EUV光刻機(jī)誕生已經(jīng)有十多年了，這十多年間，其實(shí)更新了N代，當(dāng)然如果按照技術(shù)層級來看，至少也更新了兩代。

第一代是NA=0.33的普通EUV光刻機(jī)，而第二代則是NA=0.55的High EUV光刻機(jī)。

按照ASML的規(guī)劃，NA=0.33的普通光刻機(jī)，用到3nm芯片時(shí)就差不多了，最多達(dá)到2nm芯片，然后就要換成NA=0.55的High EUV光刻機(jī)。

在此之后，ASML還計(jì)劃推出NA=0.75的Hyper EUV系統(tǒng)，一代又一代的升級，讓晶圓廠們跟著不斷的換代。

因?yàn)镹A更大，所以分辨率更高，制造芯片的精度更高，這樣像臺積電、三星、英特爾等廠商，就會不斷的更換EUV光刻機(jī)。

但沒有想到的是，才發(fā)展到第二代NA=0.55時(shí)，臺積電就不太想換EUV光刻機(jī)了，覺得使用NA=0.33的就行，寧愿多一重曝光。

為何臺積電不愿意換，因?yàn)槌杀咎吡?，臺積電目前有上百臺的EUV光刻機(jī)，而High EUV一臺是4億多美元，全部換掉就是400多億，就是近3000億元。

臺積電當(dāng)然不想花這個(gè)成本啊，所以臺積電之前就表態(tài)稱，2nm肯定用NA=0.33的就行，1.4nm也用NA=0.33的EUV就成，至于以后的事，以后再說。

但話里話外就一個(gè)意思，能不用，我就堅(jiān)決不用，3000來億元的投入，你以為是3000塊啊，臺積電再也不用，也不會這么亂搞。

這對于ASML而言，當(dāng)然就不是好消息了，普通EUV的釘子戶肯定不是ASML喜歡的，當(dāng)然要想辦法逼著臺積電換機(jī)器了。

既然提高NA已經(jīng)不讓臺積電動心了，那想什么辦法呢，最近ASML想到了，那就是提高EUV的產(chǎn)能。

按照ASML的說法，他們有了新的突破，接下來可以將EUV光刻機(jī)的光源從600W提高至1000W，然后讓晶圓處理速度提高50%，從原來的220片每小時(shí)，提升至330片每小時(shí)。

很明顯，這就是ASML的陽謀，逼著臺積電等廠商，淘汰掉舊的EUV光刻機(jī)，換成新的EUV光刻機(jī)，因?yàn)楫a(chǎn)能高50%這個(gè)誘惑真的太大了，這么一提升，相當(dāng)于成本降30%左右啊。

如果臺積電不換，英特爾、三星等換了，然后成本降30%，那臺積電怎么辦？就沒有競爭優(yōu)勢了啊。

當(dāng)然，ASML也在探臺積電們的口風(fēng)，所以沒說一下子就實(shí)現(xiàn)到位，說要到2030年才能全部落實(shí)到位，這中間是有玄奧的。

如果臺積電們表示對這個(gè)技術(shù)感興趣，有這樣的新光刻機(jī)，那么自己就要買，ASML當(dāng)然是抓緊時(shí)間早點(diǎn)落地，讓臺積電們買。

但如果臺積電們同樣不感興趣，覺得產(chǎn)能慢一點(diǎn)也無怕謂，因?yàn)橥度霂浊|來換EUV劃不來，那么ASML可能就又會想其它招，反正就是要逼著這些老款EUV釘子戶換機(jī)器，否則自己怎么賺錢？