光刻機這行最諷刺的地方在于，越是“卡脖子”的東西，越不該虧錢。

可現(xiàn)實偏偏反著來。

日本尼康2025財年預虧850億日元，折合人民幣約36.8億元，還創(chuàng)了日本光刻機行業(yè)史上最大虧損紀錄。

很多人第一反應是，中國突圍光刻機，最先慌的應該是荷蘭ASML。

畢竟EUV是它的命根子。結果真相更扎心，ASML還在數(shù)錢，日本這位“昔日霸主”先頂不住，不是“被中國打敗”，而是“被時代清算”。

日企巨虧

2025財年，尼康原本預計能賺200億日元，最終卻巨虧850億日元，折算人民幣36.8億，創(chuàng)下百年最慘虧損。

虧損的核心原因，就是光刻機賣不動。

2025年，尼康只賣出9臺光刻機，全是中低端成熟制程設備，高端機型一臺沒賣。

反觀荷蘭ASML，同期賣出160臺，光高端EUV機型就賣了20多臺，單臺售價4億美元，入賬超100億美元，賺得盆滿缽滿。

不光尼康，日本另一大光刻機巨頭佳能，日子也不好過。

2025年全年，佳能的光刻機銷量也大幅下滑，營收直接縮水，利潤率一路走低，眼看就要步尼康的后塵。

尼康不光光刻機業(yè)務虧，其他業(yè)務也拉胯。

金屬3D打印機業(yè)務計提大額減值，面板用光刻機銷量大減40%，多個業(yè)務線都在賠錢，為了止血，尼康下調全年每股分紅，直接減了10日元。

昔日風光

還記得，日本光刻機曾是全球頂流，風光幾十年。

上世紀90年代干式光刻機時代，尼康和佳能幾乎壟斷全球市場，ASML還是沒名氣的小透明，根本沒資格跟尼康掰手腕。

當時，日本靠著光刻機、光刻膠這些核心設備，在全球半導體領域橫著走，賺得盆滿缽滿。

過去10年，全球光刻機市場基本被ASML、尼康、佳能三家瓜分。

其中ASML占了85%的市場份額，尼康占5%，佳能占10%。

而中國市場，過去10年里，80%的光刻機來自ASML，剩下20%來自日本的尼康和佳能。

有意思的是，中國從日本進口的光刻機數(shù)量占40%以上，花錢卻只占20%；從ASML進口數(shù)量不到60%，花錢卻占80%。

說白了，ASML賣給中國的是高價高端貨，日本賣的都是便宜的中低端機型，這也為后來日本企業(yè)虧損埋下伏筆。

當年臺積電提出浸潤式技術，能大幅提高光刻精度，這后來被證明是光刻機的核心發(fā)展方向。

可尼康偏偏拒絕了這個方案，舍不得前期投入的資金，覺得守著自己熟悉的領域更穩(wěn)妥，就這么錯過了風口。

而ASML抓住了這個機會，立馬和臺積電合作，推出了全球第一臺浸潤式光刻機，從此一路超車，慢慢壟斷了高端市場。

等尼康和佳能反應過來，再跟風研發(fā)浸潤式技術時，早就被ASML甩出去老遠，再也追不上了。

中國突圍

日本企業(yè)日子不好過，直接原因就是中國光刻機強勢突圍。

以前，中國在光刻機領域被日荷卡脖子，想買高端設備，既要花天價，還得看對方臉色，甚至被禁售。

美日荷聯(lián)手卡中國脖子，搞了不少小動作。

2023年，美國聯(lián)合日荷加碼管制，ASML全面停止向中國出口EUV光刻機，14納米以上DUV機型還要層層審批。

日本更狠，直接封鎖23類半導體設備出口，想卡死中國技術通道。

可他們萬萬沒想到，這種圍堵，反而成了中國光刻機發(fā)展的催化劑。

中國企業(yè)咬著牙砸錢搞研發(fā)，一步步突破核心技術，慢慢建立起了自己的半導體全產(chǎn)業(yè)鏈。

上海微電子的28納米DUV光刻機已實現(xiàn)量產(chǎn)，國產(chǎn)化率超70%，靠四重曝光技術還能支持14納米制程，良率高達95%。

這意味著，中國能自主生產(chǎn)成熟制程光刻機，不用再依賴進口。

不光是光刻機，光刻膠也實現(xiàn)了突破。

南大光電官宣的兩款ArF光刻膠，從原材料到制造，全實現(xiàn)了全國產(chǎn)化，去年還拿下了中芯國際的百噸級訂單，成功打入大規(guī)模商用市場。

要知道，之前全球70%的光刻膠市場，都被日本的信越化學和JSR壟斷，現(xiàn)在中國終于打破了這個局面。

中國半導體市場逼近5456億美元大關，芯片自給率達76%。

掃地機器人、智能電視、新能源車中控的核心芯片，很多都是中國造，不用再怕海外斷供，也不用為進口溢價買單。

因果閉環(huán)

中國光刻機一突圍，最先受沖擊的就是日本企業(yè)。

日本的光刻機、光刻膠，之前大半市場依賴中國，中國自己能造后，日本企業(yè)的訂單直接被搶走。

數(shù)據(jù)說話，2025年前三季度，日本對華半導體設備出口暴跌20%，信越化學和JSR的光刻膠，對華銷量下滑12%。Screen等日本設備廠商，44%收入依賴中國市場，受國產(chǎn)替代沖擊，2025年利潤率大降，日子越來越難。

尼康為了活下去，做了不少掙扎。

2024年推出一款浸潤式ArF光刻機，價格比同類產(chǎn)品便宜20%-30%，想靠低價搶市場，還計劃2028財年推出新款浸沒式ArF光刻機，適配ASML生態(tài)拉客戶。

更意外的是，尼康時隔25年，重新推出i-line光源光刻機，專門瞄準中國市場，還在和日本經(jīng)產(chǎn)省溝通出口合規(guī)性，想抓住中國市場這根救命稻草，卻難扭轉頹勢。

高端EUV領域，ASML已壟斷，尼康連入局資格都沒有；中低端領域，又被中國國產(chǎn)設備和佳能雙重擠壓，生存空間越來越小。

再加上全球半導體需求不穩(wěn)定，各大芯片廠縮減設備采購預算，光刻機銷量自然受影響。

中國光刻機越突圍，日本企業(yè)就越難受。

壟斷地位沒了，中國市場丟了，再怎么掙扎，也回不到當年的風光。

這場科技博弈里，中國硬生生撕開一道口子，日本只能吞下自己傲慢保守的苦果。