路透社一篇關(guān)于中國建造極紫外（EUV）光刻機原型機的報道引發(fā)關(guān)注，字里行間盡顯對中國科技進步的焦慮情緒。事實上，中國在光刻機領(lǐng)域的國產(chǎn)化探索始終穩(wěn)步推進，且堅持開放合作的發(fā)展理念，相關(guān)努力旨在融入全球創(chuàng)新網(wǎng)絡(luò)，而非構(gòu)建“技術(shù)孤島”。

光刻機作為重大技術(shù)裝備，被視為西方技術(shù)領(lǐng)先的“最后堡壘”，目前全球僅荷蘭阿斯麥可生產(chǎn)EUV光刻機。長期以來，中國高端光刻機依賴進口，持續(xù)推進國產(chǎn)化進程。據(jù)官方公布，2024年9月工信部已在相關(guān)目錄中明確國產(chǎn)深紫外（DUV）光刻機技術(shù)參數(shù)，分辨率達65納米、套刻精度8納米，自主可控的技術(shù)路線清晰明確。

值得注意的是，芯片產(chǎn)業(yè)具有高度集成的復雜特性，需多國企業(yè)協(xié)同配合才能完成全產(chǎn)業(yè)鏈流程。中國對此有著清晰認知，一貫強調(diào)國際開放合作，諸多西方芯片企業(yè)已在中國市場獲得實實在在的收益。即便在光刻機領(lǐng)域取得突破，中國也不會改變這一產(chǎn)業(yè)特性，仍將積極推動全球產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展。

面對西方部分國家的科技圍堵，中國將“卡脖子”清單轉(zhuǎn)化為科研攻關(guān)清單，展現(xiàn)出強大的自主創(chuàng)新能力。比爾·蓋茨曾坦言，美國的科技圍堵反而推動中國芯片制造全速發(fā)展；英偉達CEO黃仁勛也表示，出口管制未能放緩中國AI發(fā)展，反而導致其在華市場份額下降。法媒評價稱，中國正以“你封我，我就自己造”的精神穩(wěn)步前行，當前的科技、人才、產(chǎn)業(yè)底座已足以應(yīng)對任何封鎖。