雖然如今的日本科技產(chǎn)業(yè)已經(jīng)開始衰落并不復(fù)往日的榮光，“工匠精神”也逐漸從褒義詞開始變成貶義詞，同時伴隨著眾多負(fù)面新聞而成為大家茶余飯后的笑點(diǎn)和談資。但是在某一些方面上也不得不敬佩日本產(chǎn)業(yè)的韌性。

就像尼康和佳能這兩家光刻機(jī)廠商，在遭到《美日半導(dǎo)體協(xié)定》等法案的針對，技術(shù)遭到封鎖被排除在EUV LLC聯(lián)盟之外，市場份額從巔峰時期的90%一路下滑到如今僅剩10%，但是依然沒有放棄。蟄伏了十幾年的時間，終于找到機(jī)會開始發(fā)動對ASML的反擊。

這項(xiàng)反擊的技術(shù)就是NIL（納米壓印技術(shù)），傳統(tǒng)的光刻機(jī)需要光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等等多個系統(tǒng)組成。其中光源系統(tǒng)由于EUV技術(shù)已經(jīng)被EUV LLC聯(lián)盟牢牢把持在手中，因此可以說EUV光刻機(jī)這條道路已經(jīng)很難走通。

而選擇NIL（納米壓印技術(shù)）則可以繞過EUV光源的限制，實(shí)現(xiàn)先進(jìn)制程的芯片制造。NIL（納米壓印技術(shù)）簡單理解就是通過將電路板雕刻在特殊的材質(zhì)上，從而像“蓋印章”一樣完成芯片的制造，通過佳能公開的資料顯示，這也確實(shí)是一條可行的道路。

技術(shù)遭到封鎖，資金嚴(yán)重不足，海外市場又遭到針對甚至一度被處以100%的懲罰性關(guān)稅。尼康和佳能面對的困境同樣十分巨大，但是如今隨著5nm光刻機(jī)的推出，它們終于看到了一絲勝利的曙光。

但是反觀國內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)，不得不一聲嘆息。自2014年推出半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)大基金以來，迄今為止已經(jīng)過去了九年時間，不得不承認(rèn)確實(shí)在芯片制造領(lǐng)域取得了不小的進(jìn)步，但是在光刻機(jī)等真正的基礎(chǔ)研究上卻依然寸步難行，本來預(yù)計(jì)2020年通過驗(yàn)收并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的28nm光刻機(jī)在延遲了3年之后依然遙遙無期，如光刻膠、光掩膜版、極性溶液、濺射靶材等半導(dǎo)體材料領(lǐng)域同樣進(jìn)展緩慢。

大量的資金投入了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，但是卻換來了不少的殘磚斷瓦，號稱投入200億美元（折合1381億人民幣）的弘芯一片荒蕪，號稱投入598億的泉芯同樣崩盤，其他大大小小無疾而終的半導(dǎo)體企業(yè)更是數(shù)不勝數(shù)，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)顯示2022年關(guān)閉的芯片企業(yè)數(shù)量高達(dá)5746家。

錢花出去了不少，但是真正意義上的突破依然屈指可數(shù)。大量沖著補(bǔ)貼加入造芯的企業(yè)匆匆而來又匆匆而去，卻幾乎沒有幾家能夠沉下心來用十年甚至二十年時間來完成一項(xiàng)突破的企業(yè)。量變引起質(zhì)變，很多時候我們需要的并不是一家大包大攬什么都能做的企業(yè)，而是無數(shù)幾十年深耕在單一領(lǐng)域最終取得突破的中小企業(yè)，只有匯集了無數(shù)這樣的力量之后，才能帶來國產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的真正崛起。

但現(xiàn)在的問題是所有企業(yè)全部都處于好大喜功的狀態(tài)，你上幾百億，我就必須上千億，在半導(dǎo)體基礎(chǔ)領(lǐng)域尚不牢固的前提下，就渴望一口氣吃一個胖子，結(jié)果最終全部因?yàn)榉N種原因而崩盤。不僅僅浪費(fèi)了大量本可以用于真正科研的資金，同時也失去了寶貴的時間。

如今佳能的成功，對于國內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也是一個警醒——如光刻機(jī)這樣高端技術(shù)的突破，往往需要的是幾年、十幾年甚至是幾十年的時間。同時既需要如臺積電、高通、英特爾這樣站在臺前的明星企業(yè)，也需要日立高新、東京電子、迪恩士等等這樣在背后默默努力為芯片產(chǎn)業(yè)添磚加瓦的企業(yè)。

科技研發(fā)的道路從來都不會是一帆風(fēng)順的，相比于成功時剎那的光芒，我們更應(yīng)該尊重那些在光芒背后默默奉獻(xiàn)的眾多無名企業(yè)。就像佳能找到了一條繞過EUV發(fā)展光刻機(jī)的道路一樣，我們的企業(yè)也終將有一天找到一條自己的道路。