上海
臺(tái)積電泄密案近日又揪出第四名內(nèi)鬼。
臺(tái)灣檢方此前偵辦臺(tái)積電2納米核心關(guān)鍵技術(shù)竊密案，查出前工程師陳力銘跳槽日本企業(yè)東京威力科創(chuàng)公司后，為得知“蝕刻機(jī)臺(tái)”量產(chǎn)測(cè)試數(shù)據(jù)，買通時(shí)任工程師吳秉駿、戈一平竊取參數(shù)配方，3人遭檢方起訴求刑7到14年不等。
近日，臺(tái)灣檢方又追出另有臺(tái)積電前工程師陳韋杰涉嫌竊取核心技術(shù)，外泄給陳力銘以及東京威力盧姓員工涉嫌配合湮滅證據(jù)。1月5日，臺(tái)灣檢方追加起訴2人。
起訴指出，臺(tái)灣檢方查出東京威力的云端硬碟內(nèi)，存有臺(tái)積電核心關(guān)鍵技術(shù)項(xiàng)，也就是“14納米以下制程技術(shù)及其關(guān)鍵氣體、化學(xué)品及設(shè)備技術(shù)”營(yíng)業(yè)秘密資料，經(jīng)清查發(fā)現(xiàn)陳姓工程師竊取。
由于陳力銘于偵查中坦承犯行，供出陳姓工程師并順利查獲，故求處7年徒刑，日后可能獲合議庭減刑。陳姓工程師則因犯后態(tài)度不佳，遭檢求處8年8月徒刑。
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