昨天，一則關(guān)于上海微電子裝備公司中標(biāo)步進(jìn)掃描式光刻機(jī)的消息，在網(wǎng)絡(luò)上激起了不小的水花。

一臺機(jī)器，1.09億元的中標(biāo)額，讓不少關(guān)注芯片行業(yè)的人為之振奮，甚至帶動(dòng)了資本市場相關(guān)概念的波動(dòng)。興奮之余，一個(gè)最直接的問題也隨之浮現(xiàn)：這臺光刻機(jī)，到底有多厲害？它能造出我們心心念念的7nm芯片嗎？

很坦誠地說，如果抱著這個(gè)期待，恐怕要稍稍調(diào)整一下視線了。這臺中標(biāo)的步進(jìn)掃描式光刻機(jī)，它的主戰(zhàn)場并非芯片制造的前道環(huán)節(jié)——也就是那個(gè)在硅片上精細(xì)雕刻電路圖、決定芯片制程先進(jìn)與否的核心步驟。

它更主要的角色，是在芯片制造的“后半場”——封裝環(huán)節(jié)發(fā)揮作用。業(yè)內(nèi)通常稱之為“后道光刻機(jī)”。

那么，它在技術(shù)隊(duì)列里處于什么位置呢？這臺設(shè)備屬于KrF光刻機(jī)，采用248納米波長的光源。

在它之上，有采用193納米波長的ArF光刻機(jī)（即我們常聽到的DUV光刻機(jī)）；

再往上，還有技術(shù)更復(fù)雜的浸潤式ArFi光刻機(jī)；

而處于頂尖位置的，則是采用13.5納米極紫外光的EUV光刻機(jī)，那是目前生產(chǎn)7納米及以下尖端芯片的必需裝備。

相比之下，這臺248納米光源的設(shè)備，單論技術(shù)的“先進(jìn)程度”，確實(shí)算不上最前沿。

從已披露的信息看，它的分辨率在110納米左右。這個(gè)參數(shù)決定了，如果真要用它來直接制造芯片，大概能應(yīng)對110納米左右的工藝節(jié)點(diǎn)。

這與當(dāng)今手機(jī)、電腦里使用的7納米、5納米芯片，存在代際上的差距。它的強(qiáng)項(xiàng)在于后道封裝，比如實(shí)現(xiàn)Chiplet（芯粒）之間高精度的對準(zhǔn)、重布線層的刻畫以及凸點(diǎn)成型等，是提升2.5D/3D先進(jìn)封裝能力的關(guān)鍵工具之一。

既然如此，它的中標(biāo)為何還能引起如此大的關(guān)注？其意義，恰恰不在于“炫技”，而在于“可用”和“替代”。

當(dāng)前，在全球光刻機(jī)市場上，ASML、尼康、佳能等國際巨頭占據(jù)主導(dǎo)地位。

同類功能的設(shè)備，它們的售價(jià)往往超過3000萬美元。而上海微電子的這臺國產(chǎn)設(shè)備，中標(biāo)價(jià)約1.1億人民幣，折合美元大約1500萬，價(jià)格優(yōu)勢非常明顯。這對于國內(nèi)眾多的芯片封裝測試廠商來說，意味著多了一個(gè)可靠的、成本更低的選擇。

所以，這臺光刻機(jī)最大的價(jià)值，或許不是去與ASML在尖端制程的賽道上“掰手腕”——那需要時(shí)間、需要全產(chǎn)業(yè)鏈的持續(xù)突破。

它的重要意義在于，在一個(gè)特定的、卻至關(guān)重要的技術(shù)領(lǐng)域（先進(jìn)封裝），實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)裝備的從無到有、從不可用到可用的突破，并且具備了實(shí)實(shí)在在的市場競爭力。它讓國內(nèi)企業(yè)能用更合理的價(jià)格，獲得保障生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備，減少了對外部供應(yīng)鏈的絕對依賴。

中國芯片產(chǎn)業(yè)的自主化之路，注定是一場漫長而需要耐心的跋涉。它既需要仰望星空，攻克EUV那樣的珠穆朗瑪峰；也需要腳踏實(shí)地，這條路，每一步不管大小都算數(shù)。這臺光刻機(jī)，正是堅(jiān)實(shí)的一小步。