最近看到一個(gè)挺有意思的榜單，是關(guān)于2025年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商的排名。這次，咱們中國(guó)的公司表現(xiàn)很亮眼，足足有5家企業(yè)擠進(jìn)了全球前30強(qiáng)。

具體來(lái)說(shuō)，北方華創(chuàng)沖到了全球第5，中微公司排第13，上海微電子（光刻機(jī)主力）、盛美上海和華海清科分別位列第20、23和24名。說(shuō)實(shí)話，看到這個(gè)名單，特別是北方華創(chuàng)能排到世界第五，心里確實(shí)挺提氣的。這說(shuō)明在刻蝕機(jī)、薄膜沉積、清洗設(shè)備這些關(guān)鍵領(lǐng)域，咱們已經(jīng)站穩(wěn)了腳跟，不再是旁觀者了。

所以很多人說(shuō)，輪到美國(guó)擔(dān)心了，中國(guó)芯片設(shè)備起來(lái)了，以后就打壓不住了。這話，說(shuō)對(duì)了一半。

為什么是一半呢？因?yàn)檫@份榜單也暴露了我們最大的那塊“短板”——在最頂尖、最核心的光刻機(jī)領(lǐng)域，我們離真正的破局，還差著最關(guān)鍵的一步。這一步，就是EUV（極紫外）光刻機(jī)。

榜單上排名最高的中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)是上海微電子，位列第20。這是一個(gè)巨大的進(jìn)步，值得我們驕傲。但我們也必須清醒地看到，目前全球最先進(jìn)的芯片制造，尤其是5納米及以下的工藝，幾乎全部依賴于EUV光刻機(jī)。現(xiàn)有的沉浸式光刻機(jī)雖然理論上通過(guò)極其復(fù)雜的“多重曝光”工藝也能做到5nm，甚至更高，但那會(huì)導(dǎo)致良率暴跌、成本飆升，無(wú)法實(shí)現(xiàn)大規(guī)模、經(jīng)濟(jì)性的生產(chǎn)。

說(shuō)白了，如果我們?cè)觳怀鯡UV光刻機(jī)，那么在代表未來(lái)的“先進(jìn)芯片”競(jìng)技場(chǎng)上，我們依然會(huì)被一道很高的技術(shù)壁壘擋在外面。

對(duì)方依然可以憑借對(duì)最先進(jìn)制程的壟斷，來(lái)影響整個(gè)產(chǎn)業(yè)的格局。這就像一場(chǎng)比賽，我們?cè)诤芏鄦雾?xiàng)上已經(jīng)拿到了不錯(cuò)的名次，但決定最終勝負(fù)的“王牌項(xiàng)目”，對(duì)手依然保持著絕對(duì)優(yōu)勢(shì)。

當(dāng)然，有人會(huì)說(shuō)，現(xiàn)在市場(chǎng)上70%的需求其實(shí)都用不著那么先進(jìn)的芯片，成熟制程夠用了。這話沒(méi)錯(cuò)。但問(wèn)題是，未來(lái)的手機(jī)、人工智能、自動(dòng)駕駛，對(duì)芯片性能、功耗和體積的要求只會(huì)越來(lái)越高。很多場(chǎng)景下，不是簡(jiǎn)單靠“堆砌”更多成熟芯片就能解決的。掌握先進(jìn)制程能力，是參與乃至引領(lǐng)下一波科技浪潮的“入場(chǎng)券”。

所以，榜單上擁有5家全球TOP30企業(yè)，特別是光刻機(jī)企業(yè)榜上有名，這絕對(duì)是一個(gè)里程碑，證明了我們的方向和努力是對(duì)的，整個(gè)產(chǎn)業(yè)生態(tài)正在健壯起來(lái)。它為最終攻克EUV這座堡壘，奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)和更大的可能性。

但欣喜之余，那份緊迫感依然不能放下。真正的“形勢(shì)徹底扭轉(zhuǎn)”，恐怕還要等到我們自己的EUV光刻機(jī)真正問(wèn)世的那一天。這條路很難，也很關(guān)鍵，我們都在期待著那一步能更快、更穩(wěn)地跨過(guò)去。