目前芯片領域最核心的設備，應該就是光刻機了。

因為當前全球的芯片大規(guī)模量產技術，均是基于光刻，光刻機是必不可少的，關鍵是光刻機全球只有4家廠商，并且主要是三家壟斷市場，特別是ASML一家壟斷80%以上市場。

且ASML是唯一一家能夠制造EUV光刻機的廠商，而中國的水平落后ASML至少是10年以上，相差太遠，所以過去中國一直大量從ASML進口光刻機。

也正因為如此，所以美國卡住了ASML的光刻機向中國出口，避免中國基于ASML的光刻機，制造出先進的芯片，這是美國不愿意看到的。

所以ASML的EUV光刻機被禁了，浸潤式DUV光刻機中，先進的也被禁了，只允許銷售部分相對落后一點的浸潤式光刻機，按照ASML的說法，現(xiàn)在能夠賣給中國的光刻機，都是落后10年以上的的產品了。

但是近日，有一家荷蘭的科技媒體，則提出了另外一個觀點，那就是雖然ASML能夠銷售的光刻機，越來越少，但其實中國這幾年，囤積了大量的光刻機，用5-10年可能都不是問題。

對方指出，在2023年、2024年這兩年，中國一直是ASML的最大買家，中國最高時購買的光刻機金額，占到了ASML的40%以上，這兩年購買的光刻機，比以往5年還要多。

并且在2025年，中國購買的光刻機雖然數量減少了，均價明顯提升，說明購買的更多聚焦在高端一點的光刻機上面。

對方稱，目前中國已經囤積了足夠多的浸潤式光刻機，而這些浸潤式光刻機，在采用多重曝光之后，實際上能制造的芯片，或許早就在5nm甚至更先進的工藝了。

所以中國一直在做準備，在“囤積”光刻機，以應對未來可能發(fā)生的風險，為接下來可能的持久戰(zhàn)囤積糧草。

對方認為，現(xiàn)在中國在光刻機上，并不是那么的緊張了，就算未來幾年不買也沒關系。

對比方認為，當然EUV光刻機是中國需要的，但也并不是非要不可，中國之前買的光刻機，可以支撐到5nm甚至更高，所以美國的封鎖，至少在現(xiàn)在看來，意義并不是特別大了。

而EUV光刻機方面，中國自己也在研發(fā)，可能幾需要幾年就能研發(fā)出來，一旦中國有了自己的EUV光刻機，那么整個芯片產業(yè)的格局，都會重新洗牌。