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逆風(fēng)十年,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備曙光初現(xiàn)

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2015年2月,美國(guó)商務(wù)部悄悄更新了一則聲明,五千多個(gè)單詞重點(diǎn)講了一件事:取消向中國(guó)出口等離子刻蝕機(jī)的限制。

國(guó)人對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備禁令的印象,大多始于2019年聲勢(shì)浩大的科技戰(zhàn),但早在互聯(lián)網(wǎng)還沒有記憶的1996年,美國(guó)就集結(jié)了“巴統(tǒng)” 17國(guó)在內(nèi)的33個(gè)國(guó)家,以《瓦森納協(xié)定》的形式確定了密不透風(fēng)的技術(shù)出口管控。

協(xié)定的3.B條款嚴(yán)格限制了芯片制造前、中、后道幾乎所有核心設(shè)備,其中就包括刻蝕機(jī)。

2015年的聲明是美國(guó)迄今唯一一次“讓步”,原因也很樸實(shí): “有一家非美國(guó)公司已經(jīng)有能力供應(yīng)足夠數(shù)量和同等質(zhì)量的刻蝕機(jī)?!?/p>

美國(guó)商務(wù)部的解除限制證明

這家“非美國(guó)公司”名叫中微公司,創(chuàng)始人尹志堯是應(yīng)用材料(AMAT)的刻蝕機(jī)事業(yè)部的一把手,后者是美國(guó)乃至全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司。

2003年,尹志堯代表應(yīng)用材料來(lái)中國(guó)參展,遇到高中校友江上舟。江上舟可謂上海半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的“總設(shè)計(jì)師”,主導(dǎo)了大批在美國(guó)工作的華人工程師回國(guó)創(chuàng)業(yè),上一個(gè)被江上舟請(qǐng)到上海的就是張汝京創(chuàng)辦的中芯國(guó)際。

應(yīng)用材料在展會(huì)上公開了其刻蝕機(jī)的內(nèi)部構(gòu)造,江上舟忍不住對(duì)尹志堯感嘆道: “看來(lái)造刻蝕機(jī)比造原子彈還復(fù)雜?!?/p>

一年后,中微公司落戶上海金橋,成立第三年量產(chǎn)首款刻蝕機(jī),第七年實(shí)現(xiàn)45nm介質(zhì)刻蝕機(jī)的國(guó)產(chǎn)突破,成為臺(tái)積電5nm產(chǎn)線上唯一一家中國(guó)大陸刻蝕機(jī)供應(yīng)商。

同一時(shí)期,國(guó)內(nèi)規(guī)模最大的半導(dǎo)體設(shè)備公司北方華創(chuàng)在北京成立,由七星電子與北方微電子重組合并而來(lái)。其中七星電子的歷史可以追溯到蘇聯(lián)援建時(shí)期,開發(fā)過(guò)中國(guó)第一臺(tái)擴(kuò)散爐和等離子刻蝕機(jī),繼承了上個(gè)世紀(jì)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)的幾乎全部遺產(chǎn)。

在“卡脖子”這個(gè)詞還沒普及的年代,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備已經(jīng)開始在逆風(fēng)中疾行了。

權(quán)力與秩序

2023年,光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML問鼎全球最大半導(dǎo)體設(shè)備制造商,蟬聯(lián)榜一大哥三十年的應(yīng)用材料淪為背景板。

經(jīng)歷多年科技戰(zhàn),光刻機(jī)已然成為“卡脖子”這一概念具體的表征。但作為人類迄今為止最復(fù)雜的工程,芯片制造的工序和環(huán)節(jié)極端復(fù)雜。一般來(lái)說(shuō),半導(dǎo)體制造有光刻、刻蝕、薄膜沉積“三大主設(shè)備”的說(shuō)法,三種設(shè)備占據(jù)整個(gè)市場(chǎng)六成以上的份額。

通俗來(lái)說(shuō),一顆芯片并不是被“光刻”出來(lái)的,而是“刻蝕”出來(lái)的。拿刻印章類比,光刻類似在印章上畫好草圖,刻蝕會(huì)把光刻標(biāo)記的草圖,通過(guò)物理或化學(xué)方法去除,類似用刀具刻出具體的圖案。

芯片制造的原理并不復(fù)雜,但高端制造業(yè)的核心在于對(duì)精度和誤差的控制。生產(chǎn)1厘米直徑的鋼管和生產(chǎn)1.00001厘米直徑的鋼管,后者的難度與利潤(rùn)比前者大上百倍千倍。

一塊硅晶圓變成芯片,所有的流程精度都在納米計(jì)量的區(qū)間游走,工匠精神含量遠(yuǎn)非搓壽司能望其項(xiàng)背。與光刻機(jī)類似,全球刻蝕設(shè)備由泛林、應(yīng)用材料和東京電子分而治之,三者幾乎壟斷了整個(gè)市場(chǎng)。

相比之下,薄膜沉積設(shè)備奮起多年,國(guó)產(chǎn)化率尚且爬升到35%,刻蝕機(jī)在20%徘徊,光刻機(jī)甚至不到3%。

芯片制程會(huì)跟隨摩爾定律進(jìn)步,但生產(chǎn)芯片的設(shè)備卻不受摩爾定律支配,很容易形成強(qiáng)者恒強(qiáng)的局面。因此,美國(guó)制造業(yè)雖然日常衰落,但在半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng),美國(guó)公司都快站不下了。

另一方面,芯片制造是一個(gè)非常年輕的產(chǎn)業(yè),在各個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備公司不斷出清整合的過(guò)程中,幸存者所積累的Know How會(huì)成為某種意義上的“標(biāo)準(zhǔn)”,進(jìn)一步提高了后來(lái)者的入場(chǎng)門檻。

俗話說(shuō)“一流企業(yè)做標(biāo)準(zhǔn)”,但標(biāo)準(zhǔn)并不是被“制定”出來(lái)的,而是在漫長(zhǎng)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中不斷磨合推敲,最終成為行業(yè)心照不宣的標(biāo)準(zhǔn)。

上世紀(jì)90年代,伴隨電子設(shè)備小型化和消費(fèi)電子市場(chǎng)的繁榮,芯片制造開始從垂直整合走向水平分工。

當(dāng)芯片公司不斷將生產(chǎn)環(huán)節(jié)外包出去,芯片制造流程不斷標(biāo)準(zhǔn)化,上游的設(shè)備制造商被動(dòng)或主動(dòng)地參與了標(biāo)準(zhǔn)的確立。

ASML創(chuàng)辦于1984年,光刻機(jī)已經(jīng)在美日廠商之間打了個(gè)來(lái)回。尼康的首臺(tái)商用步進(jìn)式光刻機(jī)NSR-1010G與“銷冠”GCA的DSW-4800針尖對(duì)麥芒,市場(chǎng)份額開始平起平坐。

上圖NSR-1010G,下圖DSW-4800

泛林80年代初發(fā)明了等離子刻蝕機(jī),確立了刻蝕機(jī)的頭把交椅;應(yīng)用材料憑借劃時(shí)代的CVD(化學(xué)氣象沉積)Precision 5000和PVD(物理氣相沉積)Endura 5500,在薄膜沉積一統(tǒng)江湖。

這個(gè)過(guò)程中,設(shè)備生產(chǎn)商會(huì)根據(jù)晶圓廠的生產(chǎn)方法確定投資方向,晶圓廠也會(huì)自發(fā)依照生產(chǎn)設(shè)備調(diào)整生產(chǎn)流程,大家心照不宣的“標(biāo)準(zhǔn)”就會(huì)逐漸形成?;跇?biāo)準(zhǔn)的強(qiáng)綁定關(guān)系,是一堵密不透風(fēng)的幕墻。

因此,半導(dǎo)體“后進(jìn)國(guó)”很容易淪為買票進(jìn)場(chǎng)的看客,直接引進(jìn)國(guó)外設(shè)備變成建立芯片產(chǎn)線最具性價(jià)比的方案,但也會(huì)為前者澆筑越來(lái)越厚的技術(shù)壁壘。

如果上不去牌桌,贏錢就是空談。

關(guān)關(guān)難過(guò)關(guān)關(guān)過(guò)

每個(gè)壟斷市場(chǎng)的設(shè)備巨頭的背后,都對(duì)應(yīng)著一個(gè)擁有絕對(duì)話語(yǔ)權(quán)的供應(yīng)鏈帝國(guó)。

2012年,ASML拿出一半的營(yíng)收,收購(gòu)了一家名叫Cymer的美國(guó)公司。后者是ASML的光源供應(yīng)商——通過(guò)每秒5萬(wàn)次二氧化碳激光轟擊液態(tài)錫,產(chǎn)生強(qiáng)度足夠大的EUV光源,通過(guò)多次鏡面反射,在晶圓上刻畫電路。這是美國(guó)限制EUV光刻機(jī)出口的技術(shù)源頭。

2016年,ASML再接再厲,收購(gòu)鏡片供應(yīng)商蔡司25%的股權(quán)。后者為ASML提供的鏡片是地球上最光滑的東西,負(fù)責(zé)為光源創(chuàng)造光路。

High-NA EUV光刻機(jī)鏡片,蔡司將其形容為“世界上最精確的鏡子”,圖片來(lái)源:蔡司

通過(guò)類似“讓利、共同研發(fā)、獨(dú)家供應(yīng)”三板斧[4],ASML將一家家零部件供應(yīng)商綁上戰(zhàn)船。時(shí)至今日,ASML EUV光刻機(jī)零部件個(gè)數(shù)已經(jīng)超過(guò)了10萬(wàn),背后是5100多個(gè)供應(yīng)商。

中微公司第一款刻蝕機(jī)的設(shè)計(jì)在2004年就已定稿,但尹智堯發(fā)現(xiàn),量產(chǎn)的最大困難在于找不到趁手的零部件供應(yīng)商[1]。

當(dāng)時(shí),中微刻蝕機(jī)采用了兩個(gè)反應(yīng)臺(tái)同時(shí)加工的設(shè)計(jì),刻蝕效率成倍提高,但這種設(shè)計(jì)意味著必須對(duì)零部件進(jìn)行重新設(shè)計(jì),問題由此產(chǎn)生。

一是經(jīng)過(guò)漫長(zhǎng)的整合,供應(yīng)商與設(shè)備生產(chǎn)商往往緊密綁定,類似ASML與Cymer的關(guān)系。這也是眾多“后進(jìn)生”遇到的共同問題:供應(yīng)商都與設(shè)備生產(chǎn)商緊密綁定,封死了后來(lái)者的路徑。

二是即便供應(yīng)上不受限制,也天然缺乏參與意愿。半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)高度集中,一家供應(yīng)商很可能90%的產(chǎn)品都對(duì)應(yīng)一個(gè)客戶。在這種情況下,供應(yīng)商為新客戶定制零部件,在商業(yè)上存在極大的不確定性。

2007年,中微的首臺(tái)刻蝕機(jī)歷時(shí)三年終于量產(chǎn),但直到2023年,也尚未實(shí)現(xiàn)零部件100%的國(guó)產(chǎn)化。

供應(yīng)鏈問題還沒解決完,還得應(yīng)付另一座大山壓頂:專利。

中微的首臺(tái)刻蝕機(jī)量產(chǎn)后,很快收到了來(lái)自“前同事”們的問候。應(yīng)用材料、泛林先后向中微提起專利訴訟。雖然因?yàn)橐緢蛱崆白隽藴?zhǔn)備,最終兩起訴訟分別以證據(jù)不足和專利無(wú)效結(jié)案[1]。但中微并非毫發(fā)無(wú)傷。

與應(yīng)用材料的訴訟歷時(shí)兩年半,律師費(fèi)就高達(dá)2500萬(wàn)美元[2];泛林?jǐn)≡V后又上訴,前后糾纏整整七年。緊接著又陷入和Veeco關(guān)于石墨盤的專利糾紛。尹智堯后來(lái)坦言,相對(duì)于勝訴的欣喜,感受到更多的是壓力。

有備而來(lái)的公司是少數(shù),死于專利擠兌的是多數(shù)。追逐者們即使排除萬(wàn)難量產(chǎn)了產(chǎn)品,大部分都會(huì)倒在這里,不是被賠款壓破了產(chǎn),就是打不過(guò)就加入——被巨頭收購(gòu)。

最后一個(gè)難關(guān)是說(shuō)服芯片制造商“試試”。設(shè)備關(guān)系到產(chǎn)線良率和單顆芯片成本,是芯片制造商的生殺線,因此在設(shè)備的選擇上沒有感情全是技術(shù),講了技術(shù)還得論可靠和穩(wěn)定性。

然而,當(dāng)“斷供”的屠刀襲來(lái),一切標(biāo)準(zhǔn)都得從長(zhǎng)計(jì)議。

遲到的禁令

2021年,全球半導(dǎo)體設(shè)備Top10迎來(lái)一位新面孔——韓國(guó)公司SEMES。

SEMES異軍突起的核心因素是日本的制裁:2019年,日本宣布限制向韓國(guó)出口光刻膠等芯片制造核心材料,設(shè)備雖然不在打擊范圍內(nèi),但不足20%的國(guó)產(chǎn)化率,成為韓國(guó)人的心腹大患。

此后三年,韓國(guó)巨頭開始緊急補(bǔ)課。以三星為代表,通過(guò)存儲(chǔ)芯片龐大的產(chǎn)能扶持本土設(shè)備廠,輻射范圍從CVD、測(cè)試機(jī)、清洗機(jī)到供氣系統(tǒng)、刻蝕機(jī)用的真空泵[5]。SEMES作為三星的全資子公司,自然是訂單管飽。

將SEMES的營(yíng)收堆進(jìn)Top10的訂單大多來(lái)自清洗機(jī)——一個(gè)僅占據(jù)整體市場(chǎng)5%的偏門領(lǐng)域。但三星壟斷全球的存儲(chǔ)芯片產(chǎn)能,硬生生催熟了SEMES的技術(shù)水平。

正在清洗晶圓的清洗機(jī);圖片來(lái)源:TDK

一年后,相似的劇情在中國(guó)上演。三大刻蝕設(shè)備生產(chǎn)商連夜將設(shè)備撤出中國(guó)工廠,恐慌情緒開始蔓延。這種情況下,沒有被制裁的企業(yè),也會(huì)形成一種“早晚被制裁”的預(yù)期,從而動(dòng)力尋求備選方案。

同時(shí),迅速增長(zhǎng)的芯片產(chǎn)能,恰好給國(guó)產(chǎn)設(shè)備提供了參與市場(chǎng)驗(yàn)證的空間。

一條先進(jìn)制程產(chǎn)線,設(shè)備并不一定全得先進(jìn)。被應(yīng)用在多個(gè)步驟的刻蝕機(jī),根據(jù)刻蝕對(duì)象(硅、金屬等)、線寬、厚度的不同,對(duì)設(shè)備的要求存在很大差異。一條14nm的產(chǎn)線可以與28nm產(chǎn)線共用一部分設(shè)備,這就給國(guó)產(chǎn)替代留出了空間。

而長(zhǎng)周期的驗(yàn)證過(guò)程,在代工廠“時(shí)間緊、任務(wù)重”的產(chǎn)能規(guī)劃面前,也變得不再難以逾越。截至2023年底,中國(guó)大陸在建12英寸晶圓廠24座,規(guī)劃興建或改造13座[7];據(jù)SEMI,2024年全球有42座晶圓廠投產(chǎn),中國(guó)大陸占了其中18個(gè)。

耐人尋味的是,“撤離中國(guó)工廠”后,涉事三巨頭在中國(guó)大陸的營(yíng)收占比不降反增,普遍從30%左右增長(zhǎng)到如今的40%以上,ASML和東京電子甚至直逼50%。

競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的武器從封鎖變成了傾銷,不失為一種褒獎(jiǎng)。

而在高端沉積設(shè)備ALD(原子層沉積)的追趕上,國(guó)內(nèi)設(shè)備公司也取得了不錯(cuò)的進(jìn)展。ALD的特點(diǎn)是將材料以單層原子的形式,一層一層沉積在襯底表面,在28nm以下制程不可或缺。

2022年,微導(dǎo)納米宣布量產(chǎn)國(guó)內(nèi)第一臺(tái)High-K ALD,并應(yīng)用于國(guó)內(nèi)某代工廠28nm產(chǎn)線。2024年,北方華創(chuàng)一口氣推出三款A(yù)LD。直到去年9月,美國(guó)政府開始將ALD視為重點(diǎn)打擊對(duì)象,但顯然為時(shí)已晚。

時(shí)至今日,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備在全球市場(chǎng)的份額仍然以個(gè)位數(shù)計(jì)量,諸多設(shè)備種類的國(guó)產(chǎn)化率依然還處于偏低水平。

但看似微小的突破,在二十年前也被視作難以逾越的高山。

尾聲

2021年,時(shí)任ASML總裁溫寧克被問及地緣政治對(duì)中國(guó)自主設(shè)備的影響,他表示: “物理規(guī)則是一樣的,封鎖只會(huì)加速中國(guó)自主研發(fā)的速度?!?/p>

半導(dǎo)體設(shè)備雖然是一個(gè)先發(fā)者壟斷的市場(chǎng),但它同時(shí)也是一個(gè)極端成熟的市場(chǎng)。市場(chǎng)規(guī)模、工藝流程、技術(shù)原理與技術(shù)實(shí)現(xiàn)路徑都非常確定,能限制后發(fā)者的不是政府文件,而是物理學(xué)。

人工智能這類前沿技術(shù),反倒處處彌漫著“戰(zhàn)爭(zhēng)迷霧”,因?yàn)槠浼夹g(shù)發(fā)展路線、應(yīng)用落地方向、市場(chǎng)規(guī)模與投資回報(bào)率都不甚清晰,市場(chǎng)參與者反而需要面對(duì)極大的不確定性。

另一方面,芯片制造的分工極端復(fù)雜,各個(gè)環(huán)節(jié)相互依存,彼此依賴。這也是為什么江上舟會(huì)說(shuō), “我們不一定要樣樣精通,只要有幾樣走在國(guó)外前面,就可以走出我們的發(fā)展道路?!?/p>

可惜江上舟在2011年因癌癥辭世,并未看到自己播撒的種子在夾縫中生長(zhǎng)萌芽。去年7月,80歲的尹志堯做客央視節(jié)目[9],依然保持著樂觀: “我并沒有看到技術(shù)上有越不過(guò)去的坎?!?/p>

參考資料

[1] 年輕的挑戰(zhàn)者:中微公司的天時(shí)、地利、人和,橙子不糊涂

[2] 專訪中微公司創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)尹志堯:花甲再創(chuàng)業(yè),只為不再“芯”痛,上財(cái)商學(xué)評(píng)論

[3] 光刻巨人:ASML崛起之路,瑞尼·雷吉梅克/金捷幡譯

[4] 光刻機(jī)之戰(zhàn),尼康輸給ASML的真相解析,Monoist

[5] 日本“斷供”兩年后,三星猛砸3800億,布局14家半導(dǎo)體設(shè)備和材料公司,芯東西

[6] 美系半導(dǎo)體設(shè)備廠商撤離中國(guó),工程師“連客戶電話都不能接!”電子工程專輯

[7] 2023年中國(guó)晶圓制造產(chǎn)線和產(chǎn)能情況,芯思想研究院

[8] 未曾忘卻的記憶:回旋在酒仙橋地區(qū)的集成電路夢(mèng),朱貽瑋

[9] 中微公司尹志堯:從設(shè)備角度我沒看到瓶頸,技術(shù)上沒啥過(guò)不去的坎兒,央廣網(wǎng)

編輯:李墨天

視覺設(shè)計(jì):疏睿

責(zé)任編輯:李墨天

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2025-12-25 20:46:05
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2025-12-23 19:13:59
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2025-12-25 18:23:17
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2025-12-26 07:05:06
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