在很長一段時間，國內(nèi)的芯片企業(yè)似乎對ASML有一種盲目崇拜。每次購買ASML都必須進行一次大規(guī)模的宣傳，仿佛擁有了ASML光刻機就能解決所有芯片上的難關(guān)。ASML身上的這種“魔力”來自于其在光刻機領(lǐng)域的絕對統(tǒng)治地位，占據(jù)了EUV光刻機100%銷量的同時，在DUV光刻機市場份額也超過90%，剩余兩大對手尼康和佳能市場份額相加不足10%。

國產(chǎn)芯片廠商大肆宣傳ASML光刻機進廠背后，實際是希望借助ASML在技術(shù)上的強大實力來為自己的芯片產(chǎn)品“背書”，從而試圖提高自己的科技形象。而ASML也樂于看到國內(nèi)芯片廠商這種“主動”宣傳的行為，因為這實際上也等于間接為ASML做出宣傳。

根據(jù)ASML財報顯示，自2014年起已經(jīng)累計向中國銷售了超過80億歐元的半導體設備。按照一臺DUV光刻機1000萬美元的造價計算，ASML至少出售了超過800臺光刻機。不可否認這些ASML光刻機所帶來的正面效應——國產(chǎn)芯片數(shù)量得到了突飛猛進的發(fā)展，從0成長為2022年的3241.9億片,已經(jīng)成長為全球最為重要的芯片產(chǎn)地之一。

但是過于依賴ASML所生產(chǎn)的光刻機也帶來了巨大的安全隱患——一旦無法從ASML處購得光刻機，那么國產(chǎn)芯片的發(fā)展必將遭遇到重創(chuàng)。同時這種缺乏自給的狀態(tài)，也嚴重制約了國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展。

特別是在美日荷三方芯片協(xié)議之后，作為荷蘭企業(yè)的ASML自然也不得不遵守這個協(xié)議。而在最新公布的協(xié)議內(nèi)容中，DUV光刻機也將進入出口管制名單之列（The Dutch government has said it will impose export restrictions on the “most advanced” semiconductor technology）。這也就意味著當前中國芯片企業(yè)可以隨意從ASML處購買DUV光刻機成為了歷史，缺乏光刻機供給也將極大地制約國內(nèi)芯片企業(yè)的發(fā)展。同時由于上海微電子的28nm光刻機遲遲無法完成量產(chǎn)，這也將使得國內(nèi)芯片企業(yè)在很長一段時間之內(nèi)都無法獲得充足的光刻機供應。

同時隱藏在芯片協(xié)議之下的陷阱恐怕更加嚴重。眾所周知光刻機是一種高科技設備，ASML為了防止逆向工程所以在每臺光刻機設備中都加入了監(jiān)測模塊，用以監(jiān)控光刻機的使用狀態(tài)。如今隨著芯片協(xié)議的推進，這800臺已經(jīng)購買的光刻機也成為了一個巨大的隱患。一旦ASML無法或者拒絕為這些光刻機提供維修和維護服務，那么對于很多高度依賴ASML設備的國產(chǎn)芯片企業(yè)來說也就相當于“滅頂之災”。

此時不得不感慨“造不如買”思想的危害。其實在歷史上國產(chǎn)光刻機也曾經(jīng)有過輝煌的階段。1965年中國科學院研制出65型接觸式光刻機；1977年上海光學機械廠研制出半自動接觸式光刻機JKG-3；1985年機電部第45所研制出中國第一臺分步投影式光刻機BG-101。這一階段國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)和當時全球最先進的技術(shù)相比僅僅落后四年左右的時間。

但是隨著國際形勢的變化，特別是中美關(guān)系的緩和，光刻機等產(chǎn)品的購買也不再被設限，這也使得國內(nèi)芯片企業(yè)紛紛選擇購買外國生產(chǎn)的光刻機設備，“造不如買”的思想開始盛行。同時為了搶占國內(nèi)光刻機設備市場，國際廠商也開始使用各種手段來爭奪份額，包括“買光刻機，送出國游”等等。由于當時國內(nèi)收入較低，因此國際巨頭的這些手段也收到了良好的效果，大量中國的廠長、經(jīng)理們接受了國際廠商的邀約，在海外考察游玩的同時也發(fā)現(xiàn)尼康、佳能、ASML等廠商的光刻機也的確優(yōu)秀，所以國內(nèi)廠商最終也開始紛紛采購國外光刻機。

技術(shù)上的落后再加上缺乏市場支持，在光刻機等領(lǐng)域的研發(fā)投入開始大幅減少，所帶來的負面效果則是和全球技術(shù)水平的差距越拉越大。如今國產(chǎn)光刻機和ASML之間的差距已經(jīng)在10年之上，ASML高管更是曾經(jīng)口吐狂言“就算給中國圖紙他們也造不出EUV光刻機”。

“沒有永遠的朋友，只有永遠的利益”，這句話可以說是亙古不變的真理，隨著中國經(jīng)濟高速發(fā)展并以18萬億美元的GDP成為全球第二大經(jīng)濟體，僅次于美國的25.44萬億美元后，兩者的關(guān)系也發(fā)生了微妙的變化。為了遏制中國的崛起，美國開始用出包括斷供芯片、EDA軟件、光刻機在內(nèi)的眾多手段?！霸觳蝗缳I”的思想也開始了反噬，如今ASML選擇接受美日荷芯片三方協(xié)議并參與斷供，也讓國產(chǎn)光刻機落后的現(xiàn)實暴露在大眾面前。

但幸好在光刻機領(lǐng)域雖然落后并缺乏市場支持，但是始終沒有放棄自研的腳步。在2002年由上海市和科技部牽頭成立的上海微電子就一直默默在相關(guān)領(lǐng)域進行鉆研和攻關(guān)。2007年上海微電子宣布研制出90nm工藝的分布式投影光刻機；2008年國家成立“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝專項”（02專項），開始大規(guī)模向光刻機及相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈進行投資和突破。

在此期間光刻機的設備也取得了顯著的突破——華卓精科與清華大學完成了雙工作臺系統(tǒng)的研發(fā)、中科院微電子所與科益虹源完成了光源系統(tǒng)的研發(fā)、浙江大學與啟爾機電成功研制出浸沒系統(tǒng)……

終于在2016年成功完成90nm純國產(chǎn)光刻機量產(chǎn)之后，也終于在全球封鎖的鐵幕中撕開了一道縫隙。雖然在技術(shù)上依然處于落后的位置，但是看到了曙光也就意味著已經(jīng)有路可以走，雖然坎坷但也為科技的發(fā)展指明了道路。