中國正面臨EUV技術(shù)壁壘與國際供應(yīng)鏈封鎖的雙重挑戰(zhàn)。此前美國主要禁止最頂尖的EUV光刻機(jī)，如今則直接將禁令范圍擴(kuò)大到所有DUV浸沒式光刻機(jī)，并要求荷蘭等盟友在150天內(nèi)執(zhí)行同等禁令。中國研制光刻機(jī)的難度正不斷增加，這一預(yù)言賭的并非技術(shù)時(shí)間表，而是中國研制光刻機(jī)的現(xiàn)實(shí)困境。

不過，與韓媒的唱衰不同，ASML更多的是焦慮。ASML首席執(zhí)行官傅恪禮近期就表示：把中國逼急了，等中國搞出自己的技術(shù)產(chǎn)品，說不定以后會是中國反過來賣給我們。

有人覺得ASML是杞人憂天，其實(shí)不然，他們的焦慮，全是被數(shù)據(jù)逼出來的。2026年一季度，ASML發(fā)布的財(cái)報(bào)里藏著關(guān)鍵信息：中國大陸市場的占比，從之前的全球第一，一下子掉到了19%，直接淪為第三。

要知道，以前中國可是ASML的“最大金主”，現(xiàn)在被韓國反超，韓國以45%的占比成了第一，ASML能不慌嗎？畢竟把中國逼太狠，等于親手丟掉一個(gè)潛在的巨大市場，這買賣不劃算。

看到這，估計(jì)不少中老年人會疑惑：EUV光刻機(jī)到底是個(gè)啥寶貝，能讓韓媒這么囂張，讓ASML這么緊張？其實(shí)答案很簡單，這東西，難到全球沒有任何一個(gè)國家能單獨(dú)造出來，包括美國、德國這些科技強(qiáng)國。

先說說它的結(jié)構(gòu)，一臺EUV光刻機(jī)，光零部件就有10萬多個(gè)，重量快趕上200噸的大貨車，隨便一個(gè)小零件出問題，維修起來都得花好幾個(gè)月，沒有頂尖技術(shù)，連修都修不好。更關(guān)鍵的是，這些零件還不是一個(gè)國家能搞定的，得靠全球頂尖企業(yè)湊一起才行。

比如核心的光源系統(tǒng)，得靠美國的企業(yè)來造；高精度的反射鏡，只有德國蔡司能生產(chǎn)，差一點(diǎn)精度都不行；還有特種復(fù)合材料，得靠日本的廠家供應(yīng)。少了其中任何一樣，這臺設(shè)備就組裝不起來，相當(dāng)于“缺胳膊少腿”，根本用不了。

除了零件復(fù)雜，精度要求更是嚴(yán)到苛刻。設(shè)備里的雙工件臺，同步誤差不能超過2納米，可能有人沒概念，簡單說就是，差一點(diǎn)點(diǎn)，芯片就廢了。而且它不只是單一技術(shù)的比拼，還得把光學(xué)、材料、電子等好幾個(gè)領(lǐng)域的頂尖技術(shù)融到一起，少一個(gè)都不行。

看到這，是不是就能理解，為啥韓媒敢篤定中國造不出來了？但別急，中國的操作，從來都不按常理出牌。

韓媒以為，雙重封鎖下，中國只能束手無策，只能乖乖認(rèn)輸?？伤麄?nèi)f萬沒想到，中國早就不盯著EUV單機(jī)死磕了，而是悄悄開辟了好幾條路，而且每條路，都有了實(shí)質(zhì)性的進(jìn)展。

可能有人不知道，現(xiàn)在我們的國產(chǎn)極紫外光源已經(jīng)量產(chǎn)了，28nm浸潤式鏡頭也能自己造了，就連之前被卡脖子的雙工件臺技術(shù)，也實(shí)現(xiàn)了關(guān)鍵突破，不用再看國外臉色。這些進(jìn)展，看似不起眼，卻為中國光刻機(jī)突圍，打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

第一條突圍路線，是納米壓印光刻。國內(nèi)有個(gè)叫璞璘科技的企業(yè)，已經(jīng)造出了相關(guān)設(shè)備，還實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)，線寬能做到小于10nm，比日本佳能的同類產(chǎn)品還好用，而且能耗和成本都降了不少，現(xiàn)在已經(jīng)用在存儲芯片等領(lǐng)域了。不過這條路線也有小短板，咱們后面再說。

第二條路線，是電子束光刻。浙江大學(xué)搞出了一臺叫“羲之”的光刻機(jī)，已經(jīng)正式落地了，精度能達(dá)到0.6nm，線寬8nm，最厲害的是，不用掩膜版，就能直接在硅基上“畫”電路，現(xiàn)在已經(jīng)進(jìn)入應(yīng)用測試階段，一下子打破了國外高端電子束光刻設(shè)備的禁運(yùn)困局。這波操作，是不是有點(diǎn)出乎意料？

但最讓人意外的，還是第三條路線——光刻工廠，也就是咱們說的SSMB-EUV技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)是清華團(tuán)隊(duì)牽頭攻關(guān)的，從2017年就開始立項(xiàng)，2021年完成了初步實(shí)驗(yàn)，現(xiàn)在光源功率已經(jīng)超過了ASML的設(shè)備，而且正在雄安推進(jìn)落地驗(yàn)證，用不了多久，就能看到實(shí)質(zhì)性的成果。

當(dāng)然，咱們也不吹牛皮，這些路線都有各自的小局限。納米壓印光刻雖然便宜，但缺陷率有點(diǎn)高，生產(chǎn)效率也不夠，沒法滿足大規(guī)模量產(chǎn)的需求；光刻工廠雖然潛力大，但建設(shè)周期長，投資也大，短期內(nèi)還解決不了芯片生產(chǎn)的燃眉之急。不過沒關(guān)系，中國的策略，從來都是“多條腿走路”。

其實(shí)中國的思路很清晰，不盲目死磕EUV單機(jī)，先把眼前的DUV技術(shù)吃透，把成熟制程做好。比如上海微電子的28nm浸沒式DUV，已經(jīng)完成了流片驗(yàn)證，國產(chǎn)化率突破了85%，很快就能實(shí)現(xiàn)商業(yè)化交付，滿足大部分日常芯片的需求。中長期呢，就多線并行，靠系統(tǒng)能力的提升，打破國外的單機(jī)技術(shù)壁壘。

韓媒之所以唱衰中國，說白了，就是只看到了中國研發(fā)EUV的難度，卻忽略了中國的韌性和智慧。他們以為的“死局”，說不定就是中國打破壟斷、實(shí)現(xiàn)彎道超車的起點(diǎn)。

要知道，中國從來都是被卡脖子一次，就突破一次。以前別人說我們造不出高鐵、造不出航母，我們都一一實(shí)現(xiàn)了。這次的光刻機(jī)，也不例外。而且光刻工廠的推進(jìn)，說不定會徹底改變?nèi)蚬饪虣C(jī)行業(yè)的格局，到時(shí)候，誰卡誰的脖子，還真不好說。