作品聲明：內(nèi)容取材于網(wǎng)絡

前言

2025年11月底，余承東在華為Mate 80系列發(fā)布會上舉起手機的瞬間，全場閃光燈連成一片。

這款搭載純自研麒麟9030芯片的手機，性能直逼高通旗艦，更讓人振奮的是其從核心處理器到周邊小芯片的100%國產(chǎn)化。

鮮為人知的是，這枚“純血國產(chǎn)”芯片的誕生，背后站著一群默默攻堅的中國光刻機研發(fā)者。

在現(xiàn)代科技戰(zhàn)場，光刻機的地位堪比原子彈，卻比原子彈更難造。而中國，正用自己的節(jié)奏，打破這場全球技術壟斷。

比原子彈還難啃的“硬骨頭”

很多人疑惑，能造出原子彈的國家不在少數(shù)，為何光刻機成了“卡脖子”的難題？答案藏在這臺“工業(yè)巨獸”的每一個細節(jié)里。

原子彈的核心原理早已公開，而一臺頂尖EUV光刻機，卻是人類光學、機械、電子等多領域智慧的極致融合，里面藏著無數(shù)未被完全破解的技術密碼。

最讓人驚嘆的是它的精度控制。

EUV光刻機里的鉬硅反射鏡，是目前人類能造出的最光滑的人造物體，如果把這面鏡子放大到地球那么大，表面的凸起最高不會超過一根頭發(fā)絲的直徑。

要在180噸重的機身里，實現(xiàn)亞納米級的穩(wěn)定操作，就像讓一頭大象踮著腳尖繡十字繡。

為了產(chǎn)生13.5納米的極紫外光，機器要每秒發(fā)射5萬次高功率激光，精準擊中直徑僅20微米的錫滴，這個難度不亞于用乒乓球連續(xù)兩次擊中空中的蒼蠅。

更復雜的是它的全球供應鏈。

荷蘭ASML能壟斷EUV市場，并非全靠自己，而是整合了全球5000家供應商的頂尖技術：德國蔡司的反射鏡、美國Cymer的光源、瑞典的精密軸承，缺了任何一個環(huán)節(jié)，機器都無法組裝。

這意味著，想造光刻機，不是單純攻克某一項技術，而是要重建一整套全球頂尖的工業(yè)生態(tài)，這比原子彈單一領域的突破復雜得多。

經(jīng)濟成本同樣是一道鴻溝，一臺EUV光刻機售價超過1.5億美元，研發(fā)投入更是高達數(shù)百億歐元，ASML從1997年立項到2018年實現(xiàn)商用，花了整整21年。

這種“燒錢又耗時”的特性，讓很多國家望而卻步，畢竟原子彈研發(fā)有明確的國家戰(zhàn)略目標，而光刻機還要在商業(yè)市場中持續(xù)存活。

中國光刻機的突圍之路

2019年，美日荷三國聯(lián)手啟動對中國的光刻機封鎖，EUV光刻機率先被禁售，隨后連老舊DUV設備的售后都被卡脖子。

有人斷言，中國在高端芯片領域?qū)氐紫萑胪?，但事實恰恰相反，封鎖反而點燃了中國自主研發(fā)的決心。

中國的突圍沒有走“盲目追高”的彎路，而是從成熟制程穩(wěn)扎穩(wěn)打。

2025年12月，上海微電子研發(fā)的SSA/800-10W型28納米浸沒式DUV光刻機，正式交付中芯國際進行產(chǎn)線驗證。

這臺機器的套刻精度優(yōu)于2.5納米，零部件國產(chǎn)化率超過75%，能完美覆蓋汽車、家電、5G基站等領域的芯片需求。

要知道，28納米制程是全球芯片市場的“常青樹”，占據(jù)近三成的市場份額，這臺設備的落地，意味著中國在主流芯片制造領域有了自主選擇權。

在先進制程領域，中國走出了一條“曲線救國”的道路。

華為Mate 60系列搭載的麒麟芯片，就是用相對落后的DUV光刻機，通過多重曝光技術反復“描畫”而成。

這種方法雖然耗時耗力，良率偏低，但卻讓中國在沒有EUV的情況下，摸到了7納米技術的門檻。

到了Mate 80系列，隨著國產(chǎn)DUV設備精度提升和AI算法優(yōu)化，麒麟9030芯片的良率已大幅提高，實現(xiàn)了商業(yè)化落地。

差異化競爭成為中國的另一張王牌。

針對新能源汽車、工業(yè)電源等領域的需求，中國研發(fā)的AST6200型350納米步進光刻機，整機國產(chǎn)化率高達83%，專為碳化硅等第三代半導體材料設計。

這種聚焦特色工藝的思路，讓中國在不與ASML正面競爭的情況下，構(gòu)建起自己的技術壁壘和商業(yè)護城河。

AI技術的融入更讓國產(chǎn)光刻機如虎添翼，通過數(shù)字孿生模型和大數(shù)據(jù)分析，設備調(diào)試周期大幅縮短，使用壽命延長了20%以上。

回頭看中國光刻機的發(fā)展之路，沒有“彎道超車”的神話，只有“步步為營”的堅持。

有人會問，現(xiàn)在的中國光刻機，到底有多牛？答案藏在那些具體的突破里。

我們成了全球第三家掌握193納米準分子激光技術的企業(yè)，自主研發(fā)的激光干涉儀分辨率達0.3納米，350納米特色工藝光刻機實現(xiàn)全鏈條自主可控，28納米主流設備進入量產(chǎn)驗證，7納米先進制程通過多重曝光技術實現(xiàn)突破。

這些突破或許還沒讓中國達到EUV的頂尖水平，但卻打破了“中國造不出光刻機”的偏見。更重要的是，中國正在構(gòu)建一套完全自主的產(chǎn)業(yè)生態(tài)。

從光學鏡頭到控制軟件，從光刻膠到硅片，雖然部分環(huán)節(jié)仍有短板，但國產(chǎn)化的拼圖正在一塊塊完整。

ASML總裁曾預測，中國15年就能自主生產(chǎn)高端光刻機，現(xiàn)在看來，這個時間或許會更短。

當年錢學森先生說“外國人能搞的，難道中國人不能搞？”，原子彈如此，光刻機亦如此。

這臺被稱為“現(xiàn)代社會原子彈”的精密設備，曾是西方封鎖我們的武器，但現(xiàn)在，卻成了激發(fā)中國科技創(chuàng)新的催化劑。

結(jié)語

中國光刻機的“牛”，不僅在于那些亮眼的技術參數(shù)，更在于面對封鎖時不屈的韌性，在于一步一個腳印的務實，在于“功成不必在我”的堅守。

當華為Mate 80的信號滿格時，當國產(chǎn)汽車的芯片不再依賴進口時，我們看到的不僅是產(chǎn)品的成功，更是一個國家工業(yè)實力的崛起。

光刻機的攻堅之路或許還有很長，但只要保持這份創(chuàng)造的熱情與堅持，中國必將在人類工業(yè)文明的巔峰，刻下自己的名字。