【文/觀察者網(wǎng) 陳思佳】

總部位于荷蘭的光刻機巨頭阿斯麥（ASML）已推出新一代高數(shù)值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV），預計未來兩年大量生產(chǎn)。然而，由于這種新設備的價格極為昂貴，一些芯片制造巨頭仍決定保持觀望。

據(jù)美國彭博社4月22日報道，臺積電副共同營運長張曉強證實，為了節(jié)省開支，臺積電目前沒有采用High-NA EUV光刻機的計劃。分析人士預測，由于臺積電是阿斯麥最大的客戶，該公司決定暫不購買新一代光刻機設備可能對阿斯麥的經(jīng)營計劃不利。

臺積電于當?shù)貢r間22日在美國舉辦了2026年北美技術論壇，張曉強在論壇上表示：“我認為，我們的研發(fā)部門在利用現(xiàn)有EUV技術并繼續(xù)制定積極的技術路線圖方面，表現(xiàn)得非常出色。”

他補充說，下一代High-NA EUV設備“非常、非常昂貴”，臺積電正探索在不使用High-NA EUV的情況下提升芯片性能的方法。

一臺阿斯麥High-NA EUV光刻機系統(tǒng) 路透社

受此消息影響，阿斯麥股價22日收盤時下跌約1%。彭博社指出，臺積電是全球最大的半導體設備買家，在制造工藝方面也是行業(yè)領軍者，其技術選擇往往會對整個半導體行業(yè)產(chǎn)生廣泛影響。

日益增長的芯片制造成本和持續(xù)的海外擴張，使得臺積電的資本支出節(jié)節(jié)攀升，預計2026年將達到560億美元，因此臺積電正尋求節(jié)省開支。另一方面，臺積電今年早些時候表示，長期毛利率達到56%以上是可實現(xiàn)的，押注其巨額投入可以為投資者帶來滿意的回報。

公開資料顯示，High-NA EUV光刻機是阿斯麥最新一代光刻機設備，數(shù)值孔徑提升至0.55，分辨率大幅提升，可實現(xiàn)更精密的電路圖案加工。這意味著，該設備可以幫助芯片制造商繼續(xù)微縮晶體管，從而制造更先進的芯片。

然而，這種新型設備的價格也極為昂貴。張曉強透露，每臺High-NA EUV的售價超過3.5億歐元（約合人民幣28億元）。彭博社稱，臺積電此前已購買極少量High-NA EUV，但僅用于研究而非大規(guī)模生產(chǎn)。

報道指出，芯片制造的成本正在快速增長，如今建造一座最先進芯片工廠的成本約為200億至300億美元。制造先進芯片所需的阿斯麥入門級EUV光刻機的售價，也已達到每臺2億美元（約合人民幣13.7億元）以上。

分析人士預測，臺積電是阿斯麥的最大買家，該公司決定暫不采用High-NA EUV光刻機，可能對阿斯麥不利。目前，投資者非常關注這種新型光刻機的應用情況，阿斯麥計劃2027年至2028年大量生產(chǎn)該設備，并將2030年的營收目標定在600億歐元。

阿斯麥上周發(fā)布的財報顯示，2026年第一季度，阿斯麥營收87.67億歐元，高于市場預估，同比增長13.25%；凈利潤為27.6億歐元，同比增長17.06%。

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