第二只靴子終于落下了——在美國宣布美日荷三方芯片協(xié)議之后，具體的協(xié)議內容卻一直處于煙籠霧繞的狀態(tài)，誰也看不清內容的真相是什么。但是在3月8日作為參與方之一的荷蘭終于發(fā)布了正式表態(tài)：將會對“最先進”的半導體設備進行封鎖（The Dutch government has said it will impose export restrictions on the “most advanced” semiconductor technology）。

其中著重提到了“DUV”（深紫外線）這項技術，這是僅次于“EUV”（極紫外線）之外最為先進的光刻機，也被國內眾多芯片廠商所廣泛采用，在28nm等成熟制程中擁有廣泛的使用前景。

根據(jù)ASML的財報顯示，自2014年開始向中國出售了超過80億美元的DUV光刻機設備。按照DUV光刻機平均一臺1000萬左右的價格計算，這也就意味著在8年的時間中，累計出售的DUV光刻機數(shù)量為800臺,平均每年向中國出售的光刻機數(shù)量高達100臺，這其實已經(jīng)是一個不小的數(shù)目了。

那么為什么會說800臺光刻機受到影響呢？因為荷蘭方面的聲明中留下了一個重大的問題點——在新的出口管制措施開始施行之后，之前已經(jīng)出售的800臺光刻機的維護服務也成為了一樁懸案。

作為最精密的儀器，光刻機從來不是一錘子買賣，生產不同制程、不同種類的芯片也都需要重新對光刻機進行調整。而由于DUV光刻機中帶有防止“逆工程化”的模塊，因此一旦不經(jīng)過ASML的允許而擅自調整，那么這臺光刻機就有報廢的風險。

那么為什么ASML不得不接受美國提出的三方芯片協(xié)議？這也和ASML自己曾經(jīng)的選擇有關。在21世紀初，為了擊敗尼康和佳能這兩大主要光刻機競爭對手，作為后來者的ASML加入了由包括英特爾、IBM、AMD在內的美企主導的EUV LLC聯(lián)盟，并由此獲得了EUV技術，因此也成為全球僅有的有能力制造EUV光刻機的廠商。

EUV光刻機技術讓ASML后來居上成為全球最大的光刻機設備制造廠商，但同時也成為了ASML最大的枷鎖——作為加入EUV LLC付出的代價，ASML必須從美國廠商處采購占比為50%的零件。

這也是ASML不得不接受芯片三方協(xié)議的根本原因。但是在荷蘭公布三方協(xié)議之后，ASML面對巨大損失的同時并沒有坐以待斃，而是做出了自己的解釋。對于最先進的設備（“most advanced”），ASML認為是TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。

這實際上也是ASML在加入芯片協(xié)議之后給出自己的條件——TWINSCANNXT：2000i以及更先進的光刻機可以如美國所愿斷供，但是比其落后的光刻機則不應該在斷供之列。可以說ASML為了保住自己的利潤也是煞費苦心。

芯片協(xié)議造成的影響首當其沖就是包括中芯國際、華虹國際在內的芯片制造廠商。不僅僅是獲取新光刻機的難度增加，已有光刻機的維修和維護同樣成為巨大的難題。

但正所謂走的人多了就有了路，ASML的決定也將倒逼上海微電子等國產光刻機廠商的進步和發(fā)展。以往很多廠商迷信ASML的技術和名聲，如今在國產光刻機成為唯一選擇之后，也將帶來更多的訂單和利潤。通過將利潤投入到研發(fā)中去，國產光刻機突破的那一天終將到來。