近日，日本光刻機(jī)龍頭尼康發(fā)布了一份自其1917年創(chuàng)立以來最慘烈的虧損公告：

預(yù)計(jì)2025財(cái)年虧損額將達(dá)到850億日元，約等于36.7億人民幣。

要知道，1980-1990年代，尼康可是全球光刻機(jī)行業(yè)的絕對(duì)霸主。

但在過去半年，這個(gè)曾經(jīng)的霸主僅僅賣出了9臺(tái)設(shè)備，還全是落后的成熟制程老款機(jī)型，映襯著日本國(guó)運(yùn)的衰敗。

與之形成對(duì)比的是，荷蘭ASML在2025年狂賣了327臺(tái)光刻機(jī)。

售價(jià)2億美元以上的高端EUV設(shè)備就出貨了48臺(tái)，牢牢掌控著全球高端市場(chǎng)，市值高達(dá)1300億美元。

過去10年（2016-2026），ASML的股價(jià)從50美元漲到了1500美元，漲幅高達(dá)30倍。

短短二十多年，這場(chǎng)全球光刻機(jī)行業(yè)的驚天逆轉(zhuǎn)背后，是日本和歐美科技產(chǎn)業(yè)的一場(chǎng)國(guó)運(yùn)級(jí)的博弈。

而到如今，中國(guó)這股后浪也在悄悄發(fā)力了。

據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈信息，2025年上海微電子累計(jì)交付的28nm浸沒式DUV光刻機(jī)已有20余臺(tái)。

2026年1月17日，上海微電子更在長(zhǎng)三角半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)峰會(huì)上透露，今年的DUV光刻機(jī)產(chǎn)能將有望擴(kuò)大到200臺(tái)。

這將是中國(guó)國(guó)運(yùn)史上一次里程碑式的跨越，讓我們期待著未來最終站上那浪潮之巔。

一、尼康的作死之路。

很多人不知道，如今瀕臨絕境的尼康，曾經(jīng)是光刻機(jī)領(lǐng)域的王者。

上世紀(jì)70年代，尼康依托相機(jī)鏡頭的頂尖光學(xué)技術(shù)，殺入半導(dǎo)體光刻設(shè)備市場(chǎng)，踩中了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的風(fēng)口，一路高歌猛進(jìn)。

在80到90年代，尼康迎來了黃金時(shí)代。

它推出的193nm干式光刻機(jī)，憑借頂尖的分辨率和穩(wěn)定性，橫掃全球市場(chǎng)，1990年代中期，尼康全球市場(chǎng)份額一度突破50%。

那時(shí)候，它的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手佳能也享有著40%的份額，兩家日本企業(yè)聯(lián)手瓜分了全球光刻機(jī)90%的市場(chǎng)，形成“日企雙雄”壟斷的格局。

彼時(shí)，美國(guó)光刻機(jī)鼻祖GCA被逼到了破產(chǎn)，而ASML只是歐洲的一個(gè)小廠，市場(chǎng)份額不足5%，存在感極弱。

作為頂流，尼康是芯片巨頭們爭(zhēng)相追捧的對(duì)象。

英特爾、AMD、IBM等美國(guó)大廠，為了拿到尼康光刻機(jī)的供貨權(quán)，專門派團(tuán)隊(duì)常駐尼康，甚至旺季的時(shí)候，CEO們還得親自跑到尼康工廠，預(yù)付全款蹲點(diǎn)搶名額。

尼康為英特爾定制的設(shè)備，是其CPU制程能在1990年代始終領(lǐng)先AMD的關(guān)鍵。

這也是那個(gè)年代，日本“技術(shù)立國(guó)”的象征。

可誰能料到呢？

進(jìn)入21世紀(jì)后，僅僅五年時(shí)間，尼康就被ASML超越了，從此一路滑落到谷底。

而這一切的潰敗，都源于它接二連三的致命失誤，最終把自己逼進(jìn)了死胡同。

第一個(gè)致命失誤。

2002年，是尼康命運(yùn)的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。

當(dāng)時(shí)，193nm干式光刻機(jī)遇到技術(shù)瓶頸，下一代157nm光源研發(fā)舉步維艱。

臺(tái)積電專家林本堅(jiān)提出了一個(gè)顛覆性想法：在鏡頭和晶圓之間加水，利用水的折射率縮短等效波長(zhǎng)，從而突破制程限制。

這就是改變半導(dǎo)體歷史的浸沒式光刻技術(shù)。

林本堅(jiān)帶著這個(gè)天才構(gòu)想，第一時(shí)間找到尼康，希望能合作研發(fā)。

可彼時(shí)的尼康，正沉浸在干式光刻技術(shù)的先進(jìn)與自我陶醉中，對(duì)他的方案并未重視。

高管們?cè)跁?huì)議上當(dāng)場(chǎng)質(zhì)疑：

“水污染了鏡頭，誰來負(fù)責(zé)？氣泡如果導(dǎo)致了設(shè)備報(bào)廢，誰來承擔(dān)？”

當(dāng)然，也不是所有高管都這么傲慢。

但背后更深層的原因，是尼康已經(jīng)在157nm干式路線上砸了數(shù)億美元研發(fā)。

如果貿(mào)然轉(zhuǎn)型浸沒式技術(shù)，意味著前期的所有投入全部要打水漂，這種強(qiáng)烈的路徑依賴，讓尼康拒絕了創(chuàng)新之路。

正所謂，光腳的不怕穿鞋的。

當(dāng)時(shí)夾縫中求生存的ASML，因?yàn)榧毙杵凭謾C(jī)會(huì)，反而愿意all in這條全新的技術(shù)路線。

ASML的技術(shù)主管馬丁·范登布林克力排眾議，大力推動(dòng)和臺(tái)積電聯(lián)手研發(fā)，終于在2004年推出了全球首臺(tái)浸沒式光刻機(jī)。

這款產(chǎn)品憑借更高精度、更低成本，一下子就轟動(dòng)了市場(chǎng)。

一年之后的2005年，ASML的份額大幅飆升至53.3%，超越了尼康的31.3%，躍居光刻機(jī)行業(yè)的新龍頭。

到2006年，ASML市占率更是突破60%，而尼康進(jìn)一步下滑至24.5%。

兩者的差距拉開至2.5倍，格局徹底逆轉(zhuǎn)。

第二個(gè)致命失誤。

這時(shí)候的尼康，技術(shù)底蘊(yùn)還在，正所謂瘦死的駱駝比馬大，想要扳回來還是有機(jī)會(huì)的。

尼康決定押注下一代EUV極紫外光刻技術(shù)，想憑借此重返巔峰。

日本政府也意識(shí)到，這是一場(chǎng)“國(guó)運(yùn)之戰(zhàn)”。

于是積極牽頭，集結(jié)了尼康、佳能、東京電子等半導(dǎo)體設(shè)備龍頭，一起投入數(shù)百億日元研發(fā)，試圖重現(xiàn)昔日的技術(shù)輝煌。

可此時(shí)的光刻機(jī)行業(yè)，技術(shù)和生態(tài)已經(jīng)日趨復(fù)雜。

一款高端光刻機(jī)往往涉及10萬個(gè)零部件，精密度要求極高，且下游客戶生態(tài)也變得更復(fù)雜了，韓國(guó)的三星、臺(tái)灣的臺(tái)積電等巨頭在高速發(fā)展。

2012年，精明的ASML與英特爾、三星、臺(tái)積電三大芯片巨頭達(dá)成協(xié)議，邀請(qǐng)他們共同入股ASML，結(jié)成命運(yùn)共同體。

根據(jù)協(xié)議，三巨頭將為ASML提供巨額研發(fā)費(fèi)用，以獲得未來EUV光刻機(jī)的優(yōu)先訂單+潛在的投資收益。

接下來，ASML又在全球挖掘上游供應(yīng)鏈，聯(lián)合了德國(guó)蔡司、美國(guó)Cymer等一批橫跨歐美各國(guó)的細(xì)分龍頭，組建了全球最強(qiáng)大的EUV研發(fā)聯(lián)盟。

這就相當(dāng)于是：歐美韓臺(tái)最頂尖研發(fā)資源和產(chǎn)業(yè)生態(tài)的組合VS日本一國(guó)的研發(fā)力量。

結(jié)果可想而知。

2017年，ASML率先量產(chǎn)交付首臺(tái) EUV 光刻機(jī)，成為支撐 7nm 及以下先進(jìn)制程的核心設(shè)備，領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)持續(xù)擴(kuò)大。

而尼康，截止2018年，在EUV項(xiàng)目上砸了超千億日元之后，終于造出了一臺(tái)原型機(jī)。

但由于技術(shù)指標(biāo)落后，沒有獲得一個(gè)意向訂單，最終只能無奈宣布終止EUV商業(yè)化開發(fā)，輸?shù)袅朔淼淖詈笙Ｍ?/p>

第三個(gè)致命失誤。

尼康在市場(chǎng)策略上也蠢得離譜。

在2010年代，它就暴露了過度依賴英特爾這個(gè)單一大客戶的風(fēng)險(xiǎn)。

隨著2024年英特爾巨虧，大幅削減資本開支，尼康訂單直接跌到個(gè)位數(shù)。

其實(shí)在2020年前后，尼康還是有過一次重生機(jī)會(huì)的。

在2020-2024年，其光刻機(jī)對(duì)華銷量占比一度超過40%，由于大陸晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)，需求極大，本是尼康扭轉(zhuǎn)業(yè)績(jī)的絕佳機(jī)會(huì)。

可隨著美國(guó)推動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制，尼康選擇緊跟美國(guó)指揮棒，主動(dòng)放棄中國(guó)市場(chǎng)，這個(gè)機(jī)會(huì)也就成了夢(mèng)幻泡影。

2025年，隨著中國(guó)市場(chǎng)丟失，英特爾停止芯片制造投入，尼康的光刻機(jī)業(yè)務(wù)大幅萎縮。

2025年9月，尼康關(guān)閉運(yùn)營(yíng)了58年的橫濱工廠，曾經(jīng)的光刻機(jī)霸主，徹底跌落神壇。

二、ASML的登頂之路。

很多人覺得ASML贏在EUV技術(shù)的強(qiáng)大。

可實(shí)際上，EUV只是結(jié)果，真正的核心，是它從一開始就選擇了和尼康相反的道路。

尼康思想保守，而ASML積極擁抱創(chuàng)新；

尼康體制僵化，上游只綁定日本供應(yīng)商，下游只綁定一個(gè)大客戶英特爾；

而ASML走開放的全球協(xié)作之路，上游在全球挖掘頂尖供應(yīng)商，下游聯(lián)合盡可能多的客戶，用資本入股的方式結(jié)成利益共同體，將朋友搞得盡可能的多。

在浸沒式光刻技術(shù)的路線選擇上，ASML的創(chuàng)新意識(shí)體現(xiàn)的淋漓盡致；

在EUV光刻機(jī)的研發(fā)上，它整合全球、各行業(yè)供應(yīng)鏈和生態(tài)的眼光，也是世界頂尖。

這種創(chuàng)新意識(shí)和整合全球資源所構(gòu)建起來的閉環(huán)生態(tài)，才是它最強(qiáng)大的護(hù)城河。

如今，ASML壟斷100%的EUV市場(chǎng)，高端DUV市場(chǎng)份額超90%，全球的先進(jìn)制程芯片全都離不開ASML的設(shè)備。

它成為了芯片行業(yè)的“卡脖子”王者，享受著一年百億美元級(jí)別的超額利潤(rùn)。

而ASML并沒有躺在功勞簿上吃老本，仍在積極布局下一個(gè)戰(zhàn)場(chǎng)。

隨著摩爾定律逼近極限，先進(jìn)封裝成為芯片性能提升的關(guān)鍵路徑，ASML將之視為下一個(gè)十年的重大機(jī)會(huì)。

2025年10月，ASML推出首款先進(jìn)封裝光刻機(jī)TWINSCAN XT:260，套刻精度和生產(chǎn)效率大幅改進(jìn)，迅速獲得臺(tái)積電、三星等核心客戶的訂單，正式宣告進(jìn)入先進(jìn)封裝市場(chǎng)。

如今，它還在投入研發(fā)混合鍵合機(jī)臺(tái)，把光刻領(lǐng)域的精密控制技術(shù)，復(fù)制到后道封裝環(huán)節(jié)，試圖成為一個(gè)覆蓋全流程的半導(dǎo)體設(shè)備平臺(tái)型公司。

三、佳能的求生之路。

和尼康并稱日本“光刻機(jī)雙雄”的佳能，在這20年里，沒有和ASML在高端市場(chǎng)硬剛。

而是選擇了一條差異化的競(jìng)爭(zhēng)之路，逐漸找到了自己的新市場(chǎng)。

這份清醒，可比尼康高明太多了。

在2000-2010年代，佳能和尼康一樣，也錯(cuò)失了浸沒式和EUV時(shí)代，一度迷茫。

但它很快就端正態(tài)度，清楚地知道在波長(zhǎng)競(jìng)賽上，永遠(yuǎn)無法追上ASML。

所以佳能果斷放棄了高端市場(chǎng)，推進(jìn)兩個(gè)重要戰(zhàn)略。

第一，深耕成熟制程基本盤。

專注i-line、KrF等中低端光刻機(jī)，強(qiáng)化性價(jià)比，在二三線晶圓廠、功率器件、傳感器等領(lǐng)域站穩(wěn)腳跟，收獲了穩(wěn)定的客戶和利潤(rùn)。

第二，押注納米壓印（NIL）技術(shù)。

納米壓印原理和光學(xué)光刻完全不同，就像蓋章一樣，把模板圖案直接壓印在晶圓上。

理論分辨率可媲美EUV，成本卻只有EUV的十分之一，能耗降低九成以上，有可能是顛覆EUV的重要技術(shù)方向。

2023年，佳能推出納米壓印系統(tǒng)，宣稱能生產(chǎn)5nm芯片，未來可下探至2nm。

目前，SK海力士已經(jīng)引進(jìn)用于閃存生產(chǎn)。

雖然這項(xiàng)技術(shù)目前還面臨模板壽命短、缺陷控制難等問題，但佳能沒有放棄，持續(xù)研發(fā)突破，2026年又推出晶圓平坦化技術(shù)。

隨著技術(shù)不斷迭代，缺陷逐步被完善，佳能的市場(chǎng)前景又變得明亮起來了。

佳能的生存之道，給了所有二線企業(yè)一個(gè)重要啟示：

當(dāng)主流賽道被巨頭壟斷時(shí)，沒必要正面硬剛，更好的方式是找準(zhǔn)差異化賽道，深耕細(xì)分領(lǐng)域，同樣能活下來。

活下來就有希望，不斷研發(fā)新技術(shù)，說不定哪天就有可能迎來彎道超車的機(jī)會(huì)。

知進(jìn)退、懂取舍，是企業(yè)基業(yè)長(zhǎng)青的關(guān)鍵。

四、中國(guó)光刻機(jī)的突圍之路。

1，上海微電子

尼康隕落了，不代表ASML就可以在高端市場(chǎng)上高枕無憂。

來自中國(guó)的后浪，正在悄悄實(shí)現(xiàn)研發(fā)突破。

其中一個(gè)代表是上海微電子。

上海微電子，2002年在上海張江成立，一出生就肩負(fù)著攻克國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的使命。

但他也沒有盲目跟風(fēng)追高端。

在當(dāng)時(shí)西方技術(shù)封鎖、零經(jīng)驗(yàn)起步的情況下，上海微電子選擇了“先易后難、循序漸進(jìn)”的現(xiàn)實(shí)戰(zhàn)略。

先從低端的封裝光刻入手，逐步向顯示光刻、前道光刻機(jī)突破。

2009年，上海微電子首臺(tái)封裝光刻機(jī)交付，打破國(guó)外壟斷；

2016年，國(guó)內(nèi)首臺(tái)前道掃描光刻機(jī)交付，正式進(jìn)入晶圓制造生產(chǎn)線。

2018年，90nm前道光刻機(jī)通過驗(yàn)收，實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)高端前道光刻機(jī)零的突破。

這20年，他一步步低調(diào)發(fā)展，積累人才，并終于在2025年迎來爆發(fā)之年。

第一，浸沒式DUV光刻機(jī)進(jìn)入量產(chǎn)階段。

2026年1月17日，在長(zhǎng)三角半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)峰會(huì)上，上海微電子公開宣布：

SSA800系列 28nm浸沒式DUV光刻機(jī)已交付中芯國(guó)際，進(jìn)入批量量產(chǎn)狀態(tài)。

目前產(chǎn)線良率已超90%，單次曝光28nm，多重曝光可實(shí)現(xiàn)14和10nm，打破了國(guó)外在中高端DUV光刻機(jī)的壟斷。

今年的DUV光刻機(jī)產(chǎn)能，將從去年的20余臺(tái)擴(kuò)大到50-200臺(tái)。

第二，完成EUV原理驗(yàn)證。

上海微電子于2025年9月24日在第25屆中國(guó)國(guó)際工業(yè)博覽會(huì)首次公開展示了極紫外（EUV）兩鏡投影微場(chǎng)曝光裝置。

這是一臺(tái)EUV原理驗(yàn)證機(jī)，標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)EUV從原理研究進(jìn)入工程樣機(jī)概念驗(yàn)證階段。

根據(jù)展示裝置的核心參數(shù)，波長(zhǎng)13.5nm，分辨率接近7nm，驗(yàn)證了EUV光路、反射成像、真空環(huán)境的可行性技術(shù)。

它最大的亮點(diǎn)是采用兩鏡反射式投影系統(tǒng)，跟ASML的多鏡方案是不同的技術(shù)路線。

根據(jù)9月10日公開的專利《極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設(shè)備（CN202310226636.7）》，這個(gè)方案最大的特點(diǎn)是能實(shí)現(xiàn)帶電粒子約束+氫自由基凈化，減少鏡組污染、延長(zhǎng)壽命。

據(jù)今年1月17日的長(zhǎng)三角半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)峰會(huì)上，上海微電子披露的信息：

基于LDP（激光誘導(dǎo)放電等離子體）路線的EUV原型機(jī)Hyperion-1已進(jìn)入試產(chǎn)階段，預(yù)計(jì)2026年第三季度完成量產(chǎn)驗(yàn)證。

第三，先進(jìn)封裝布局。

跟ASML一樣，上海微電子也在積極推進(jìn)先進(jìn)封裝設(shè)備的研發(fā)布局。

去年，上海微電子分拆了芯上微裝（AMIES），專注先進(jìn)封裝光刻機(jī)的研發(fā)。

今年1月，公司完成新一輪融資，估值280億元，目標(biāo)推進(jìn)獨(dú)立IPO。

第四，供應(yīng)鏈與生態(tài)培養(yǎng)。

作為光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代的代表，上海微電子的產(chǎn)品據(jù)業(yè)內(nèi)估計(jì)比進(jìn)口同類設(shè)備低40%左右，性價(jià)比突出，且交付周期更短。

上海微電子的高端光刻機(jī)量產(chǎn)，也將帶動(dòng)一批國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈企業(yè)的成長(zhǎng)。

比如南大光電（ArF光刻膠）、奧普光電/茂萊光學(xué)（光學(xué)鏡頭）、華卓精科（雙工件臺(tái)）。

上海微電子這20多年取得的成就，跟他自身的努力和時(shí)代的機(jī)遇密不可分。

從自身來看，當(dāng)然是先易后難的現(xiàn)實(shí)戰(zhàn)略，一步步不斷向上突破，不盲目追求高端。

在某種程度上，這跟佳能是有相似之處的。

但更重要的，是時(shí)代的機(jī)遇。

這幾年，上海微電子之所以取得了更快的發(fā)展，跟國(guó)家大戰(zhàn)略緊密相關(guān)。

從2020年開始，集成電路大基金加大資金注入，國(guó)家牽頭中科院、復(fù)旦、交大等科研機(jī)構(gòu)集體攻關(guān)，并統(tǒng)籌中芯、HW等下游企業(yè)反向投資，形成“產(chǎn)線即實(shí)驗(yàn)室”，邊用邊改、快速迭代等方法，才最終實(shí)現(xiàn)5年量產(chǎn)DUV，7年預(yù)計(jì)可量產(chǎn)EUV的目標(biāo)。

當(dāng)年，尼康的舉國(guó)體制之所以失敗，是因?yàn)槿毡締我皇袌?chǎng)的規(guī)模太小了。

拿不到海外市場(chǎng)的客戶，就意味著將陷入加拉帕戈斯化的孤島效應(yīng)。

但中國(guó)不一樣。

中國(guó)目前的工業(yè)規(guī)模世界第一，市場(chǎng)極大，研發(fā)工程師之多也是舉世罕見的。

這注定了在這場(chǎng)國(guó)運(yùn)之戰(zhàn)中，上海微電子的路要比尼康容易走的多。

2，芯碁微裝

其實(shí)在中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)上，上海微電子不是唯一一個(gè)企業(yè)。

在其他細(xì)分領(lǐng)域，還有一些后起之秀。

比如這家A股企業(yè)：芯碁微裝。

2015年，芯碁微裝在合肥成立，先從PCB激光直寫設(shè)備切入，快速占領(lǐng)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)，很快就拿到了60%的市場(chǎng)份額。

隨后，公司逐步向泛半導(dǎo)體領(lǐng)域拓展，2021年登陸科創(chuàng)板，成為“直寫光刻第一股”；

2022年，公司推出晶圓級(jí)封裝直寫設(shè)備，正式切入先進(jìn)封裝賽道，精準(zhǔn)卡位AI芯片、Chiplet技術(shù)的核心環(huán)節(jié)。

2025年，芯碁微裝業(yè)績(jī)爆發(fā)，營(yíng)收14.08億元，同比增長(zhǎng)47.61%，凈利2.89億元，同比增長(zhǎng)80.42%。

主要原因是AI浪潮之下，PCB直寫光刻設(shè)備迎來大爆發(fā)，全球十大PCB龍頭企業(yè)中的7家成為其重要客戶。

另外，公司的直寫光刻設(shè)備打入先進(jìn)封裝從面板到晶圓的各環(huán)節(jié)，開始收獲訂單。

根據(jù)機(jī)構(gòu)信息，2025年公司的光刻設(shè)備已進(jìn)入長(zhǎng)電、通富的國(guó)產(chǎn)GPU、AI芯片先進(jìn)封裝產(chǎn)線。

2025年，公司先進(jìn)封裝業(yè)務(wù)設(shè)備訂單占比16.58%，預(yù)計(jì)2026年將大幅提升至35%，成為第二增長(zhǎng)曲線。

公司規(guī)模雖小，但發(fā)展迅猛，黑馬成色十足。

主要原因也是選擇了差異化賽道，且一出生就站在了中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)騰飛、AI需求爆發(fā)的超級(jí)風(fēng)口上。

我們復(fù)盤全球光刻行業(yè)三十年的變遷，從尼康隕落、ASML稱霸、佳能偏安，再到中國(guó)企業(yè)的集體崛起。

可以發(fā)現(xiàn)，科技行業(yè)沒有永恒的王者。

只有持續(xù)創(chuàng)新、走差異化之路、善于整合資源、順應(yīng)時(shí)代的企業(yè)，才能站上浪潮之巔。

而中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)最大的幸運(yùn)是——

他們擁有當(dāng)今世界最大工業(yè)國(guó)的市場(chǎng)、人才和資金支持，再加上西方封鎖的推動(dòng)力，天然就站在了風(fēng)口上。

只要企業(yè)保持清醒，在成熟制程、先進(jìn)制程、先進(jìn)封裝的路徑上攻堅(jiān)克難，走出差異化的技術(shù)路線，自然未來可期。