2026 年 4 月 1 日，尼康集團會長兼 CEO 馬立稔和（Toshikazu Umatate）卸任。接替他出任社長兼 CEO 的是此前負責醫(yī)療健康和光學技術(shù)的大村泰弘，現(xiàn)任社長兼 COO 德成旨亮則轉(zhuǎn)任會長。尼康在 2 月 12 日的董事會上通過了這一人事方案，稱之為“配合新中期經(jīng)營計劃的領(lǐng)導層調(diào)整”。

但在外界看來，這絕非一次從容的交接。截至 2026 年 3 月結(jié)束的財年，尼康預計錄得約 1,000 億日元的營業(yè)虧損和約 850 億日元的凈虧損。這是這家創(chuàng)立于 1917 年的光學企業(yè)有史以來最糟糕的財務表現(xiàn)。第三季度單季凈虧損就達到 925 億日元，一年前同期還有 33 億日元的盈利。

圖丨馬立稔和（來源：Nikon）

巨虧的直接原因是一筆高達 906 億日元的減值損失，來自尼康 2022 年收購的德國金屬 3D 打印公司 SLM Solutions。尼康承認，SLM 未來的銷售增長將遠低于收購時的預期。但減值之外，公司的核心精機事業(yè)（半導體和 FPD 光刻設(shè)備）同樣在經(jīng)歷庫存減記和訂單萎縮。即便剔除一次性因素，尼康本財年仍預計出現(xiàn)約 100 億日元的營業(yè)虧損。

2025 年度上半年，尼康的半導體光刻機僅售出 9 臺，全部是成熟制程的 DUV（深紫外）設(shè)備。同一時期，ASML 出貨約 160 臺，其中包括約 20 臺 EUV（極紫外）光刻機。兩家公司曾經(jīng)是勢均力敵的對手，如今這個出貨比已經(jīng)沒有什么可比性了。

馬立稔和在尼康的職業(yè)生涯跨越了將近四十年，幾乎全部圍繞半導體光刻機展開。早在 2006 年，他就以精機事業(yè)部執(zhí)行役員的身份代表尼康出席與新思科技（Synopsys）的聯(lián)合技術(shù)發(fā)布會，討論 45nm 工藝節(jié)點的光刻仿真優(yōu)化。

2014 年至 2019 年間，他擔任半導體光刻事業(yè)部的高級副總裁兼總經(jīng)理，直接管理這項業(yè)務的研發(fā)和銷售。2015 年尼康獲得英特爾“最佳品質(zhì)供應商”獎時，站出來代表公司致辭的也是他。此后他先升任 CTO，2019 年出任社長兼 CEO，2024 年 4 月又兼任會長。

尼康內(nèi)部沒有誰比馬立稔和更深地扎根于光刻機業(yè)務。這既意味著他對技術(shù)細節(jié)有著極深的理解，也意味著尼康光刻機在過去二十年間的戰(zhàn)略走向，他始終是核心參與者。

故事要從尼康光刻機最風光的年代說起。1980 年代到 1990 年代末，尼康是這個領(lǐng)域無可爭議的霸主。市場份額最高時超過 50%，英特爾、IBM、AMD、德州儀器都是它的客戶。尼康 1980 年推出第一臺商用半導體光刻機后，憑借在光學鏡頭和精密機械上的積累，在此后二十年里穩(wěn)坐行業(yè)第一。1982 年成立的 Nikon Precision 把服務前線直接設(shè)在硅谷，美國芯片廠商排著隊等設(shè)備交付。

1984 年，ASML 在荷蘭由飛利浦實驗室與 ASM International 合資成立，31 個人擠在飛利浦總部旁邊的臨時板房里辦公。之后整整十六年，ASML 的份額長期不超過 10%，在尼康面前幾乎沒有存在感。

轉(zhuǎn)折從 2002 年開始。當時光刻機行業(yè)遇到了一個集體性的技術(shù)瓶頸：193nm 波長的 ArF 光源潛力已經(jīng)逼近極限，而業(yè)界寄予厚望的下一代 157nm 光源，研發(fā)進展緩慢，配套的 CaF? 透鏡材料成本極高。所有主要廠商，包括尼康、佳能、IBM 等都在 157nm 干式路線上投入了大量資源。

2002 年夏天，時任臺積電研發(fā)高管的林本堅（Burn J. Lin）在 SEMATECH 主辦的 157nm 微影研討會上做了一次偏離預定主題的演講。他原本被安排討論如何用浸沒技術(shù)延長 157nm 光刻的壽命，但他在演講中直接指出 157nm 路線的技術(shù)挑戰(zhàn)過于嚴峻，轉(zhuǎn)而提議將浸沒技術(shù)應用于已經(jīng)成熟的 193nm 平臺。用水（折射率約 1.44）替代空氣填充鏡頭與晶圓之間的空隙，可以將 193nm 光源的等效波長壓縮到約 134nm，不需要開發(fā)新光源就能大幅提升分辨率。

圖丨林本堅（來源：Graduate Institute of Photonics and Optoe）

這個方案遇到了廣泛的懷疑。當時行業(yè)的主流共識仍然錨定在 157nm 干式路線上，各大廠商已經(jīng)投入了數(shù)億美元的研發(fā)費用。浸沒式意味著推翻既有路線，接受沉沒成本。尼康也不例外，它在 157nm 路線上的投入尤為深重。

ASML 是當時少數(shù)愿意認真對待浸沒式的公司之一。作為市場追趕者，ASML 在既有路線上和尼康正面競爭并不占優(yōu)勢，一條新技術(shù)路線反而可能改變格局。2003 年，ASML 向客戶交付了第一臺浸沒式光刻機原型 TWINSCAN XT:1150i。同年 12 月，臺積電成為全球第一家正式下單 ASML 浸沒式光刻機的芯片制造商。

尼康的反應明顯慢了一拍。它的第一臺浸沒式原型機直到 2004 年 10 月才完成，比 ASML 晚了將近兩年。佳能更干脆，始終沒有交付過浸沒式產(chǎn)品。

兩年的時間差在半導體行業(yè)足以改變競爭格局。ASML 的浸沒式光刻機是在成熟的 193nm 平臺上改進而來，客戶切換成本低、系統(tǒng)穩(wěn)定性好。尼康同期力推的 157nm 干式光刻機則是全新架構(gòu)的產(chǎn)品，市場接受度遠不及預期。到 2009 年，ASML 的全球市場份額飆升至約 70%，尼康從行業(yè)龍頭變成了跟隨者。

浸沒式之戰(zhàn)的失利已經(jīng)很痛，但真正讓尼康喪失翻盤可能的，是接下來在 EUV（極紫外光刻）領(lǐng)域的出局。

浸沒式光刻的潛力終歸有限。要制造 7nm 及以下的先進制程芯片，行業(yè)需要波長更短的光源。EUV 使用 13.5nm 波長的極紫外光，分辨率遠超 193nm 浸沒式，被視為延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵技術(shù)。

尼康和日本政府都把 EUV 看作必須拿下的制高點。馬立稔和此時已經(jīng)成長為尼康光刻技術(shù)團隊的核心管理者，參與主導了尼康的 EUV 預研。日本政府以經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省為主導，投入數(shù)百億日元資金，聯(lián)合尼康、佳能、東京電子、信越化學和多所大學，組建了龐大的產(chǎn)官學攻關(guān)體系。這條路線的基本思路是集中國內(nèi)力量、垂直整合、自主研發(fā)。

但這個體系從一開始就面臨一個結(jié)構(gòu)性問題：尼康被排除在了美國主導的 EUV 核心技術(shù)圈之外。

1997 年，英特爾聯(lián)合 AMD、摩托羅拉等美國芯片廠商，與美國能源部下屬的桑迪亞、勞倫斯利弗莫爾和勞倫斯伯克利三大國家實驗室合作，成立了 EUV LLC 聯(lián)盟，投入約 2.5 億美元進行 EUV 基礎(chǔ)技術(shù)研究。

英特爾作為聯(lián)盟中最大的出資方，本來希望把尼康也拉進來。但美國國會和能源部對將納稅人資助的研究成果轉(zhuǎn)讓給日本企業(yè)高度警惕，1980 年代日本半導體產(chǎn)業(yè)對美國造成的沖擊仍然是鮮明的記憶。最終，ASML 被允許加入聯(lián)盟并獲得 EUV 技術(shù)的許可授權(quán)，條件是承諾在美國投資和采購；尼康和佳能則被拒之門外。

ASML 拿到入場券后步步推進：2001 年收購美國光刻設(shè)備商 SVG，獲得更多 EUV 知識產(chǎn)權(quán)；與德國蔡司合作開發(fā) EUV 光學系統(tǒng)；2012 年收購美國光源公司 Cymer。同年，英特爾、三星、臺積電三大客戶向 ASML 直接注資超過 60 億歐元，幫助其加速 EUV 商用化，這種由客戶出錢扶持供應商的模式，在半導體設(shè)備行業(yè)也是史無前例。

尼康走的是另一條路?？咳毡緡鴥?nèi)的力量自主研發(fā)，既沒有全球化供應鏈的配合，也沒有頂級客戶的真金白銀。2007 年前后，尼康確實造出了 EUV 光刻機的原型機，但始終未能達到可商用的技術(shù)標準。

據(jù) CSET（喬治城大學安全與新興技術(shù)中心）2024 年發(fā)布的研究報告，到 2011 年前后，EUV 開發(fā)成本已經(jīng)飆升到尼康難以獨立承受的程度，公司選擇退出 EUV 的商用化開發(fā)。ASML 也曾在這條路上燒錢到幾乎斷糧，但它有三大客戶兜底，有美國國家實驗室的技術(shù)積累，有蔡司和 Cymer 的配套，而尼康沒有這些。

至此，尼康在先進制程光刻設(shè)備市場上的競爭資格實質(zhì)性終結(jié)。ASML 成為全球唯一的 EUV 光刻機供應商。臺積電、三星、英特爾要推進 7nm、5nm、3nm 制程，只能找 ASML 買設(shè)備。這個市場里不再有尼康的位置。

馬立稔和在升任 CEO 之后，試圖為尼康尋找光刻機之外的增長空間。在最知名的影像業(yè)務上，其任期內(nèi)尼康的 Z 卡口無反相機產(chǎn)品線持續(xù)擴展，Z8、Zf、Z6III 等機型在全球市場都取得了不錯的成績，2025 財年影像產(chǎn)品營收達到 2,953 億日元，同比增長 5.6%，已經(jīng)超過精機事業(yè)成為集團最大的收入來源。

2024 年，尼康又斥資約 85 百萬美元收購了美國電影攝影機品牌 RED Digital Cinema，將 RED 的色彩科學和編碼技術(shù)引入 Z 卡口生態(tài)，隨后推出了融合兩家技術(shù)的 ZR 數(shù)字電影攝影機，試圖打入此前被索尼、佳能和 ARRI 主導的專業(yè)影視制作市場。

但在戰(zhàn)略布局上，馬立稔和押得更重的賭注是 3D 打印。2022 年，尼康斥資約 622 億日元收購德國金屬 3D 打印企業(yè) SLM Solutions，押注數(shù)字制造領(lǐng)域。這筆收購被定位為公司戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型的支點，目標是在航空航天和國防領(lǐng)域的增材制造市場中建立新的收入來源。

但金屬 3D 打印市場的增速遠不及預期，SLM 的營收持續(xù)低迷。到 2026 財年第三季度，尼康不得不為這筆收購計提 906 億日元的商譽和無形資產(chǎn)減值，這一個數(shù)字就幾乎吞掉了公司全年的利潤。

在光刻機業(yè)務上，尼康目前的策略是固守成熟制程市場，同時嘗試局部反攻。公司正在開發(fā)一款新的 ArF 浸沒式光刻系統(tǒng)，計劃 2028 財年推出，設(shè)計上刻意兼容 ASML 的 TWINSCAN 生態(tài)，降低客戶切換門檻。目標很明確：在 ASML 占據(jù)超過 90% 份額的 ArF 浸沒式市場中搶回一些空間。此外，尼康也在開發(fā)面向先進封裝的無掩膜數(shù)字光刻設(shè)備，試圖在 Chiplet 和玻璃基板封裝等新興領(lǐng)域找到切入點。

但尼康面臨的結(jié)構(gòu)性困境，遠不是一兩款新產(chǎn)品能解決的。SemiVision Research 在 2026 年 3 月的一篇分析中指出了尼康的核心矛盾：它既不是先進制程領(lǐng)域不可或缺的供應商，也不是成熟制程市場中成本最低的玩家。在先進制程那端，ASML 的壟斷地位不可動搖，只要臺積電、三星和英特爾還在推進更小的節(jié)點，ASML 就是必選供應商。

在成熟制程這端，中國正在大規(guī)模擴充 28nm 及以上工藝的產(chǎn)能，國產(chǎn)設(shè)備替代的浪潮正在逐步蠶食尼康賴以生存的客戶基礎(chǔ)。出口管制又讓尼康無法安心把中國當作增長支柱，既面臨合規(guī)風險，又面臨未來被中國國產(chǎn)設(shè)備取代的長期威脅。

馬立稔和留給繼任者的，是一個遠比他接手時更困難的局面。他的前任牛田一雄（Kazuo Ushida）2019 年交棒時，尼康雖然已經(jīng)在先進光刻領(lǐng)域落后 ASML，但至少核心業(yè)務還在盈利，英特爾這個大客戶的訂單也相對穩(wěn)定。而現(xiàn)在，英特爾自身深陷制程轉(zhuǎn)換的泥潭，對尼康光刻機的采購量已經(jīng)大幅下滑。據(jù)報道，尼康光刻機營收中有七到八成曾依賴英特爾一家客戶。英特爾訂單的萎縮，對尼康精機事業(yè)的打擊不亞于任何技術(shù)路線的失敗。

回頭看馬立稔和的整個職業(yè)生涯，他身上濃縮了尼康光刻機業(yè)務的全部矛盾。他入職時，尼康正處在巔峰；他掌管光刻事業(yè)部時，尼康已經(jīng)在浸沒式和 EUV 兩場關(guān)鍵戰(zhàn)役中落敗；他成為 CEO 后，試圖用 SLM 收購打開新局面，結(jié)果又遭遇了一次昂貴的失敗。這不全是一個人的責任，尼康在浸沒式上的遲鈍是整個日本光刻產(chǎn)業(yè)的集體選擇，在 EUV 上的出局更有深刻的地緣政治因素，但馬立稔和作為這家公司光刻基因最深的管理者，確實是這段下墜歷史中最無法回避的名字。

新任 CEO 大村泰弘的背景是光學工程，在尼康的光學工程部門和醫(yī)療健康事業(yè)部都有過管理經(jīng)驗，后來又擔任過 CTO，負責生產(chǎn)技術(shù)。他不是從光刻機業(yè)務線上成長起來的人，這或許是尼康有意為之的選擇。尼康的下一個五年中期計劃（2026 年 4 月至 2031 年 3 月）需要回答的核心問題只有一個：在 ASML 和中國之間，尼康到底還能找到什么樣的生存空間？

圖丨大村泰弘（來源：Nikon）

1980 年代入職尼康的那批工程師，大概從沒想過有一天要回答這種問題。

參考資料：

1.https://tspasemiconductor.substack.com/p/caught-between-asml-and-china-nikon

2.https://www.asianometry.com/p/a-deep-dive-into-immersion-lithography

3.https://www.nikon.com/company/news/2026/20260304_01_e.pdf

4.https://www.nikon.com/company/ir/ir_library/result/pdf/2025/25_1_e.pdf

5.https://www.construction-physics.com/p/how-asml-got-euv

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