在全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈中，有一種材料被業(yè)界戲稱為 “微納世界的畫家”——光刻膠。它看似只是一種涂在硅片表面的化學液體，卻承擔著極其關鍵的使命：在光刻機的幫助下，將電路圖案“刻畫”到芯片上，是決定芯片精度、良率和性能的核心材料。正因為如此，在光刻膠領域，日本媒體與日企長期以來頻頻以強勢姿態(tài)對中國進行渲染與論斷，最為激烈的言論便是：“沒有我們的高純光刻膠，中國先進制程只能停留在實驗室階段?！边@種論調(diào)，不僅體現(xiàn)了日本業(yè)界對自身壟斷地位的自信，更折射出對中國技術追趕路徑的傲慢與焦慮。

日本在全球光刻膠市場中地位極高，并非憑空吹噓，而是長期積累、技術積淀與產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢共同造就的現(xiàn)實。

日本企業(yè)，如信越化學、JSR、東京應化等，在高端ArF/EUV光刻膠領域擁有全球90%以上的市場份額，是國際最核心的供應商之一。光刻膠進口依賴中日比重極高：在中國，光刻膠進口依賴度整體仍高達80%～90%，其中約50%以上來自日本。特別是在用于7nm及更先進制程的EUV光刻膠上，中國尚未實現(xiàn)規(guī)?；瘒a(chǎn)供應，幾乎完全依賴于日、美等國技術。

正是這些數(shù)據(jù)基礎，讓日本媒體與產(chǎn)業(yè)評論者有恃無恐，高聲宣稱中國先進制程“離不開日本高純光刻膠”。在他們看來，如果日方停止供應或收緊出口審批，中國尖端芯片制造可能真會面臨短期沖擊。

然而，把中國先進制程完全寫進“實驗室階段”的說法，不僅片面，更忽視了中國近年來的實質(zhì)性進步和真實路徑。

中國已經(jīng)不再是單純的買買買或者跟隨者。國內(nèi)材料企業(yè)如南大光電、彤程新材、上海新陽等，在ArF光刻膠產(chǎn)品上已實現(xiàn)多批次客戶驗證，并有少量銷售。盡管與國際頂尖水平相比仍有差距，但產(chǎn)業(yè)鏈研發(fā)投入和產(chǎn)品迭代速度極大提升，這意味著中國光刻膠技術已從null向可用狀態(tài)邁進。中國學界與業(yè)界都普遍認為，國產(chǎn)光刻膠要突破只是時間問題，需要更大的技術積累、市場訂單驗證和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同，而不是一句“永遠不可能”。

日本媒體強調(diào)光刻膠的重要性無可厚非，但先進制程的實現(xiàn)不僅僅是一種材料的問題，而是設備、材料、工藝、EDA軟件乃至人才與生態(tài)系統(tǒng)的整體協(xié)同。眾多中國機構正在全鏈條推進自主研發(fā)：中國在DUV光刻機研發(fā)上已取得了實質(zhì)性進展，并在部分成熟制程上實現(xiàn)了突破。在光刻膠之外的關鍵材料和設備環(huán)節(jié)，中國企業(yè)也在加速布局與突破，例如前驅(qū)體材料、刻蝕設備等領域。因此，將中國先進制程完全“停留在實驗室”，是對中國產(chǎn)業(yè)鏈綜合能力的嚴重低估。

長期掌握高端光刻膠核心技術的日本企業(yè)，在技術壁壘與市場控制上顯得游刃有余，從而形成一種“高高在上”的話語姿態(tài)。他們往往強調(diào)中國“落后”和“不可替代”，這種論斷有時被包裝成技術判斷而非商業(yè)競爭策略。這種語言模式既有產(chǎn)業(yè)自信，也有對中國追趕步伐的深刻不安。畢竟，隨著國內(nèi)技術和產(chǎn)業(yè)環(huán)境的迅速變化，日本企業(yè)的市場空間和話語權都會受到?jīng)_擊。

縱觀全球半導體格局，中國已經(jīng)從“缺芯少魂”階段，成長為全球重要的市場與力量。雖然在高端光刻膠領域仍有明顯差距，但這種差距絕非不可逾越。中國的進步體現(xiàn)為：技術研發(fā)步伐加快，已經(jīng)取得可驗證進展；產(chǎn)業(yè)生態(tài)正在形成，并得到政策與資本的雙重支持；多企業(yè)、多路線并行推進國產(chǎn)替代，在成熟制程和中端工藝上已建立起生產(chǎn)與市場基礎；在全球供應鏈調(diào)整背景下，中國吸引包括韓國、歐美在內(nèi)的多方合作資源，加速技術吸收與轉(zhuǎn)化。

日本媒體的高調(diào)論斷，無疑是產(chǎn)業(yè)競爭中的一種聲音，但它不應該也不能成為評判中國技術發(fā)展的終極標準。真正的答案不在于激烈的文字，而在于技術日積月累的積累、千錘百煉的實戰(zhàn)與市場驗證。

我們應當清醒面對差距，也應當堅定推進國產(chǎn)創(chuàng)新，讓中國半導體技術真正擺脫依賴，實現(xiàn)“從0到1”的跨越——不僅在實驗室，而是在全球市場與價值鏈頂端。

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