半導(dǎo)體行業(yè)再起波瀾，一樁知識產(chǎn)權(quán)訴訟浮出水面，所謂的先進(jìn)技術(shù)又是“偷來的”？

8月13日，國產(chǎn)刻蝕設(shè)備商北京屹唐半導(dǎo)體科技股份有限公司（簡稱“屹唐股份”，股票代碼：688729.SH）正式對外發(fā)布公告，宣布就核心技術(shù)秘密被非法獲取一事，向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟，被告為全球半導(dǎo)體設(shè)備巨頭——應(yīng)用材料公司（Applied Materials, Inc.，簡稱“應(yīng)用材料”）。此次訴訟標(biāo)的金額高達(dá)人民幣9999萬元，引發(fā)業(yè)界廣泛關(guān)注。

值得注意的是，這兩家行業(yè)巨頭之間的法律糾紛并非首次。將時鐘撥回至大約兩年前，應(yīng)用材料公司也曾在美國，對屹唐股份所收購運營的“全資子公司”Mattson提起訴訟。

兩年前的訴訟

2023年6月，有媒體報道顯示，應(yīng)用材料對其中國競爭對手Mattson采取了法律行動，指控該公司參與長達(dá)14個月的竊取寶貴商業(yè)機(jī)密的活動。

應(yīng)用材料指出，Mattson系統(tǒng)性地挖走了應(yīng)用材料公司17名掌握敏感技術(shù)信息的資深工程師。通過這些前員工，Mattson被指控非法獲取了關(guān)鍵的商業(yè)機(jī)密，其中包括涉及泄露的信息包括用于沉積的新型Chamber或反應(yīng)器的 3D 渲染、詳細(xì)尺寸和材料成分，這是芯片制造過程中重復(fù)多次的重要步驟，在該過程中，化學(xué)薄膜沉積在晶圓上以形成多層絕緣和導(dǎo)電材料。應(yīng)用材料表示，已掌握間諜活動的確鑿證據(jù)，并采取法律行動以捍衛(wèi)其知識產(chǎn)權(quán)。

作為回應(yīng)，Mattson公司否認(rèn)了所有指控，認(rèn)為其毫無根據(jù)。其中一名涉案的前應(yīng)用材料公司員工承認(rèn)曾將文件發(fā)送至個人賬戶，但辯稱此舉僅為保留個人成就的“紀(jì)念品”，并無意在新職位上使用或披露這些機(jī)密信息。然而，應(yīng)用材料反駁稱該員工曾有下載數(shù)據(jù)到USB等其他可疑行為。

應(yīng)用材料是全球半導(dǎo)體及顯示設(shè)備制造業(yè)的巨頭，自1967年成立以來，長期處于行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位，并且是最早進(jìn)入中國市場的國際芯片設(shè)備供應(yīng)商。與其形成競爭關(guān)系的Mattson Technology Inc.（MTI）則為全球12英寸晶圓廠客戶提供Dry Strip、Dry Etch、RTP、MSA等設(shè)備及應(yīng)用方案，于1988年成立于美國加州。2016年，屹唐股份完成了對Mattson的私有化收購和運營，使其從美股退市。

值得一提的是，Mattson原為一家美國公司，后被中國北京的屹唐股份完成私有化收購并負(fù)責(zé)運營。這起訴訟也因此成為中美半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)激烈競爭背景下的一個標(biāo)志性法律案件。

屹唐股份的反擊

今年8月13日，屹唐股份正式開啟反擊的號角，訴訟金額高達(dá)人民幣9999萬元。

屹唐股份認(rèn)為應(yīng)用材料非法獲取并使用了其等離子體源及晶圓表面處理相關(guān)的核心技術(shù)秘密，并在中國境內(nèi)以申請專利的方式披露了該技術(shù)秘密，且將該專利申請權(quán)據(jù)為己有，違反了《中華人民共和國反不正當(dāng)競爭法》的規(guī)定，構(gòu)成侵犯商業(yè)秘密的違法行為，對屹唐股份的知識產(chǎn)權(quán)和經(jīng)濟(jì)利益造成嚴(yán)重的損害。

屹唐股份已就該事項向北京知識產(chǎn)權(quán)法院提起訴訟，于近日收到法院出具的《民事案件受理及舉證通知書》等相關(guān)材料，案號為（2025）京73民初908號。截至本公告披露日，該案件已立案，尚未開庭審理。

屹唐股份稱，被告應(yīng)用材料公司招聘了曾在原告全資子公司Mattson的兩名涉案員工。該兩名員工了解公司關(guān)于等離子體的產(chǎn)生和處理方法的核心技術(shù)，熟悉和掌握相關(guān)設(shè)備結(jié)構(gòu)以及技術(shù)工藝。在MTI公司任職期間，兩員工均簽署了保密協(xié)議，對包括涉案技術(shù)秘密在內(nèi)的技術(shù)信息承擔(dān)嚴(yán)格的保密義務(wù)。

證據(jù)顯示，應(yīng)用材料公司招聘該兩名員工入職后，向中國國家知識產(chǎn)權(quán)局提交了一份發(fā)明專利申請，其中主要發(fā)明人即為前述兩名員工，該專利申請披露了原告與MTI公司共同所有的涉案技術(shù)秘密。

被告非法獲取和使用原告的技術(shù)秘密，并在中國境內(nèi)以申請專利的方式披露了該技術(shù)秘密，將該專利申請權(quán)據(jù)為己有。經(jīng)查，被告涉嫌實行將使用涉案技術(shù)秘密的產(chǎn)品向中國境內(nèi)的客戶進(jìn)行推廣銷售的行為，進(jìn)一步造成了對原告商業(yè)秘密權(quán)益的侵害。

誰來捍衛(wèi)創(chuàng)新者的權(quán)益？

在半導(dǎo)體領(lǐng)域，企業(yè)間技術(shù)秘密和專利糾紛并不少見，它們往往涉及核心技術(shù)人員的跳槽、商業(yè)機(jī)密的泄露以及專利權(quán)的歸屬爭議。

就比如，前陣子鬧得沸沸揚揚的臺積電2nm泄露世界，相關(guān)技術(shù)和機(jī)密就泄露疑似泄露給了東京電子（TEL）。緊接著，東京電子也在官方發(fā)布公告，承認(rèn)其中國臺灣子公司1名前員工涉入此案。

核心矛盾在于“人才流動”與“商業(yè)秘密保護(hù)”之間的模糊界限。而現(xiàn)在，半導(dǎo)體行業(yè)的 “知識產(chǎn)權(quán)保衛(wèi)戰(zhàn)” 已悄然打響。

這場訴訟不僅僅是兩家公司之間的糾紛，它在更廣闊的半導(dǎo)體行業(yè)中具有重要的象征意義。

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