導(dǎo)讀：全面反擊！拿光刻膠反復(fù)“挑釁”的日本，如今徹底沒后路了

若失去日本光刻膠供應(yīng)，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)就會(huì)全面陷入癱瘓？數(shù)月之前還宣稱要讓我國“難堪”的日本媒體，如今恐已啞口無言。

日前，我國發(fā)布2026年第2號(hào)公告，正式對(duì)原產(chǎn)于日本的半導(dǎo)體材料啟動(dòng)反傾銷立案調(diào)查。值得著重指出的是，這一舉措并非主動(dòng)“出擊”，而是合理“反制”。就在去年年末，日本便傳出將停止向中國供應(yīng)光刻膠的消息。

1、光刻膠，日本臆想的“拿捏利器”

三星集團(tuán)首席執(zhí)行官曾坦率表示：缺乏光刻膠的光刻機(jī)，無異于一堆廢鐵。在芯片制作過程中，光刻膠需首先均勻覆蓋于硅片表面，隨后由光刻機(jī)將掩膜板上的電路圖復(fù)刻其中，進(jìn)而產(chǎn)出包含上百億個(gè)晶體管的芯片。由此可見，光刻膠性能越優(yōu)，芯片的精度也就越高。

臺(tái)積電曾因所采用的光刻膠性能欠佳，致使芯片良率下降35%，單日損失近2億美元；三星初代高精密芯片的良率也因此僅達(dá)20%，累計(jì)損失近35億美元。

從KrF（波長248nm）、ArF（193nm）到EUV（＜13.5nm），光刻膠的性能逐步提升，相應(yīng)的制造技術(shù)也愈發(fā)復(fù)雜。而日本掌握著全階段的光刻膠制造技術(shù)。早在20世紀(jì)70年代，日本便開始對(duì)光刻膠產(chǎn)業(yè)進(jìn)行戰(zhàn)略布局，如今已成為該領(lǐng)域?qū)＠暾?qǐng)數(shù)量最多的國家。憑借技術(shù)專利和先進(jìn)技術(shù)積累所構(gòu)筑的壁壘，日本在光刻膠市場(chǎng)始終保持著強(qiáng)勁的競(jìng)爭(zhēng)力。

日本經(jīng)濟(jì)新聞社的一項(xiàng)調(diào)查顯示，在世界排名前五的光刻膠企業(yè)中，日本企業(yè)占據(jù)4席。在成熟制程光刻膠市場(chǎng)，日企的市場(chǎng)份額近80%，極紫外光刻等高精尖市場(chǎng)幾乎被其壟斷。包括三星、臺(tái)積電、英特爾在內(nèi)的多家半導(dǎo)體廠商，均為其長期客戶。也正因如此，才有了日媒所謂“斷供即癱瘓”的論調(diào)。

2、中國制造，從不會(huì)被拿捏

然而，在關(guān)鍵材料方面，我國始終不會(huì)完全仰賴外部供給。我國涉足光刻膠產(chǎn)業(yè)已久，且已取得一定成就。2008年，光刻膠被列入“02專項(xiàng)”，開啟了國產(chǎn)化攻關(guān)的征程。此后，國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金亦為其投入了大量建設(shè)資金。

截至目前，我國已成功自主設(shè)計(jì)出光刻膠配方，所推出的T150A光刻膠產(chǎn)品已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證。浸沒式ArF光刻膠已進(jìn)入科技驗(yàn)證階段；KrF光刻膠實(shí)現(xiàn)了全鏈條自主可控；相關(guān)團(tuán)隊(duì)已步入EUV光刻膠研發(fā)階段。對(duì)于光刻膠斷供該如何應(yīng)對(duì)這一問題，我國已憑借實(shí)際成果給出了明確答案。

不僅在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，近年來，在生物科技領(lǐng)域，我國同樣展現(xiàn)出自主研發(fā)、深化國產(chǎn)化的顯著發(fā)展趨勢(shì)。

3、不只應(yīng)對(duì)，還將反制

此前，白宮實(shí)施對(duì)芯片出口限制措施，而我國則以稀土管制予以回應(yīng)。此舉最終不僅促使中國加快研發(fā)國產(chǎn)替代芯片的步伐，而且光刻機(jī)制程也相繼實(shí)現(xiàn)突破。

當(dāng)加拿大對(duì)中國加征關(guān)稅時(shí)，中國將油菜籽訂單轉(zhuǎn)至澳大利亞。如今，加拿大的油菜籽積壓量與日俱增，價(jià)格卻持續(xù)走低。

在當(dāng)今的國際貿(mào)易市場(chǎng)中，規(guī)則已漸趨明晰。唯有秉持平等合作的原則，方能實(shí)現(xiàn)互利共贏。任何妄圖通過壟斷手段獲取利益的行徑，最終都不過是在傷害對(duì)手的同時(shí)，也給自己造成了相當(dāng)程度的損失，可謂“傷敵一千，自損八百”。

展望未來，中國的自主化進(jìn)程必將不斷加速，技術(shù)先進(jìn)程度也會(huì)日益提升。外部各方的抉擇，在更大程度上是對(duì)自身未來發(fā)展道路的選擇。