國(guó)芯網(wǎng)[原:中國(guó)半導(dǎo)體論壇] 振興國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)！

隨著人工智能、大數(shù)據(jù)和高性能計(jì)算的快速發(fā)展，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正進(jìn)入新一輪技術(shù)升級(jí)周期。先進(jìn)制程不斷向更小的節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)，芯片結(jié)構(gòu)愈發(fā)復(fù)雜，3D堆疊、Chiplet等新架構(gòu)不斷涌現(xiàn)，這也對(duì)晶圓制造的穩(wěn)定性和潔凈度提出了前所未有的要求。

在這樣的背景下，過(guò)濾、分離與純化技術(shù)正成為保障芯片制造質(zhì)量的重要基礎(chǔ)能力。從氣體供應(yīng)、光刻膠處理到濕法化學(xué)品管理，再到CMP研磨液控制，過(guò)濾技術(shù)貫穿半導(dǎo)體制造的幾乎每一個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)。任何微小的污染顆粒，都可能在納米級(jí)制造過(guò)程中被放大，進(jìn)而影響芯片性能甚至良率。

作為全球過(guò)濾、分離與純化解決方案的重要提供者，頗爾公司（Pall Corporation）正在通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新與本土化布局，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供更加可靠的解決方案。

01

頗爾四大核心解決方案

1.氣體純化解決方案

分子雜質(zhì)已成為晶圓缺陷的重要源頭，惰性氣體、稀有氣體、腐蝕性氣體等氣流中的微量雜質(zhì)，都可能影響后續(xù)工藝的穩(wěn)定性。頗爾氣體純化解決方案，專為去除分子雜質(zhì)而來(lái)，可有效濾除水分、氧氣、二氧化碳等多種雜質(zhì)，且不產(chǎn)生二次有害污染。憑借定制化濾材與集成化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)工藝穩(wěn)定性提升、減少缺陷、降低成本等多重價(jià)值，為芯片制造打下純凈的氣體基礎(chǔ)。

2.光刻解決方案

光刻工藝作為芯片制造的 “靈魂環(huán)節(jié)”，晶圓表面的有害顆粒物、凝膠微橋缺陷、金屬污染，以及光刻化學(xué)品不達(dá)標(biāo)等問(wèn)題，都會(huì)直接影響良率。頗爾光刻工藝過(guò)濾解決方案，憑借高效攔截的濾膜、優(yōu)化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，有效消除各類污染物，避免微泡產(chǎn)生、縮短沖洗時(shí)間，同時(shí)減少啟動(dòng)時(shí)的化學(xué)品用量，大幅降低晶圓表面缺陷率。更能實(shí)現(xiàn)設(shè)備關(guān)閉時(shí)間縮短、產(chǎn)率提升的目標(biāo)，讓光刻工藝更精準(zhǔn)、更高效。

3.濕式工藝解決方案

濕式清洗與刻蝕是芯片電路制造的關(guān)鍵步驟，化學(xué)藥水的污染，會(huì)引發(fā)蝕刻速率下降、蝕刻不均勻、芯片缺陷增加甚至設(shè)備損壞等一系列問(wèn)題。頗爾濕式工藝解決方案，精準(zhǔn)捕獲各類微小顆粒與污染物，可適配 HF、BOE 等多種稀釋及腐蝕性化學(xué)品，高效控制臨界尺寸顆粒，保持流體高純度，同時(shí)將金屬離子析出量控制在低水平，為濕式蝕刻與后續(xù)清洗環(huán)節(jié)提供穩(wěn)定、純凈的化學(xué)環(huán)境，保障蝕刻工藝的一致性與穩(wěn)定性。

4.CMP解決方案

CMP化學(xué)機(jī)械拋光是實(shí)現(xiàn)晶圓全局平坦化的核心工藝，研磨顆粒團(tuán)聚、化學(xué)藥劑污染、微生物滋生等問(wèn)題，都會(huì)造成晶圓劃傷、凹坑、拋光速率不均等致命缺陷，一次過(guò)濾失誤就可能造成百萬(wàn)級(jí)損失。頗爾CMP工藝過(guò)濾解決方案，精準(zhǔn)控制漿料顆粒尺寸、形狀與濃度，將大顆粒密度穩(wěn)定在工藝參數(shù)范圍內(nèi)，有效減少各類制程缺陷，提升工藝控制與穩(wěn)定性。同時(shí)還能延長(zhǎng)過(guò)濾器壽命、提高漿料通量、降低漿料供應(yīng)系統(tǒng)維護(hù)頻率，在實(shí)現(xiàn)原子級(jí)平坦化的同時(shí)，為企業(yè)降低綜合擁有成本。

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02

深耕亞太市場(chǎng)：本土化布局與全球協(xié)同

在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)日益重要的背景下，頗爾始終把亞太市場(chǎng)作為戰(zhàn)略重點(diǎn)，特別是在中國(guó)和新加坡等地的布局，不僅顯示了頗爾對(duì)亞太市場(chǎng)的重視，也反映出其在本土化戰(zhàn)略上的堅(jiān)定決心。

近年來(lái)，頗爾加大了在亞太地區(qū)的投資，進(jìn)一步加強(qiáng)了本地研發(fā)、生產(chǎn)和供應(yīng)鏈的整合。2022年，頗爾投資1100萬(wàn)美元，擴(kuò)展了北京工廠的微電子產(chǎn)品產(chǎn)能，進(jìn)一步提升了其在亞太地區(qū)的市場(chǎng)響應(yīng)速度。2023年，頗爾在北京亦莊園區(qū)內(nèi)的Gaskleen和Profile II雙過(guò)濾器產(chǎn)線正式投產(chǎn)，為中國(guó)市場(chǎng)的需求提供了更精準(zhǔn)的支持。2024年，頗爾在新加坡建設(shè)了一座先進(jìn)的制造工廠，進(jìn)一步強(qiáng)化了其在亞太地區(qū)的供應(yīng)鏈體系。

這一系列投資不僅體現(xiàn)了頗爾在亞太市場(chǎng)深耕的戰(zhàn)略，也推動(dòng)了本土化技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品制造。通過(guò)在中國(guó)和新加坡的本土化生產(chǎn)，頗爾大大提高了供應(yīng)鏈的響應(yīng)速度和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力，確保能夠靈活應(yīng)對(duì)不斷變化的市場(chǎng)需求。

03

完善的客戶支持體系：從產(chǎn)品到服務(wù)

頗爾在提供創(chuàng)新技術(shù)解決方案的同時(shí)，還建立了全方位的客戶支持體系，幫助客戶解決從生產(chǎn)到維護(hù)的全過(guò)程中的技術(shù)挑戰(zhàn)。頗爾的SLS（銷售、實(shí)驗(yàn)室、服務(wù)）團(tuán)隊(duì)，憑借其在半導(dǎo)體工藝和過(guò)濾技術(shù)方面的深厚積累，能夠?yàn)榭蛻籼峁I(yè)的技術(shù)支持。

在產(chǎn)品層面，頗爾的全流程自主研發(fā)和生產(chǎn)能力為客戶提供了高品質(zhì)的保障。通過(guò)在北京工廠進(jìn)行微電子氣體和CMP過(guò)濾產(chǎn)品的本土化生產(chǎn)，頗爾不僅提升了供應(yīng)鏈效率，還確保了生產(chǎn)過(guò)程中技術(shù)問(wèn)題的及時(shí)解決。

此外，頗爾推出的CIP（客戶改進(jìn)項(xiàng)目）定制化方案，更是將技術(shù)支持推向了更高水平。在客戶遇到顆粒污染或離子污染問(wèn)題時(shí)，頗爾能夠迅速分析客戶工藝的具體需求，提供專屬的定制解決方案。這種深度的技術(shù)合作，不僅幫助客戶提升了生產(chǎn)良率，還大幅降低了生產(chǎn)成本。

04

回望頗爾八十年：傳承與創(chuàng)新

頗爾公司（Pall Corporation）成立于1946年，為過(guò)濾技術(shù)領(lǐng)域的先驅(qū)者，憑借八十年積累的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，不僅在工業(yè)過(guò)濾領(lǐng)域取得了領(lǐng)先地位，也為半導(dǎo)體制造行業(yè)的持續(xù)進(jìn)步提供了堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐。

自成立以來(lái)，頗爾通過(guò)不斷的技術(shù)積累和創(chuàng)新，成功推出了一系列領(lǐng)先的過(guò)濾技術(shù)和產(chǎn)品，成為全球半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心供應(yīng)商之一。在傳承基礎(chǔ)上，頗爾始終保持技術(shù)創(chuàng)新。

無(wú)論是傳統(tǒng)的工業(yè)過(guò)濾技術(shù)，還是如今的半導(dǎo)體先進(jìn)制造領(lǐng)域，頗爾都致力于推動(dòng)過(guò)濾精度的不斷突破。憑借長(zhǎng)期穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量和全球領(lǐng)先的研發(fā)體系，頗爾在行業(yè)內(nèi)建立了堅(jiān)實(shí)的品牌認(rèn)知和客戶信任，為未來(lái)的持續(xù)發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。

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頗爾亮相SEMICON 2026

2026年3月25日-27日，頗爾中國(guó)將攜半導(dǎo)體核心解決方案重磅亮相上海新國(guó)際博覽中心N4館4471展位，以專業(yè)技術(shù)實(shí)力為芯片制造保駕護(hù)航，邀您蒞臨這場(chǎng)行業(yè)盛會(huì)共話 “芯” 未來(lái)！

另外，4月16日頗爾中國(guó)還將舉辦一場(chǎng)線上的半導(dǎo)體過(guò)濾技術(shù)研討會(huì)，與會(huì)觀眾可以更加深入地了解到半導(dǎo)體過(guò)濾技術(shù)的突破，歡迎大家踴躍報(bào)名參與。

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