【文/觀察者網(wǎng) 柳白】芯片制造迎來重大突破？路透社2月26日引述荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）一位高管的話透露，該公司新一代芯片制造設(shè)備已準(zhǔn)備就緒，可交付芯片制造商投入大規(guī)模使用，這對(duì)芯片行業(yè)而言是重大進(jìn)展。

阿斯麥?zhǔn)侨蛭ㄒ荒苌a(chǎn)商用極紫外（EUV）光刻機(jī)廠商，而EUV設(shè)備是芯片制造商不可或缺的關(guān)鍵裝備。

阿斯麥數(shù)據(jù)顯示，這款被稱為高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High-NA EUV）的新一代設(shè)備，可省去芯片制造中多個(gè)成本高昂、工藝復(fù)雜的步驟，幫助臺(tái)積電、英特爾等企業(yè)生產(chǎn)性能更強(qiáng)、能效更高的芯片，標(biāo)志人工智能（AI）芯片生產(chǎn)迎來關(guān)鍵轉(zhuǎn)變。

阿斯麥?zhǔn)紫夹g(shù)官馬爾科·皮特斯向路透社表示，公司計(jì)劃26日在一場(chǎng)技術(shù)會(huì)議上公布新設(shè)備相關(guān)數(shù)據(jù)，這標(biāo)志著一個(gè)關(guān)鍵里程碑。

據(jù)悉，阿斯麥耗時(shí)多年才研發(fā)出這款造價(jià)高昂的新一代設(shè)備，芯片廠商也一直在評(píng)估在何種階段將其用于大規(guī)模生產(chǎn)在經(jīng)濟(jì)上才具備可行性。

但由于當(dāng)前一代EUV設(shè)備在制造復(fù)雜AI芯片方面已逼近技術(shù)極限，新一代設(shè)備對(duì)AI行業(yè)至關(guān)重要。

阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī) 阿斯麥官網(wǎng)

公開資料顯示，高數(shù)值孔徑EUV采用0.55數(shù)值孔徑光學(xué)系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)8納米分辨率，支持3納米及以下制程工藝，并為1納米節(jié)點(diǎn)提供技術(shù)儲(chǔ)備。它能助力改進(jìn)OpenAI的ChatGPT這樣的聊天機(jī)器人，并幫助芯片廠商按計(jì)劃推進(jìn)AI芯片路線圖，以滿足不斷激增的市場(chǎng)需求。

不過需要注意的是，這種新設(shè)備售價(jià)約4億美元，幾乎是初代EUV設(shè)備的兩倍。

皮特斯表示，根據(jù)阿斯麥的數(shù)據(jù)，新一代設(shè)備停機(jī)時(shí)間已大幅減少，累計(jì)生產(chǎn)了50萬片餐盤大小的硅片，且能在芯片上刻畫出精度足夠的電路圖案。這三項(xiàng)指標(biāo)共同表明，設(shè)備已具備量產(chǎn)條件。

“我認(rèn)為，從設(shè)備已經(jīng)歷的驗(yàn)證周期數(shù)量來看，現(xiàn)在已到關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)?！彼劶翱蛻魧?duì)這些機(jī)器進(jìn)行的測(cè)試次數(shù)時(shí)說。

盡管技術(shù)已就緒，但企業(yè)仍需兩到三年時(shí)間完成充分測(cè)試與開發(fā)，才能將其整合進(jìn)生產(chǎn)線。

“（芯片廠商）已掌握對(duì)這些設(shè)備進(jìn)行認(rèn)證的全部技術(shù)?！逼ぬ厮拐f。

他補(bǔ)充道，目前這些設(shè)備正常運(yùn)行率約80%，公司計(jì)劃在今年年底提升至90%。阿斯麥即將公布的成像數(shù)據(jù)足以讓客戶相信，可用一道高數(shù)值孔徑工序替代多道老一代設(shè)備工序。設(shè)備已加工了50萬片晶圓，讓公司得以解決大量技術(shù)難題。

隨著全球芯片市場(chǎng)加大產(chǎn)能以滿足AI和數(shù)據(jù)中心需求，阿斯麥的訂單數(shù)量超出預(yù)期，對(duì)芯片制造設(shè)備的需求也在增長(zhǎng)。2025年第四季度新增訂單躍升至創(chuàng)紀(jì)錄的132億歐元，其中超過一半是EUV光刻機(jī)，遠(yuǎn)超市場(chǎng)預(yù)期。

作為全球最大芯片制造設(shè)備買家的中國(guó)，依然是阿斯麥最主要的客戶，占到該公司2025年銷售額的33%，是阿斯麥最大的單一市場(chǎng)。但在美國(guó)的出口限制措施影響下，阿斯麥預(yù)計(jì)，2026年中國(guó)占銷售額的比例將降至20%。

面對(duì)光刻技術(shù)瓶頸，中國(guó)企業(yè)正在努力攻關(guān)，以實(shí)現(xiàn)自給自足。香港英文媒體《南華早報(bào)》注意到，中國(guó)本土企業(yè)現(xiàn)在致力于自行研制DUV和EUV光刻機(jī)，旨在保障中國(guó)半導(dǎo)體供應(yīng)鏈并突破美國(guó)的限制。

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