近年來(lái)，中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得的一些突破，尤其是7納米（7nm）工藝的進(jìn)展，一度成為輿論焦點(diǎn)。特別是華為Mate 60系列智能機(jī)搭載由中芯國(guó)際代工的7nm芯片，讓國(guó)內(nèi)外媒體都驚呼：“中國(guó)芯真正來(lái)了”。但與此同時(shí)，部分日本專家卻急于唱衰，聲稱中國(guó)在7nm節(jié)點(diǎn)上雖然“看起來(lái)很光鮮”，實(shí)則依然困在技術(shù)瓶頸，離開外部供應(yīng)鏈支撐就會(huì)“瞬間停擺”。這種論調(diào)不僅反映了日本半導(dǎo)體界對(duì)產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的憂慮，也折射出全球半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)中復(fù)雜的技術(shù)與博弈。

在常規(guī)認(rèn)知中，7nm工藝一直被視為標(biāo)志性節(jié)點(diǎn)：相比更老的14nm工藝，它能實(shí)現(xiàn)更高的晶體管密度、更低能耗和更強(qiáng)性能。這一技術(shù)曾長(zhǎng)期被臺(tái)積電、三星等國(guó)際領(lǐng)軍企業(yè)壟斷。中國(guó)企業(yè)尤其是中芯國(guó)際在國(guó)內(nèi)外嚴(yán)格出口管制下，通過(guò)深紫外（DUV）光刻機(jī)+多重曝光技術(shù)等路徑，成功推出等效7nm芯片，并且在實(shí)際產(chǎn)品中出現(xiàn)了量產(chǎn)跡象。這意味著，在極端不利的外部條件下，中國(guó)的半導(dǎo)體制造能力確實(shí)實(shí)現(xiàn)了里程碑式進(jìn)展。

國(guó)內(nèi)公開報(bào)道顯示，中芯在推進(jìn)7nm驗(yàn)證線時(shí)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)良率顯著提升，一些報(bào)道甚至提到良率已經(jīng)從早期的30%、40%一路提升到80%以上，這對(duì)于如此先進(jìn)制程來(lái)說(shuō)是一個(gè)重要的技術(shù)門檻突破。

相關(guān)企業(yè)也曾明確表示，7nm工藝對(duì)于滿足當(dāng)前大部分高性能應(yīng)用已經(jīng)是足夠的，顯示出中國(guó)企業(yè)在技術(shù)應(yīng)用層面的成熟思考。

可以說(shuō)，這樣的突破并非空穴來(lái)風(fēng)，而是中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長(zhǎng)期積累、政府支持與工程師堅(jiān)持的結(jié)果。

就在中國(guó)內(nèi)部為7nm突破熱議的時(shí)候，日本部分專家卻在媒體上公開論斷：中國(guó)的7nm工藝可能已經(jīng)是“極限”，難以進(jìn)一步突破；并聲稱若脫離外部的全球供應(yīng)鏈，無(wú)論是設(shè)備還是材料，中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)都會(huì)“瞬間停擺”。這種論調(diào)無(wú)疑帶有濃厚的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)色彩。

眾所周知，先進(jìn)制程芯片的制造不僅需要晶圓廠，還依賴一整套包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、高純材料等設(shè)備鏈條。盡管中芯國(guó)際等企業(yè)在某些工藝上取得了進(jìn)展，但整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵環(huán)節(jié)仍有外部依賴。尤其是在極紫外（EUV）光刻機(jī)方面，全球僅有荷蘭ASML能生產(chǎn)，而中國(guó)至今無(wú)法獲得這類設(shè)備。即便7nm可以通過(guò)DUV多重曝光“迂回實(shí)現(xiàn)”，若要進(jìn)一步進(jìn)入5nm、3nm等更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，EUV將必不可少。

日本在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域長(zhǎng)期擁有優(yōu)勢(shì)，例如光刻膠等產(chǎn)品的供應(yīng)份額極高。盡管中國(guó)正在推動(dòng)本土替代，但在部分高端材料和設(shè)備領(lǐng)域，日本企業(yè)依然具備深厚的積累，這讓一些日本專家認(rèn)為中國(guó)若脫離這些供應(yīng)鏈支撐，會(huì)遇到巨大困難。這一觀點(diǎn)雖然帶有競(jìng)爭(zhēng)立場(chǎng)，但從產(chǎn)業(yè)邏輯來(lái)看，確實(shí)表達(dá)了一個(gè)現(xiàn)實(shí)：全球先進(jìn)芯片制造至今仍是分工協(xié)作的產(chǎn)物，沒(méi)有哪一個(gè)國(guó)家已完全脫離國(guó)際供應(yīng)鏈。

我們不能因?yàn)榕u(píng)就否定中國(guó)的努力，同樣也不該盲目樂(lè)觀而忽視短板。現(xiàn)實(shí)是，中國(guó)在多個(gè)關(guān)鍵領(lǐng)域仍有明顯差距：

國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)如臺(tái)積電已經(jīng)進(jìn)入3nm甚至更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，而中國(guó)企業(yè)的主力仍集中在7nm及成熟制程。先進(jìn)節(jié)點(diǎn)之間的差距并非只是數(shù)字游戲，而是涉及光刻、材料、EDA設(shè)計(jì)軟件等多個(gè)領(lǐng)域的深層次能力。

雖然國(guó)產(chǎn)設(shè)備和材料的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程提速，但整體依賴仍在。例如高純度化學(xué)品、極紫外材料等高端產(chǎn)品仍有缺口，這些往往是別人“不賣給你”時(shí)最致命的“卡脖子”環(huán)節(jié)。

在全球視野下，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不僅僅是制造一個(gè)芯片，更要有完善的設(shè)計(jì)生態(tài)、高效的工藝迭代路徑與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)機(jī)制。中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)正在快速積累，但與成熟體系相比仍有差距。這些短板，不是失敗，而是歷史上每一個(gè)后來(lái)者必經(jīng)的階段。

中國(guó)在7nm工藝上取得突破，這無(wú)疑是中國(guó)科技史上的一件大事——它不是簡(jiǎn)單的“數(shù)字進(jìn)位”，而是在極端不利的國(guó)際環(huán)境下，用勤奮與智慧取得的成果。即便日本專家認(rèn)為中國(guó)的7nm突破“光鮮背后問(wèn)題很多”，那也恰恰說(shuō)明中國(guó)的進(jìn)步已經(jīng)讓競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手緊張。批評(píng)和威脅，并不能否認(rèn)中國(guó)科技力量的成長(zhǎng)。

短板并不可怕，可怕的是自滿與停滯。現(xiàn)在中國(guó)在補(bǔ)短板、強(qiáng)化全鏈條能力、推動(dòng)真正自主創(chuàng)新的道路上，已經(jīng)邁出了實(shí)質(zhì)性步伐。未來(lái)，當(dāng)中國(guó)能在關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)上實(shí)現(xiàn)“脫離別人、獨(dú)立自強(qiáng)”的突破時(shí)，不僅是產(chǎn)業(yè)層面的勝利，更將是國(guó)家科技自信的體現(xiàn)。

讓我們既驕傲于7nm的成績(jī)，也清醒面對(duì)前方的挑戰(zhàn)——在競(jìng)爭(zhēng)與合作的全球舞臺(tái)上，中國(guó)芯，責(zé)無(wú)旁貸。

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