近日，日本公開表示將修訂核心防`務(wù)文件，推動(dòng)軍`事相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，試圖將長期秉持的穩(wěn)健路線進(jìn)行調(diào)整，轉(zhuǎn)向更具主動(dòng)性的方向。

相關(guān)表態(tài)公布后，迅速作出回應(yīng)。商務(wù)部先是宣布，將加強(qiáng)對(duì)日本`軍`民兩用物項(xiàng)的出口管制，涉及上千種材料、設(shè)備及技術(shù)。日方的反對(duì)尚未平息，第二波措施已在24小時(shí)內(nèi)迅速跟進(jìn)，將對(duì)原產(chǎn)于日本的二氯二氫硅啟動(dòng)反傾銷立案調(diào)查。

對(duì)此，國內(nèi)部分人士擔(dān)心：日本會(huì)不會(huì)反過來卡我們的光刻膠脖子？畢竟，這是他們最核心的“殺手锏”之一，我們約50%的光刻膠依賴日本進(jìn)口

光刻膠看起來只是化學(xué)工業(yè)中的一種感光材料，卻是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵一環(huán)，其性能決定了電路圖案的精細(xì)程度、生產(chǎn)良率與整體制程水平，從而深刻影響性能與成本。

但這一核心環(huán)節(jié)卻長期受制于人。SEMI統(tǒng)計(jì)，2024年光刻膠市場規(guī)模已達(dá)128億，但國產(chǎn)化率仍低于5%，絕大部分依賴進(jìn)口。日本則是掌控了全球90%以上的高端光刻膠供應(yīng)，尤其在關(guān)鍵的KrF與ArF光刻膠領(lǐng)域。

這讓日本工程師一度斷言：“沒有日本光刻膠，光刻機(jī)就算造出來也是擺設(shè)，毫無作用。”

現(xiàn)實(shí)印證了這一威脅：自2025年下半年以來，日企已悄然通過延長審批周期、供應(yīng)配額減少等手段收緊出口，部分高端ArF及EUV光刻膠甚至出現(xiàn)間接停供，被外媒嘲笑為“中方無米下炊”。面對(duì)壓力，我們并非坐以待斃。

公開信息顯示，在市場支持、市場拉動(dòng)與技術(shù)創(chuàng)新的共同驅(qū)動(dòng)下，國內(nèi)光刻膠已逐步實(shí)現(xiàn)從樹脂、光敏劑到成品的全鏈條自主化，部分進(jìn)入國際供應(yīng)鏈。例如，獲得國內(nèi)首個(gè)EUV光刻膠發(fā)明專利，ArF浸沒式已取得訂單；KrF光刻膠在2025年銷售額預(yù)計(jì)達(dá)千萬元級(jí)別，良率超過92%

顯然，日本的出口收緊雖在短期內(nèi)加劇了供需緊張，但也進(jìn)一步推動(dòng)了國產(chǎn)化進(jìn)程。從“卡脖”到“自主化”，這場光刻膠的替代之戰(zhàn)，正在進(jìn)入關(guān)鍵階段。

前沿科技領(lǐng)域的持續(xù)突破，無疑為半導(dǎo)體等行業(yè)帶來了一定信心，但同時(shí)應(yīng)清醒認(rèn)識(shí)到，日本企業(yè)在高端光刻膠的標(biāo)準(zhǔn)制定、配方優(yōu)化、設(shè)備匹配及后期服務(wù)等方面積累深厚，國產(chǎn)光刻膠在技術(shù)積累上仍存在差距，需要持續(xù)追趕。

而我國此次的底氣，不僅在于光刻膠已可滿足部分需求，更因?yàn)槿毡驹谏a(chǎn)高端光刻膠過程中所需的多種關(guān)鍵中間體和高純化學(xué)品，如光敏劑（PAG）、高純?nèi)軇┑?，相?dāng)一部分需進(jìn)口。若這些原料供應(yīng)受限，日本本土生產(chǎn)也將受到影響。

當(dāng)前，日本一方面在安全領(lǐng)域視為“競爭對(duì)手”，采取激進(jìn)姿態(tài)；另一方面又希望繼續(xù)保持市場與資源的經(jīng)濟(jì)依賴。這種矛盾做法難以持續(xù)。

從實(shí)際效果看，日本的激進(jìn)政策已開始產(chǎn)生反噬效應(yīng)。若其繼續(xù)忽視自身短板及周邊的合理關(guān)切，不僅難以實(shí)現(xiàn)所謂“國`家發(fā)`展目標(biāo)”，還可能進(jìn)一步加劇緊張關(guān)系，最終損害其長遠(yuǎn)利益。