大家都知道，ASML花了40年才把光刻機做到全球頂尖，幾乎壟斷了高端市場。

但最近一位荷蘭半導體專家坦言，中國企業(yè)在光刻機上的投入，比當年的ASML還要拼、還要狠。

沒有捷徑可走，就埋頭一點點攻堅，不聲不響推進技術突破。

可讓人好奇的是，中國企業(yè)這番“死磕”，真能打破ASML的壟斷，闖出一條屬于自己的路嗎？

ASML的40年

很多人以為ASML一開始就是行業(yè)巨頭，其實不是。

1984年，荷蘭的飛利浦和ASMI兩家公司聯手，湊錢成立了ASML，剛開始就幾十號員工，擠在荷蘭埃因霍溫一個簡陋的廠房里，條件差到下雨天還會漏雨。

信息來源：荷蘭光刻巨頭，+誕生于一個4.5萬人的小鎮(zhèn)

那時候的光刻機市場，根本沒ASML的位置，美國的GCA、日本的尼康和佳能，三分天下，占據了幾乎所有市場份額。

ASML早期做出來的產品，性能很一般，連一些小廠家都不愿意用，只能靠飛利浦的內部訂單勉強維持運轉，好幾次都差點撐不下去。

從成立到真正站穩(wěn)腳跟，ASML熬了十幾年，1991年，他們推出了PAS5500系列光刻機，靠著精準的對準技術，才從尼康、佳能手里搶下第一批客戶。

1995年公司上市，募集到的所有資金，他們沒用來擴張，全砸進了研發(fā)。

2000年，ASML收購了美國的硅谷集團，整合出193納米掃描技術，這才拿到了給英特爾供貨的資格，真正在行業(yè)里站穩(wěn)了腳。

最耗時的是EUV光刻機的研發(fā)，從1997年立項，到2013年第一臺能用于生產的機器出貨，整整花了16年。

這期間，光源系統(tǒng)反復出問題，炸了上百次，德國蔡司的工程師，為了打磨出納米級精度的鏡片，在無塵室里一待就是十幾個小時，吃飯睡覺都在實驗室附近。

40年下來，ASML熬死了很多競爭對手，也整合了全球的供應鏈。

一臺光刻機有10萬個零件，鏡片來自德國蔡司，光源來自美國，傳感器來自日本，需要上百家供應商一起配合。

到現在，全球7納米以下芯片制造的光刻機，基本都被ASML壟斷，沒有它，很多高端芯片就造不出來。

那位荷蘭專家說，他們的成功，沒有捷徑，就是慢功夫磨出來的，每一個零件都做到極致。

中國企業(yè)的困境

中國企業(yè)涉足光刻機領域，比ASML晚了整整30多年，起步的時候，面臨的困難比當年的ASML還大。

2002年上海微電子成立的時候，中國在光刻機領域幾乎是一片空白，沒有核心技術，沒有成熟的供應鏈，甚至連相關的人才都很稀缺。

更難的是，美國聯合荷蘭、日本，對中國實施技術封鎖，最先進的EUV光刻機，明確禁止賣給中國。

就連相對普通的DUV光刻機，也層層受限，核心零件買不到，技術資料查不到，甚至有國外專家直言：“中國永遠造不出高端光刻機，給你們全套圖紙，你們也造不出合格的零件?！?/strong>

那時候，很多人不看好中國能搞出光刻機，覺得我們起步太晚，差距太大，再加上封鎖，根本沒有機會。

但中國企業(yè)沒有放棄，越是被限制，越要咬牙堅持，這份狠勁，不是喊口號，是實打實的投入和堅守。

可能有人會問，為什么一定要自己搞光刻機？因為核心技術靠別人，永遠沒有主動權。

別人一旦斷供，我們的芯片產業(yè)就會陷入停滯，手機、電腦、新能源汽車等很多行業(yè)，都會受到影響。

所以，搞自主研發(fā)，不是為了爭第一，是為了不被別人“卡脖子”。

三中國企業(yè)的狠

荷蘭專家說，ASML的成功，是靠全球供應鏈“搭積木”，整合各國的核心技術，而中國企業(yè)，是自己“造積木”，從最基礎的零件開始，一步步自主研發(fā)，這種狠勁，很少見。

先說說上海微電子，這家2002年成立的公司，早期其實就是一個科研項目組，人不多，資金也有限，他們沒有盲目跟風ASML的技術路線，而是從成熟制程開始，一步步摸索。

信息來源：中國機會｜ASML：半導體產業(yè)開放合作是主流

2023年，他們推出了SSA800浸沒式光刻機，能生產28納米芯片，已經交付給中芯國際使用。

現在，上海微電子的系統(tǒng)能支持90納米以上的芯片制造，在國內的市場份額達到90%，全球占比35%。

要知道，ASML花了20年才達到這個滲透率，而上海微電子只用了20年左右，速度已經很快了，而且他們的零部件國產化率超過75%，不用再完全依賴進口。

再說說華為，2019年，華為跨界組建了光刻機研發(fā)團隊，很多人覺得，華為是做通信設備的，搞光刻機就是“不務正業(yè)”，肯定搞不成。

但華為沒有在意這些質疑，2023年在上海建了研發(fā)中心，投入16.6億美元，還挖來了前ASML的工程師，一點點逆向攻關。

2025年初，華為真的搞出了EUV原型機，雖然還沒有實現量產，但極紫外光已經能穩(wěn)定運行。

而且華為還找到了一條繞開EUV的路，利用成熟的DUV光刻設備，結合多重曝光技術，實現了更先進制程芯片的制造，這在沒有EUV的情況下，已經是很大的突破了。

除此之外，中國還有很多機構和企業(yè)，一起參與到光刻機研發(fā)中，中科院、上海光機所等幾十家機構，從光源到鏡片，全鏈條自主攻關，不依賴國外的技術和零件。

我們沒有走ASML“全球整合”的路，因為別人不賣給我們，我們只能自己造，這種“被逼出來”的狠勁，就是中國企業(yè)的底氣。

不吹不黑

說實話，現在中國的光刻機，和ASML還有差距，ASML的EUV光刻機，能制造7納米以下的高端芯片。

已經實現大規(guī)模量產，而中國的EUV原型機還在試產階段，預計2026年三季度才能完成量產驗證。

有人說，既然還有差距，有什么好驕傲的？其實，我們驕傲的不是現在有多厲害，而是在被封鎖、從零起步的情況下，沒有放棄，一步步追趕。

ASML有40年的積累，有全球供應鏈加持，而我們，是在別人的封鎖下，自己摸索、自己研發(fā)，每一步都走得很艱難，但也很堅定。

現在，中國在光刻機領域的進步越來越快，EUV專利申請量三年增長200%，光源、鏡片相關的技術論文數量，位居全球第一。

在封裝光刻機領域，上海芯上微裝半年就交付了500臺，全球市占率達到35%。

28納米光刻機已經實現量產，能滿足汽車、家電、5G基站等領域的芯片需求，而28納米也是全球芯片市場的“常青樹”，占據近三成的市場份額。

那位荷蘭專家最后說：“我們曾經以為，壟斷就是技術的終點，可中國企業(yè)讓我們明白，真正的競爭，是讓技術回歸服務產業(yè)的本質?！?/p>

其實，中國研發(fā)光刻機，不是為了取代ASML，而是為了打破壟斷，擁有自己的核心技術，不再被別人“卡脖子”。

今天跟大家說這些，不是為了吹中國有多厲害，而是想告訴大家，中國科技的進步，從來都不是一蹴而就的，是無數工程師日復一日的堅守，是中國企業(yè)實打實的投入換來的。

或許我們現在還沒有完全追上ASML，但請相信，只要我們一直堅持，不放棄，總有一天，我們會在全球半導體領域，擁有屬于自己的話語權。

最后想問大家，你們覺得中國光刻機多久能追上ASML？評論區(qū)留下你的看法，一起為中國科技加油。